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1. 发明授权

KR101295017B1 방사성 오염된 표면의 제염 방법 有权
标题翻译：去除放射性污染表面的方法
公开(公告)号：KR101295017B1
公开(公告)日：2013-08-09
申请号：KR1020117021724
申请日：2010-02-17
申请人： 아레바 게엠베하
发明人： 가쎈,라이너 , 셈페레벨다,루이스 , 슈바이그호퍼,베르너 , 자일러,베르트람
IPC分类号： G21F9/28 , G21F9/30
CPC分类号： G21F9/001 , G21F9/004 , G21F9/28 , G21F9/30
摘要： 본 발명은 금속 부품의 표면을 화학적으로 제염하는 방법에 관한 것으로, 여기에서 제 1 처리 단계에서, 상기 부품 물질의 부식에 의해 상기 부품 상에 형성되는 산화층이 유기 제염 산을 함유하는 제 1 수용성 처리 용액 및 그 후의 제 2 처리 단계에 의해 상기 부품의 표면으로부터 제거되며, 상기 산화층이 일부 또는 전부 없는 상기 표면이 상기 표면에 점착된 입자들의 제거를 위해 활성 성분을 함유하는 수용액으로 처리된다. 상기 활성 성분은 술폰산, 포스폰산, 카복실산 및 이들 산의 염들로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 음이온 계면활성제로 이루어진다.

2. 发明公开

KR1020170088359A 기사용 수지 재료로부터 방사성 핵종을 회수하기 위한 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：从基础树脂材料中回收放射性核素的方法和设备
公开(公告)号：KR1020170088359A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：KR1020177014922
申请日：2014-11-19
申请人： 아레바 게엠베하
发明人： 스트로머,프란쯔 , 셈페레벨다,루이스
IPC分类号： G21F9/28 , G21F9/30 , B01J49/60
CPC分类号： G21F9/307 , B01J49/53 , B01J49/57 , B01J49/60 , G21F9/28
摘要： 원자력발전소의기사용폐수지(spent waste resin)로부터방사성동위원소를회수하는방법은: a) 유기산으로또는염기성화합물로, 적어도하나의방사성동위원소가로딩된(loaded) 폐수지를처리하여, 상기기사용폐수지로부터상기적어도하나의방사성동위원소를릴리스시키고상기적어도하나의방사성동위원소를함유하는처리액을얻는단계; b) 상기방사성동위원소에특정되는반응을통해상기처리액으로부터상기적어도하나의방사성동위원소를분리하여상기적어도하나의방사성동위원소가감손된(depleted) 처리액을얻는단계 - 상기감손된처리액은상기유기산또는상기염기성화합물그리고선택적으로, 반응되지않은(non-reacted) 방사성동위원소를포함함 - ; c) 원위치(in situ) 산화에의해단계 b)로부터의상기감손된처리액의상기유기산또는염기성화합물을반응시켜, 물을공급하고기체반응산물을형성하는단계; 및 d) 단계 c)로부터의반응된상기처리액을단계 a)의처리된상기폐수지를통해통과시켜서반응되지않은방사성동위원소를상기폐수지에리로딩하는(reload) 단계를포함한다. 또한, 상기방법을수행하는장치가제공된다.
摘要翻译：用于回收从使用核电站（废废合成树脂）的废水造纸机放射性同位素的方法是：a）或碱性化合物，有机酸，与是否所述至少一个放射性同位素加载（加载）废水，机器的处理从废废纸中释放至少一种放射性同位素并获得含有至少一种放射性同位素的处理液; b）获得通过上述指定以及至少一个放射性同位素耗尽（耗尽）处理液的放射性同位素，其特征在于所述研磨处理液的反应的分离从处理液的所述至少一个放射性同位素的步骤硅烷有机酸或所述碱性化合物和任选的未反应的放射性同位素; c）使来自步骤b）的所述降解处理液体的所述有机酸或碱性化合物通过原位氧化反应形成水并提供气态反应产物; 和d）将来自步骤c）的反应后的处理液通过步骤a）的处理后的废纸，以将未反应的放射性同位素重新加载到废纸中。还提供了用于执行上述方法的设备。

3. 发明公开

KR1020110118726A 방사성 오염된 표면의 제염 방법 有权
标题翻译：去除放射性污染表面的方法
公开(公告)号：KR1020110118726A
公开(公告)日：2011-10-31
申请号：KR1020117021724
申请日：2010-02-17
申请人： 아레바 게엠베하
发明人： 가쎈,라이너 , 셈페레벨다,루이스 , 슈바이그호퍼,베르너 , 자일러,베르트람
IPC分类号： G21F9/28 , G21F9/30
CPC分类号： G21F9/001 , G21F9/004 , G21F9/28 , G21F9/30
摘要： 본 발명은 금속 부품의 표면을 화학적으로 제염하는 방법에 관한 것으로, 여기에서 제 1 처리 단계에서, 상기 부품 물질의 부식에 의해 상기 부품 상에 형성되는 산화층이 유기 제염 산을 함유하는 제 1 수용성 처리 용액 및 그 후의 제 2 처리 단계에 의해 상기 부품의 표면으로부터 제거되며, 상기 산화층이 일부 또는 전부 없는 상기 표면이 상기 표면에 점착된 입자들의 제거를 위해 활성 성분을 함유하는 수용액으로 처리된다. 상기 활성 성분은 술폰산, 포스폰산, 카복실산 및 이들 산의 염들로 구성된 군으로부터 선택되는 하나 이상의 음이온 계면활성제로 이루어진다.

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