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1. 发明授权

KR101289600B1 금속 산화물 분말의 제조 방법 有权
标题翻译：用于生产金属氧化物粉末的方法
公开(公告)号：KR101289600B1
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：KR1020050117924
申请日：2005-12-06
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 카투시크,스티판 , 크레메르,미카엘 , 크뢸,미카엘 , 크레쓰,페터 , 스타아프,에드빈
IPC分类号： C01G1/02 , C01F7/02 , C01F17/00 , C01G49/02
CPC分类号： B01J23/10 , B01J37/082 , B82Y30/00 , C01B13/20 , C01B13/34 , C01F17/0043 , C01G1/02 , C01G25/00 , C01G25/02 , C01P2004/50 , C01P2004/52 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/80 , C01P2006/90 , C09G1/02 , Y10T428/2982
摘要： 본 발명에 의하면,
액체 형태 내 또는 용액 내의 1 종 이상의 출발 물질과 1 종 이상의 분무화 기체를 다부품 노즐에 의해 분무화함으로써 획득되고,
부피-연관 평균 방울 직경 D
30 은 30 내지 100 ㎛이며,
100 ㎛보다 큰 방울의 수는 방울의 총 수를 기준으로 10% 이하인 에어로졸을,
700℃를 넘는 반응 온도의 반응 공간에서 산소와 반응시킨 후, 생성된 분말을 기체 물질로부터 분리함으로써, 20 m
2 /g 이상의 BET 표면적을 갖는 금속 산화물 분말을 제조하는 방법이 제공된다.
이 방법에 의해 획득가능한 금속 산화물 분말이 제공된다.
금속 산화물 분말, 분무화, BET 표면적

2. 发明授权

KR101097506B1 산화세륨 및 콜로이드 이산화규소를 포함하는 분산액 失效
标题翻译：包含氧化铈和二氧化硅二氧化硅的分散体
公开(公告)号：KR101097506B1
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：KR1020097017354
申请日：2007-11-09
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 크뢸,미카엘 , 헤베러,슈테판 , 다우트,카타리나
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
摘要： 산화세륨입자및 콜로이드이산화규소입자를포함하는분산액을개시한다.

3. 发明公开

KR1020070120612A 산화세륨 수분산액 有权
标题翻译：水氧化铈分散体
公开(公告)号：KR1020070120612A
公开(公告)日：2007-12-24
申请号：KR1020077026398
申请日：2006-03-08
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 크뢸,미카엘 , 헤베러,스테판 , 카투지크,스티판 , 크라머,미카엘 , 로르츠,볼프강
IPC分类号： C09G1/02 , C01F17/00 , H01L21/3105 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , H01L21/31053
摘要： Aqueous cerium oxide dispersion Aqueous cerium oxide dispersion, containing 5 to 60% by weight cerium oxide. It can be used to polish SiO2 in the semiconductor industry.
摘要翻译：二氧化铈水分散体含有5〜60重量％的氧化铈的二氧化铈水分散液。它可用于在半导体工业中抛光SiO2。

4. 发明授权

KR100918722B1 산화세륨 수분산액 有权
标题翻译：水氧化铈分散体
公开(公告)号：KR100918722B1
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：KR1020077026398
申请日：2006-03-08
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 크뢸,미카엘 , 헤베러,스테판 , 카투지크,스티판 , 크라머,미카엘 , 로르츠,볼프강
IPC分类号： C09G1/02 , C01F17/00 , H01L21/3105 , C09K3/14
CPC分类号： C09K3/1463 , C09G1/02 , H01L21/31053
摘要： 본 발명은 산화세륨 5 내지 60 중량%를 함유하는 산화세륨 수분산액에 관한 것이다. 본 발명의 산화세륨 수분산액은 반도체 산업에서의 SiO
2 연마에 사용될 수 있다.
산화세륨, 수분산액, 반도체, 연마, CMP

5. 发明公开

KR1020070122571A 세리아-함유 지지체 상의 금촉매 无效
标题翻译：关于包含支持的金奖
公开(公告)号：KR1020070122571A
公开(公告)日：2007-12-31
申请号：KR1020077026960
申请日：2006-04-18
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 크뢸,미카엘 , 카투시크,스티판 , 크래머,미카엘 , 청,제리치-유 , 천,유-원
IPC分类号： B01J23/52 , B01J23/63 , B01J35/00
CPC分类号： B01J23/52 , B01D53/864 , B01D2255/106 , B01D2255/206 , B01D2255/2073 , B01D2257/502 , B01J23/63 , B01J23/688 , B01J35/0013 , B01J35/023 , B01J35/1014 , B01J35/1019 , B01J37/0205 , B01J37/0207
摘要： Goldcatalyst Goldcatalyst comprising gold on a support of ceria or ceria-manganese oxide is used for the oxidation of CO in a H2 stream.
摘要翻译：金催化剂在二氧化铈或二氧化铈 - 氧化锰载体上包含金的金催化剂用于在H2流中氧化CO。

6. 发明公开

KR1020060089615A 금속 산화물 분말의 제조 방법 有权
标题翻译：用于生产金属氧化物粉末的方法
公开(公告)号：KR1020060089615A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：KR1020050117924
申请日：2005-12-06
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 카투시크,스티판 , 크레메르,미카엘 , 크뢸,미카엘 , 크레쓰,페터 , 스타아프,에드빈
IPC分类号： C01G1/02 , C01F7/02 , C01F17/00 , C01G49/02
CPC分类号： B01J23/10 , B01J37/082 , B82Y30/00 , C01B13/20 , C01B13/34 , C01F17/0043 , C01G1/02 , C01G25/00 , C01G25/02 , C01P2004/50 , C01P2004/52 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/80 , C01P2006/90 , C09G1/02 , Y10T428/2982
摘要： 본 발명에 의하면,
액체 형태 내 또는 용액 내의 1 종 이상의 출발 물질과 1 종 이상의 분무화 기체를 다부품 노즐에 의해 분무화함으로써 획득되고,
부피-연관 평균 방울 직경 D
30 은 30 내지 100 ㎛이며,
100 ㎛보다 큰 방울의 수는 방울의 총 수를 기준으로 10% 이하인 에어로졸을,
700℃를 넘는 반응 온도의 반응 공간에서 산소와 반응시킨 후, 생성된 분말을 기체 물질로부터 분리함으로써, 20 m
2 /g 이상의 BET 표면적을 갖는 금속 산화물 분말을 제조하는 방법이 제공된다.
이 방법에 의해 획득가능한 금속 산화물 분말이 제공된다.
금속 산화물 분말, 분무화, BET 표면적

7. 发明公开

KR1020160064989A UV 방사선으로부터 산업적 물질의 보호를 위한 규소-함유 입자의 용도 无效
标题翻译：使用含硅颗粒保护紫外线辐射下的工业材料
公开(公告)号：KR1020160064989A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020150165135
申请日：2015-11-25
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 랑,위르겐에르빈 , 크뢸,미카엘 , 윌렌브룩,고스빈
IPC分类号： G02B5/22
CPC分类号： C09D5/03 , A61K8/25 , C01B33/029 , C08K3/34 , C08K3/36
摘要： 본발명은, UV 범위및 임의로는가시광과 IR 범위까지의전자기방사선으로부터의산업적물질, 예컨대전기광학층 또는전기광학부품의보호를위한규소-함유입자의용도에관한것이며, 여기서입자는 1 내지 100 nm 범위의입자크기를갖는 1차입자의형태를갖고, 임의로는 1차입자의클러스터의형태를가질수 있다. 본발명에따른용도의특별한이점은, 전자기방사선의흡수를입자크기및 입자크기분포에의해한정된방식으로관심있는흡수되는파장영역에매칭시키는가능성이다. 규소-함유입자는, 산업적응용물및 산업적응용물을위한조성물에서제제로서, 예컨대바람직하게는코팅조성물, 예컨대도료에서생체적합성및 생분해성 UV 차단제로서사용될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及含硅颗粒用于保护诸如电光层或电光部件的工业材料从包括一定范围的UV和随机的可见光范围到IR的电磁辐射的用途。这里，颗粒可以具有粒径为1-100nm的一次粒子的形式，并且随机地形成一次粒子簇的形式。根据本发明的用途可以具有使电磁辐射吸收与目标波长区域匹配的可能性，通过粒度和粒度分布以有限的方式被吸收。含硅颗粒可用作工业应用材料中的试剂，以及用于工业涂覆材料的组合物，例如涂料中的涂料组合物，期望的或生物相容的和可生物降解的UV阻挡剂。

8. 发明公开

KR1020160064987A UV 방사선으로부터의 보호를 위한 규소-함유 입자의 용도, 그의 제조 방법 및 그를 포함하는 제제 无效
标题翻译：使用含有紫外线辐射保护的含硅颗粒，其生产工艺及其包含的方法
公开(公告)号：KR1020160064987A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：KR1020150165132
申请日：2015-11-25
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 랑,위르겐에르빈 , 크뢸,미카엘 , 윌렌브룩,고스빈
IPC分类号： A61K8/25 , A61K31/695 , A61Q17/04 , A61K8/02 , A61K9/10 , A61K9/107 , A61K9/06
CPC分类号： A61K8/25 , A61K8/0245 , A61K8/23 , A61K2800/26 , A61K2800/262 , A61K2800/413 , A61K2800/805 , A61Q17/00 , A61Q17/04 , C01B33/027 , C01P2002/60 , C01P2004/50 , C01P2004/64
摘要： 본발명은, UV 범위및 임의로는가시광과 IR 범위까지의전자기방사선으로부터의인간세포의보호를위한규소-함유입자의용도에관한것이며, 여기서입자는바람직하게는 5 내지 100 nm 범위의입자크기를갖는 1차입자의클러스터형태를갖는다. 본발명에따른용도의특별한이점은, 전자기방사선의흡수를입자크기에의해한정된방식으로흡수되는파장영역에매칭시키는가능성이다. 규소-함유입자는, 화장품또는의료용제제, 예컨대바람직하게는선스크린에서, 또는모발의 UV 차단용화장품제제에서생체적합성및 생분해성 UV 차단제로서사용될수 있다.
摘要翻译：本发明涉及含硅颗粒在紫外线范围内以及任选地在可见光范围内保护人类细胞免受电磁辐射的用途，其中颗粒优选是颗粒尺寸在范围为5至100nm。可以匹配根据粒径的有限方法吸收电磁辐射的波长范围。含硅颗粒可用作化妆品或药物的制剂，优选用作防晒剂中的生物相容性和生物可降解的UV阻断剂或用于头发中UV保护的化妆品制剂。

9. 发明公开

KR1020090122932A 산화세륨 및 콜로이드 이산화규소를 포함하는 분산액 失效
标题翻译：包含氧化铈和二氧化硅二氧化硅的分散体
公开(公告)号：KR1020090122932A
公开(公告)日：2009-12-01
申请号：KR1020097017354
申请日：2007-11-09
申请人： 에보니크 데구사 게엠베하
发明人： 크뢸,미카엘 , 헤베러,슈테판 , 다우트,카타리나
IPC分类号： C09K3/14 , C09G1/02
CPC分类号： H01L21/31053 , C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1463
摘要： A dispersion comprising cerium oxide particles and colloidal silicon dioxide particles, where-the zeta potential of the silicon dioxide particles is negative and that of the cerium oxide particles is positive or equal to zero, and the zeta potential of the dispersion is negative overall, and-the mean particle diameter of the cerium oxide particles is not more than 200 nm and that of the silicon dioxide particles is not more than 100 nm, the mean particle diameter of the cerium oxide particles being greater than that of the silicon dioxide particles-the cerium oxide/silicon dioxide weight ratio is from 1.1:1 to 100:1 and-the pH of the dispersion is from 7.5 to 10.5.
摘要翻译：包含氧化铈颗粒和胶态二氧化硅颗粒的分散体，其中二氧化硅颗粒的ζ电位为负，氧化铈颗粒的ζ电位为正或等于零，并且分散体的ζ电位总体为负， - 氧化铈颗粒的平均粒径不大于200nm，二氧化硅颗粒的平均粒径不大于100nm，氧化铈颗粒的平均粒径大于二氧化硅颗粒的平均粒径 - 二氧化铈/二氧化硅的重量比为1.1:1〜100:1，分散体的pH为7.5〜10.5。

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