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1. 发明公开

KR1020110132284A 유리 기판의 연마 방법 및 연마 장치 无效
标题翻译：玻璃基板的抛光方法和玻璃基板的抛光装置
公开(公告)号：KR1020110132284A
公开(公告)日：2011-12-07
申请号：KR1020110052623
申请日：2011-06-01
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 고구레유지 , 이시마루나오히꼬 , 기야마아쯔시 , 고찌다쯔로
IPC分类号： B24B37/00 , B24B7/24 , B24B55/02 , H01L21/304
CPC分类号： B24B7/244 , B24B41/068
摘要： PURPOSE: A glass substrate polishing method and a polishing device thereof are provided to prevent the pollution of a rim portion of a non polishing surface due to the polishing solution. CONSTITUTION: A glass substrate(G) polishing method comprises the following steps. The dry preventive solution is sprayed to the table section(12) in which the entire area of a non polishing surface is sucked and fixed from a first nozzle to a table. The buffer solution is sprayed about the table in the section in which the rim portion of the non polishing surface is absorbed from a second nozzle. The entire section of the non polishing surface is absorbed and fixed through the dry preventive solution in the table. The rim part of the non polishing surface is absorbed and fixed through the buffer solution in the table. The polishing liquid is provided to the polishing surface. The polishing surface is polished with a polishing jig.
摘要翻译：目的：提供一种玻璃基板研磨方法及其研磨装置，以防止因研磨液而导致的非研磨面的边缘部分的污染。构成：玻璃基板（G）抛光方法包括以下步骤。将防干燥溶液喷射到非抛光表面的整个区域从第一喷嘴吸入并固定到工作台的工作台部分（12）。缓冲溶液在非抛光表面的边缘部分从第二喷嘴吸收的部分中围绕桌子喷雾。非抛光表面的整个部分通过表中的防干燥溶液进行吸收和固定。非抛光表面的边缘部分被吸收并通过桌子中的缓冲溶液固定。抛光液体被提供到抛光表面。抛光表面用抛光夹具抛光。

2. 发明公开

KR1020120023741A 판 형상체의 연마 방법 有权
标题翻译：研磨板状体的方法
公开(公告)号：KR1020120023741A
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：KR1020117028925
申请日：2010-06-01
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 고찌다쯔로 , 기야마아쯔시
IPC分类号： B24B47/12 , B24B7/24 , B24B29/00 , B24B47/16
CPC分类号： B24B7/245 , B24B29/00 , B24B47/16
摘要： 본 발명은 판 형상체를 소정의 방향으로 이동시키면서, 자전하는 연마구에 의해 판 형상체를 연마하는 판 형상체 연마 방법에 있어서, 상기 연마구의 자전 방향을 소정의 타이밍에 반전시킨다.

3. 发明公开

KR1020120115272A 판상물의 연마 방법 및 연마 장치 无效
标题翻译：抛光板状材料的方法与装置
公开(公告)号：KR1020120115272A
公开(公告)日：2012-10-17
申请号：KR1020127015688
申请日：2010-12-15
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 이시마루나오히꼬 , 기야마아쯔시 , 고찌다쯔로
IPC分类号： B24B7/06 , B24B7/24 , B24B27/033 , B24B29/00
CPC分类号： B24B7/06 , B24B7/244
摘要： 유리판(G)의 피연마면 상의 표면 결점(17)의 발생 상황에 영향받지 않고 연마 공정의 가동 효율을 개선한다. 테이블(2) 상에 흡착 시트(3)에 흡착된 유리판(G)의 표면 결점(17)에 대해서, 그의 면 내의 Y축 방향에서의 분포 상태를 미리 검사하고, 표면 결점(17)이 적은 영역인 연마 레인(L
A )보다 표면 결점(17)이 보다 많이 존재하는 영역인 연마 레인(L
B )에 유리판(G)의 표면을 연마하는 연마 헤드(5)를 많이 배치하고, X축 방향으로 유리판(G)을 이동시켜서, 그의 표면을 연마하는 연마 방법을 제공한다.

4. 发明授权

KR101616595B1 판 형상체의 연마 방법 有权
标题翻译：研磨板状体的方法
公开(公告)号：KR101616595B1
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：KR1020117028925
申请日：2010-06-01
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 고찌다쯔로 , 기야마아쯔시
IPC分类号： B24B47/12 , B24B7/24 , B24B29/00 , B24B47/16
CPC分类号： B24B7/245 , B24B29/00 , B24B47/16
摘要： 본발명은판 형상체를소정의방향으로이동시키면서, 자전하는연마구에의해판 형상체를연마하는판 형상체연마방법에있어서, 상기연마구의자전방향을소정의타이밍에반전시킨다.

5. 发明公开

KR1020110125615A 연마 패드 및 연마 패드를 사용한 연마 장치 无效
标题翻译：抛光垫和抛光装置使用抛光垫
公开(公告)号：KR1020110125615A
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：KR1020110044912
申请日：2011-05-13
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 기야마아쯔시 , 고찌다쯔로
IPC分类号： B24B7/24 , B24D7/02 , B24B37/04
CPC分类号： B24B7/245 , B24B47/10 , B24B55/02
摘要： PURPOSE: A grinding pad and a grinding device using the grinding pad are provided to enhance the flatness of the ground surface of a glass plate by making the grinding surface of the grinding pad uniform by improving the circulation of slurry. CONSTITUTION: A grinding pad(10) for grinding a glass plate comprises a first slurry supply hole(14). The slurry supply hole supplies slurry to between the grinding surface(10A) of the grinding pad and the ground surface(1A) of a glass plate(1). The first slurry supply hole pass through the grinding pad on the central part of the grinding surface. The grinding surface is radially divided by a plurality of grooves formed outward from the central part.
摘要翻译：目的：提供研磨垫和使用研磨垫的研磨装置，以通过改善浆料的循环使研磨垫的研磨表面均匀来提高玻璃板的研磨面的平整度。构成：用于研磨玻璃板的研磨垫（10）包括第一浆料供给孔（14）。浆料供给孔将砂浆供给到研磨垫的研磨面（10A）与玻璃板（1）的接地面（1A）之间。第一浆料供应孔穿过研磨表面中心部分的研磨垫。磨削表面由从中心部分向外形成的多个槽径向分开。

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