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1. 发明公开

KR1020130020636A 리소그래피 장치, 리소그래피 장치용 지지 테이블 및 디바이스 제조 방법 无效
标题翻译：平面设备，平面设备支持表和设备制造方法
公开(公告)号：KR1020130020636A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：KR1020120090212
申请日：2012-08-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 쿤넨,요한게르트루디스코르넬리스 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 베르스파게트,코엔코르넬리스빌헬무스 , 반데르함,로날드 , 토마스,이보아담요한네스 , 호우벤,마틴 , 로랑,티보시몬마티유 , 코르코란,그레고리마르틴마슨 , 브룩스,루드헨드리쿠스마르티누스요한네스 , 피에터즈,거벤 , 군터,피터르레인요제프 , 레미에,마리누스얀 , 더크스,산더르카타리나레이니어
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/70341 , G03F7/2041 , H01L21/0274 , H01L21/683 , H05B3/68
摘要： PURPOSE: A lithography device, a support table for the lithography device and a method for manufacturing a device are provided to improve the accuracy of a calibration correction data producing process by minimizing the change of a temperature on a support table. CONSTITUTION: The lower side of a substrate is supported on the upper side of a support unit. A conditioning system supplies thermal energy to the support unit and/or removes thermal energy from the support unit. The conditioning system includes a plurality of conditioning units(23) which are independently controlled. Conditioning sections(25) have an aspect ratio of 1 to 2. Each conditioning section corresponds to a section on the upper side of the support unit with 50 to 350% ranges of the substrate in contact with immersion fluid provided by the fluid handling structure.
摘要翻译：目的：提供光刻设备，用于光刻设备的支撑台和用于制造设备的方法，以通过最小化支撑台上的温度变化来提高校准校正数据产生过程的精度。构成：衬底的下侧支撑在支撑单元的上侧。调节系统向支撑单元提供热能和/或从支撑单元去除热能。调节系统包括独立控制的多个调节单元（23）。调节部分（25）具有1至2的纵横比。每个调节部分对应于支撑单元的上侧的部分，其中基底与流体处理结构提供的浸没流体接触的范围为50至350％。

2. 发明授权

KR100861076B1 리소그래피 장치, 제어시스템 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：平面设备，控制系统和设备制造方法
公开(公告)号：KR100861076B1
公开(公告)日：2008-09-30
申请号：KR1020070023943
申请日：2007-03-12
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 반데케르크호프,마르쿠스아드리아누스 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 우이터디예크,탐모 , 랄망,니콜라스알반
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70258 , G03F7/70341 , G03F7/705 , G03F7/70575 , G03F7/706
摘要： 침지 액체의 온도 변동과 연관된 효과를 각각 측정 및/또는 예측하는 측정시스템 또는 예측시스템, 및 상기 측정시스템 및/또는 예측시스템에 의하여 각각 얻어지는 측정치 및/또는 예측치를 기초로 하여 상기 침지 액체의 온도와 연관된 상기 효과 또는 또 다른 효과를 제어하는 제어시스템을 구비한 침지 리소그래피 장치가 개시되어 있다. 또한, 연관된 제어시스템 및 디바이스 제조방법이 개시되어 있다.

3. 发明公开

KR1020060133917A 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020060133917A
公开(公告)日：2006-12-27
申请号：KR1020060055587
申请日：2006-06-20
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 텐카테,니콜라스 , 렌더스,마르티누스헨드리쿠스안토니우스 , 루프스트라,에릭로엘로프 , 베어하겐,마르티누스코르넬리스마리아 , 붐,헤어만 , 얀센,플란시스쿠스요한네스요제프 , 보우콤스,이고르페트루스마리아 , 켐퍼,니콜라스루돌프 , 오텐스,유스트예뢴 , 쾨크,위셀 , 반에스,요한네스
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , G03F7/2041 , H01L21/67248
摘要： A lithographic apparatus and a method for manufacturing device are provided to improve efficiency of a net energy reduction by using a liquid confinement system arranged between a substrate to be patterned and a projection system. A liquid supply system is configured to at least partly fill a space between a projection system(PS) and a substrate(W) with liquid. A liquid confinement structure is arranged to at least partially contain the liquid within the space. A substrate table displacement system is arranged to move a substrate table(WT) along a path relative to the liquid confinement structure, thereby to move a target portion(C) over a surface of the substrate. A timetable comprises positions and timings of a substrate displacement system at which the substrate is likely to be undergoing localized cooling. A liquid evaporation and condensation controller is arranged to control a net rate of energy lost through evaporation or condensation of the liquid supplied by the liquid supply system by synchronizing evaporation or condensation controlling techniques with a timetable.
摘要翻译：提供光刻设备和制造器件的方法，以通过使用布置在待图案化基板和投影系统之间的液体限制系统来提高净能量减少的效率。液体供应系统构造成至少部分地用液体填充投影系统（PS）和基底（W）之间的空间。液体限制结构布置成至少部分地容纳空间内的液体。衬底台位移系统被布置成沿着相对于液体限制结构的路径移动衬底台（WT），从而将目标部分（C）移动到衬底的表面上。时间表包括衬底位移系统的位置和定时，在衬底位移系统处衬底很可能经历局部冷却。液体蒸发和冷凝控制器被布置成通过使蒸发或冷凝控制技术与时间表同步来控制通过由液体供应系统供应的液体的蒸发或冷凝而损失的净能量的净速率。

5. 发明公开

KR1020090112604A 리소그래피 장치 및 리소그래피 장치를 작동시키는 방법 有权
标题翻译：平面设备和操作设备的方法
公开(公告)号：KR1020090112604A
公开(公告)日：2009-10-28
申请号：KR1020090036247
申请日：2009-04-24
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 와트소,로버트더글라스 , 반돔멜렌,유리요한네스로렌티우스마리아 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 얀센,한스 , 렌더스,마르티누스헨드리쿠스안토니우스 , 메르텐스,예뢴요한네스소피아마리아 , 슈타이야에르트,페터파울 , 데종,안토니우스마르티누스코르넬리스페트루스 , 반데빈켈,지미마테우스빌헬무스 , 다파즈세나,조앙파울로 , 반데르리,마우리스마르티누스요한네스 , 반리에르,헨리쿠스마르티누스도로테우스 , 타나사,게오르게
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925 , G03F7/70808 , G03F7/70916
摘要： PURPOSE: A lithographic apparatus and a method of operating the apparatus are provided to reduce or minimize the error because of positioning the liquid supplying system at a certain position. CONSTITUTION: A lithographic apparatus comprises an inlet port, and a liquid seal. The inlet port is to bring in the cleaning fluid into the whole or the washed surface. The liquid seal is to seal the whole or the portion surrounding of the space hermetically to prevent entry of the fluid into the space.
摘要翻译：目的：提供一种光刻设备和操作该设备的方法，以便通过将液体供应系统定位在特定位置来减小或最小化误差。构成：光刻设备包括入口和液体密封。入口是将清洁液引入整个或洗涤的表面。液体密封是密封空间的整个或周围的部分，以防止流体进入空间。

6. 发明授权

KR100772158B1 리소그래피 장치, 디바이스 제조방법 및 이에 의해 제조된디바이스 有权
标题翻译：平版印刷装置，装置制造方法及制造装置
公开(公告)号：KR100772158B1
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：KR1020060028667
申请日：2006-03-29
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 바니네,바딤예프겐예비치 , 브류스터,배리두들리 , 이바노프,블라디미르비탈레비치 , 메르텐스,바스티안마티아스 , 무어스,요한네스후베르투스요제피나 , 리브세이,로버트고든 , 볼슈리옌,바스티안테오도르
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70933 , G03F7/70908
摘要： 리소그래피 투영장치는:
ㆍ 방사선 투영빔을 공급하는 방사선 시스템;
ㆍ 마스크를 잡아주는 마스크테이블;
ㆍ 기판을 잡아주는 기판테이블;
ㆍ 상기 마스크의 조사된 부분을 상기 기판의 타겟부상으로 이미징하는 투영시스템을 포함하고,
a) 상기 투영시스템은, 적어도 부분적으로 비워질 수 있고 채용된 방사선이 상기 기판테이블을 향하여 지향되는 솔리드 표면(solid surface)에 의하여 투영시스템의 배치시 경계가 결정되는(delimit) 개입 공간(intervene space)에 의하여 기판테이블로부터 분리되고;
b) 상기 개입 공간은 상기 솔리드 표면과 상기 기판테이블 사이에 배치되고 상기 방사선의 경로 주위에 위치되는 중공 튜브를 포함하고, 상기 튜브의 형태 및 크기는 상기 투영시스템에 의해 상기 기판테이블상으로 포커싱되는 방사선이 상기 중공 튜브의 벽을 가로막지하지 않도록 되어 있으며;
c) 상기 중공 튜브의 내측을 가스의 유동으로 연속적으로 플러싱하기 위한 수단들이 제공되며,
상기 가스는 수소, 헬륨, 듀터레이트(deuterated) 수소, 듀테륨(deuterium) 또는 아르곤과 수소의 혼합물이고, 상기 가스의 유동은 상기 기판으로부터의 오염 물들의 유동에 대향되고, 및/또는 상기 중공 튜브는 개입 공간과 유체적으로 연통되어 있다.
摘要翻译：一种光刻投影设备，包括：用于提供辐射的投影光束（PB）的辐射系统; ¢一个带有用于保持面罩（MA）的面罩座的面罩台; 设置有用于保持衬底（W）的衬底保持器的衬底台（WT）; 一种投影系统（PS），用于将所述掩模的照射部分成像到所述基板的目标部分上，由此：a）所述投影系统通过中间空间（L）与所述基板台分离，所述中间空间（L）可以至少部分地抽真空，并且在投影系统的位置处被固定表面限定，所用的辐射从该表面朝向基板台; b）中间空间包含位于固体表面和基片台之间并位于辐射路径周围的中空管（E 1，E 2），管的形状和尺寸使得由投影系统聚焦的辐射在基板台上不会拦截中空管的壁; c）提供装置（FU），用于以气体（G）流连续冲洗中空管的内部，其中气体是氢气，氦气，氘代氢气，氘气或氩气和氢气的混合物，以及气体与来自衬底的污染物流相对和/或中空管与中间空间流体连通。

7. 发明授权

KR101671787B1 지지 장치, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：支持设备平台设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR101671787B1
公开(公告)日：2016-11-02
申请号：KR1020147036615
申请日：2013-05-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 돈더스,쇼에르트니콜라스람베르투스 , 피엔,메노 , 후겐담,크리스티안알렉산더 , 호우벤,마틴 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 코에보에츠,아드리아누스헨드릭 , 라파레,레이몬드빌헬무스루이스 , 오베르캄프,짐빈센트 , 텐카테,니콜라스 , 베스터라켄,얀스티븐크리스티안 , 데그루트,안토니우스프란시스쿠스요한네스 , 반베이넘,마르텐
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733
摘要： 리소그래피장치에대한지지장치(60)는대상물홀더및 대상물홀더의반경방향바깥쪽에있는추출몸체(65)를포함한다. 대상물홀더는대상물(W)을지지하도록구성된다. 추출몸체는지지장치의최상면으로부터유체를추출하도록구성된추출개구부(66)를포함한다. 추출몸체는추출몸체가실질적으로대상물홀더로부터디커플링되도록대상물홀더로부터이격된다. 추출몸체는대상물홀더를둘러싸도록구성된돌출부(30)를포함하여, 사용시 액체층(32)이돌출부상에유지되고대상물홀더상에지지된대상물과접촉하도록한다.
摘要翻译：用于光刻设备的支撑设备具有物体保持器和物体保持器径向外侧的提取体。对象持有者被配置为支持对象。提取体包括提取开口，其构造成从支撑装置的顶表面提取流体。提取体与物体保持器间隔开，使得提取体基本上与物体保持器分离。提取体包括突出部，其被构造为使得其围绕物体保持器并且使得在使用中，一层液体保持在突出部上并与被支撑在物体保持器上的物体接触。

8. 发明公开

KR1020150023506A 지지 장치, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：支持设备，平面设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR1020150023506A
公开(公告)日：2015-03-05
申请号：KR1020147036615
申请日：2013-05-17
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 돈더스,쇼에르트니콜라스람베르투스 , 피엔,메노 , 후겐담,크리스티안알렉산더 , 호우벤,마틴 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 코에보에츠,아드리아누스헨드릭 , 라파레,레이몬드빌헬무스루이스 , 오베르캄프,짐빈센트 , 텐카테,니콜라스 , 베스터라켄,얀스티븐크리스티안 , 데그루트,안토니우스프란시스쿠스요한네스 , 반베이넘,마르텐
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/683
CPC分类号： G03F7/70716 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70733 , H01L21/0274 , H01L21/683
摘要： 리소그래피 장치에 대한 지지 장치(60)는 대상물 홀더 및 대상물 홀더의 반경방향 바깥쪽에 있는 추출 몸체(65)를 포함한다. 대상물 홀더는 대상물(W)을 지지하도록 구성된다. 추출 몸체는 지지 장치의 최상면으로부터 유체를 추출하도록 구성된 추출 개구부(66)를 포함한다. 추출 몸체는 추출 몸체가 실질적으로 대상물 홀더로부터 디커플링되도록 대상물 홀더로부터 이격된다. 추출 몸체는 대상물 홀더를 둘러싸도록 구성된 돌출부(30)를 포함하여, 사용 시 액체 층(32)이 돌출부 상에 유지되고 대상물 홀더 상에 지지된 대상물과 접촉하도록 한다.
摘要翻译：用于光刻设备的支撑设备具有物体保持器和物体保持器径向外侧的提取体。对象持有者被配置为支持对象。提取体包括提取开口，其构造成从支撑装置的顶表面提取流体。提取体与物体保持器间隔开，使得提取体基本上与物体保持器分离。提取体包括突出部，其被构造为使得其围绕物体保持器并且使得在使用中，一层液体保持在突出部上并与被支撑在物体保持器上的物体接触。

9. 发明公开

KR1020110073393A 리소그래피 장치 및 리소그래피 장치를 작동시키는 방법 有权
标题翻译：平面设备和操作设备的方法
公开(公告)号：KR1020110073393A
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：KR1020110043570
申请日：2011-05-09
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 와트소,로버트더글라스 , 반돔멜렌,유리요한네스로렌티우스마리아 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 얀센,한스 , 렌더스,마르티누스헨드리쿠스안토니우스 , 메르텐스,예뢴요한네스소피아마리아 , 슈타이야에르트,페터파울 , 데종,안토니우스마르티누스코르넬리스페트루스 , 반데빈켈,지미마테우스빌헬무스 , 다파즈세나,조앙파울로 , 반데르리,마우리스마르티누스요한네스 , 반리에르,헨리쿠스마르티누스도로테우스 , 타나사,게오르게
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70925 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A lithographic apparatus and a method for operating the lithographic apparatus are provided to locate a liquid supply system at a specific location on a substrate table for a long time, thereby reducing error. CONSTITUTION: A substrate table supports a substrate(W). A fluid handling structure provides liquid to a space between the fluid handling structure and a projection system(PS) or the substrate table. The substrate table comprises a thermally isolated area. The thermally isolated area is located at a location next to the edge of the substrate table which passes the lower part of the fluid handling structure while the substrate table moves from the lower part of the projection system.
摘要翻译：目的：提供一种用于操作光刻设备的光刻设备和方法，用于将液体供应系统定位在衬底台上的特定位置长时间，从而减少误差。构成：衬底台支撑衬底（W）。流体处理结构向液体处理结构和投影系统（PS）或衬底台之间的空间提供液体。衬底台包括热隔离区域。热隔离区域位于靠近流体处理结构的下部的基板台边缘的位置，同时基板台从投影系统的下部移动。

10. 发明公开

KR1020100033515A 클램핑 디바이스 및 대상물 로딩 방법 有权
标题翻译：夹紧装置和对象装载方法
公开(公告)号：KR1020100033515A
公开(公告)日：2010-03-30
申请号：KR1020107001400
申请日：2008-06-20
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 콤펜,레네테오도루스페트루스 , 야콥스,요한네스헨리쿠스빌헬무스 , 렌더스,마르티누스헨드리쿠스안토니우스 , 오텐스,유스트예뢴 , 스메츠,마르틴프란스피에르
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/6831 , G03F7/707 , G03F7/70783 , H01L21/6838 , H01L21/68714 , H01L21/0277
摘要： The present invention relates to a c lamping device configured to clamp an object (20, 120) on a support (1, 101). The clamping device comprises: a first device configured to force the object and the support away from each other using a first force, and a second device configured to force the object and the support towards each other using a second force. The first device and second device are configured to simultaneously exert the first force and the second force respectively to shape the object to a desired shape before completing the clamping of the object on the support.
摘要翻译：本发明涉及一种构造成将物体（20,120）夹持在支撑件（1,101）上的梳理装置。夹紧装置包括：第一装置，其被配置为使用第一力将物体和支撑件彼此远离;以及第二装置，其被配置为使用第二力将物体和支撑件朝向彼此强制。第一装置和第二装置构造成在完成将物体夹持在支撑件上之前分别同时施加第一力和第二力以将物体成形为期望的形状。

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