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1. 发明授权

KR101265729B1 광촉매 코팅을 구비한 기판 有权
公开(公告)号：KR101265729B1
公开(公告)日：2013-05-21
申请号：KR1020067023474
申请日：2005-05-10
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 게뉴,레티샤 , 론뎃,모리세트 , 마트만,에릭
IPC分类号： C03C17/00 , C03C17/06 , B82Y30/00
摘要： 본 발명은 적어도 한 표면의 적어도 일부에 티타늄 옥사이드를 주성분으로 하는 광촉매 코팅을 구비한 투명 또는 반투명 기판에 관한 것으로, 코팅된 표면은 상기 기판의 코팅되지 않은 표면보다 작은 광반사를 가진다. 또한 본 발명은 이런 타입의 기판을 획득하는 방법 및 이런 기판을 사용하는 방법에 관한 것이다.

2. 发明授权

KR101343437B1 유전체 박막 층으로 코팅된 기판, 창유리 조립체, 기판 위에 증착하는 방법, 및 기판 위에 증착하는 장치 有权
标题翻译：涂覆有介电薄膜层的基板，玻璃组件，基板上沉积的工艺以及用于沉积在基板上的安装
公开(公告)号：KR101343437B1
公开(公告)日：2014-03-04
申请号：KR1020057025069
申请日：2004-06-28
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 보베,카롤 , 피셔,클라우스 , 로어겐,마르쿠스 , 기론,쟝-크리스토프 , 나도,니콜라 , 마트만,에릭 , 루쏘,쟝-뽈 , 호프리히터,알프레드 , 얀센,만프레드
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C03C17/22 , B32B17/10174 , C03C17/225 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2217/21 , C03C2217/281 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/155 , C23C14/0052 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3442 , C23C14/5833 , H01J2211/446
摘要： 본 발명은, 유리 기판과 같은 기판(1)에 관한 것으로, 이는 적어도 하나의 유전체 박층으로 코팅되어 있고, 유전체 층은, 예를 들어 자기장에 의해 보조되고, 바람직하게는 산소 및/또는 질소 존재시 반응성이 있는 캐쏘드 스퍼터링에 의해, 이온 소스(4)로부터 나오는 적어도 하나의 이온빔(3)에 노출시켜 증착된다. 본 발명은, 이온빔에 노출된 유전체 층이 결정화되는 것을 특징으로 한다.

3. 发明公开

KR1020060036403A 유전체 박막 층으로 코팅된 기판, 창유리 조립체, 기판 위에 증착하는 방법, 및 기판 위에 증착하는 장치 有权
标题翻译：电介质涂层基板及其生产安装
公开(公告)号：KR1020060036403A
公开(公告)日：2006-04-28
申请号：KR1020057025069
申请日：2004-06-28
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 보베,카롤 , 피셔,클라우스 , 로어겐,마르쿠스 , 기론,쟝-크리스토프 , 나도,니콜라 , 마트만,에릭 , 루쏘,쟝-뽈 , 호프리히터,알프레드 , 얀센,만프레드
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C03C17/22 , B32B17/10174 , C03C17/225 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2217/21 , C03C2217/281 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/155 , C23C14/0052 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3442 , C23C14/5833 , H01J2211/446
摘要： The invention relates to a substrate (1), such as a glass substrate, which is coated with at least one thin dielectric layer. According to the invention, the dielectric layer is deposited by means of cathode sputtering which is, for example, assisted by a magnetic field and which is preferably reactive in the presence of oxygen and/or nitrogen, with exposure to at least one ion beam (3) from an ion source (4). The invention is characterised in that the dielectric layer which is exposed to the ion beam is crystallised.
摘要翻译：本发明涉及涂覆有至少一个薄介电层的基板（1），例如玻璃基板。根据本发明，电介质层通过例如由磁场辅助的阴极溅射沉积，并且优选在存在氧和/或氮的情况下与暴露于至少一个离子束（在 3）离子源（4）。本发明的特征在于暴露于离子束的电介质层结晶。

4. 发明公开

KR1020060026448A 유전체 박막 층으로 코팅된 기판, 기판 위에 증착하는 방법, 및 기판 위에 증착하는 장치 有权
标题翻译：电介质涂层基板及其生产安装
公开(公告)号：KR1020060026448A
公开(公告)日：2006-03-23
申请号：KR1020057025068
申请日：2004-06-28
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 보베,카롤 , 피셔,클라우스 , 로어겐,마르쿠스 , 기론,쟝-크리스토프 , 나도,니콜라 , 마트만,에릭 , 루쏘,쟝-뽈 , 호프리히터,알프레드 , 얀센,만프레드
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/203
CPC分类号： C03C17/22 , B32B17/10174 , C03C17/225 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2217/21 , C03C2217/281 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/155 , C23C14/0052 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3442 , C23C14/5833 , H01J2211/446
摘要： The invention relates to a substrate (1), such as a glass substrate, which is coated with at least one thin dielectric layer. According to the invention, the dielectric layer is deposited by means of cathode sputtering which is, for example, assisted by a magnetic field and which is preferably reactive in the presence of oxygen and/or nitrogen, with exposure to at least one ion beam (3) from an ion source (4). The invention is characterised in that the dielectric layer which is exposed to the ion beam has a refractive index which can be adjusted on the basis of the parameters of the ion source, said ion source being a linear source.
摘要翻译：本发明涉及涂覆有至少一个薄介电层的基板（1），例如玻璃基板。根据本发明，电介质层通过例如由磁场辅助的阴极溅射沉积，并且优选在存在氧和/或氮的情况下与暴露于至少一个离子束（在 3）离子源（4）。本发明的特征在于，暴露于离子束的电介质层具有可以根据离子源的参数进行调整的折射率，所述离子源是线性源。

5. 发明授权

KR101172019B1 유전체 박막 층으로 코팅된 기판, 기판 위에 증착하는 방법, 및 기판 위에 증착하는 장치 有权
标题翻译：涂覆有介电薄膜层的基板，基板上沉积的工艺和在基板上沉积的安装
公开(公告)号：KR101172019B1
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：KR1020057025068
申请日：2004-06-28
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 보베,카롤 , 피셔,클라우스 , 로어겐,마르쿠스 , 기론,쟝-크리스토프 , 나도,니콜라 , 마트만,에릭 , 루쏘,쟝-뽈 , 호프리히터,알프레드 , 얀센,만프레드
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/203
CPC分类号： C03C17/22 , B32B17/10174 , C03C17/225 , C03C17/245 , C03C17/2456 , C03C17/36 , C03C17/3613 , C03C17/3618 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C17/366 , C03C2217/21 , C03C2217/281 , C03C2217/78 , C03C2218/154 , C03C2218/155 , C23C14/0052 , C23C14/08 , C23C14/086 , C23C14/3442 , C23C14/5833 , H01J2211/446
摘要： 본 발명은, 유리 기판과 같은 기판(1)에 관한 것으로, 이는 적어도 하나의 유전체 박층으로 코팅되어 있다. 본 발명에 따라, 유전체 층은, 예를 들어 자기장에 의해 보조되고, 바람직하게는 산소 및/또는 질소 존재시 반응성이 있는 캐쏘드 스퍼터링에 의해, 이온 소스(4)로부터 나오는 적어도 하나의 이온빔(3)에 노출시켜 증착된다. 본 발명은, 이온빔에 노출된 유전체 층이 이온 소스의 파라미터를 기초로 조절될 수 있는 굴절률을 갖고, 상기 이온 소스는 선형 소스인 것을 특징으로 한다.

6. 发明公开

KR1020070009682A 광촉매 코팅을 구비한 기판 有权
标题翻译：具有光电涂层的基材
公开(公告)号：KR1020070009682A
公开(公告)日：2007-01-18
申请号：KR1020067023474
申请日：2005-05-10
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 게뉴,레티샤 , 론뎃,모리세트 , 마트만,에릭
IPC分类号： C03C17/00 , C03C17/06 , B82Y30/00
CPC分类号： B32B3/26 , B32B7/02 , C03C17/3417 , C03C17/3435 , C03C2217/71 , C03C2217/734 , G02B1/04 , G02B1/11 , G02B1/113 , G02B1/115 , G02F1/1333 , G02F1/133305 , Y10T428/24942 , Y10T428/24975 , Y10T428/249953 , Y10T428/249956 , Y10T428/249969 , Y10T428/249986
摘要： The invention relates to a transparent or semi-transparent substrate having, over at least a portion of at least one of its surfaces, a photocatalytic coating based on titanium oxide and characterized in that the coated surface has a luminous reflectance less than that of a non- coated surface of the substrate. The invention also relates to methods for obtaining a substrate of this type and to uses for this substrate. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：本发明涉及一种透明或半透明基材，其在其表面的至少一个表面的至少一部分上具有基于氧化钛的光催化涂层，其特征在于，所述涂覆表面的光反射率小于非 - - 基材的涂覆表面。本发明还涉及获得这种类型的基底和用于该基底的方法。 ®KIPO＆WIPO 2007

7. 发明公开

KR1020070004042A 진공 증착 방법 无效
标题翻译：真空沉积法
公开(公告)号：KR1020070004042A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020067021550
申请日：2005-04-15
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 나다우드,니콜라스 , 마트만,에릭
IPC分类号： C23C14/46
CPC分类号： C03C17/3618 , C03C17/002 , C03C17/3411 , C03C17/36 , C03C17/3626 , C03C17/3644 , C03C17/3652 , C03C2217/734 , C23C14/0052 , C23C14/46
摘要： The invention relates to a method for the vacuum deposition of at least one thin layer on a portion of the surface of a substrate. The inventive method is characterised in that it comprises the following steps consisting in: selecting at least one sputtering species which is chemically inactive or active in relation to a material to be sputtered; using at least one linear ion source, which is positioned inside an industrial-size installation, in order to generate a collimated ion beam which mainly comprises the sputtering species; directing the beam towards at least one target based on the material to be sputtered; and positioning at least one portion of the surface of the substrate opposite the target, such that the material sputtered by the ionic bombardment of the target or a material resulting from the reaction of the sputtered material with at least one of the sputtering species is deposited on said portion of surface. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：本发明涉及一种在衬底表面的一部分上真空沉积至少一层薄层的方法。本发明的方法的特征在于其包括以下步骤：选择相对于待溅射的材料具有化学惰性或活性的至少一种溅射物质; 使用至少一个线性离子源，其位于工业尺寸的装置内，以产生主要包括溅射物质的准直离子束; 基于待溅射的材料将光束引向至少一个靶; 并且将所述基板的与所述靶相对的表面的至少一部分定位，使得由所述靶的离子轰击溅射的材料或所述溅射材料与所述溅射物质中的至少一种的反应产生的材料沉积在表面的部分。 ®KIPO＆WIPO 2007

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