专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102129450B1 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102129450B1
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：KR1020170027025
申请日：2017-03-02
申请人： 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
发明人： 고바야시노부오 , 하마다고이치 , 구로카와요시아키 , 후루야마사아키 , 모리히데키 , 와타나베야스시 , 하야시요시노리
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/687

2. 发明公开

KR1020170029453A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 审中-实审
标题翻译：基板处理方法和基板处理装置
公开(公告)号：KR1020170029453A
公开(公告)日：2017-03-15
申请号：KR1020170027025
申请日：2017-03-02
申请人： 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
发明人： 고바야시노부오 , 하마다고이치 , 구로카와요시아키 , 후루야마사아키 , 모리히데키 , 와타나베야스시 , 하야시요시노리
IPC分类号： H01L21/306 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/687
CPC分类号： H01L21/31111 , H01L21/67017 , H01L21/6708 , H01L21/30604 , H01L21/0254 , H01L21/324 , H01L21/67075 , H01L21/68764 , H01L2924/01009 , H01L2924/01015
摘要： [과제] 가능한한 큰설비를이용하지않고, 에칭처리와함께그 에칭처리에복귀할수 있는인산을보다효율적으로재생할수 있는기판처리장치를제공하는것이다. [해결수단] 질화막이형성된실리콘제기판(W)을인산을함유하는에칭액에의해처리하는기판처리장치로서, 1장씩공급되는기판의각각에적량의에칭액을부여하여상기기판에대한에칭처리를행하고, 질화막을제거하는에칭처리부(30)와, 상기 1장의상기기판을처리한만큼의사용완료에칭액과, 그사용완료에칭액의양에대하여적량의플루오르화수소산용액을정해진온도환경하에서혼합하여인산을재생하는인산재생부(30)와, 상기인산재생부에의해얻어진인산을상기에칭처리부에서사용되는에칭액으로복귀시키는인산회수부(38, 50, 52)를갖는구성이된다.
摘要翻译：一种能够更有效地再生磷酸的基板处理装置，其可以在不使用大的设备的情况下尽可能多地进行蚀刻处理而返回到蚀刻处理，也就是说，处理硅基板W的基板处理装置，氮化物膜由含有磷酸的液体蚀刻剂形成，该液体蚀刻剂包括蚀刻处理单元（旋转处理单元30），该蚀刻处理单元（旋转处理单元30）向每个衬底提供适当量的液体，蚀刻剂，每个衬底一次一个地蚀刻，基板并去除氮化物膜，将磷酸再生单元（旋转处理单元30）在预定温度环境下将用于处理一个基板的液体蚀刻剂和适量的液体氢氟酸混合使用液体蚀刻剂的量再生磷酸，磷酸回收单元（泵38，磷酸回收槽50，pu mp 52），其将由磷酸再生单元获得的磷酸返回到在蚀刻处理单元处使用的液体蚀刻剂。

3. 发明公开

KR1020150037632A 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 无效
标题翻译：基板处理方法和基板处理装置
公开(公告)号：KR1020150037632A
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：KR1020140130302
申请日：2014-09-29
申请人： 시바우라 메카트로닉스 가부시끼가이샤
发明人： 고바야시노부오 , 하마다고이치 , 구로카와요시아키 , 후루야마사아키 , 모리히데키 , 와타나베야스시 , 하야시요시노리
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/31111 , H01L21/67017 , H01L21/6708
摘要： [과제] 가능한한 큰설비를이용하지않고, 에칭처리와함께그 에칭처리에복귀할수 있는인산을보다효율적으로재생할수 있는기판처리장치를제공하는것이다. [해결수단] 질화막이형성된실리콘제기판(W)을인산을함유하는에칭액에의해처리하는기판처리장치로서, 1장씩공급되는기판의각각에적량의에칭액을부여하여상기기판에대한에칭처리를행하고, 질화막을제거하는에칭처리부(30)와, 상기 1장의상기기판을처리한만큼의사용완료에칭액과, 그사용완료에칭액의양에대하여적량의플루오르화수소산용액을정해진온도환경하에서혼합하여인산을재생하는인산재생부(30)와, 상기인산재생부에의해얻어진인산을상기에칭처리부에서사용되는에칭액으로복귀시키는인산회수부(38, 50, 52)를갖는구성이된다.
摘要翻译： [问题]提供一种能够以更有效的方式回收在蚀刻工艺中使用的磷酸而不依靠昂贵的设备的基板处理装置。 [解决方案]这是使用含磷酸蚀刻溶液处理硝酸盐成膜硅基板（W）的基板处理装置。本发明由蚀刻处理单元（30）构成，该处理单元（30）通过向每个基板施加一定量的蚀刻溶液并除去硝酸盐膜来对每个基板进行蚀刻处理; 磷酸回收单元（30），其通过在给定温度条件下与用于处理基材的蚀刻溶液的量成比例混合适量的氢氟酸来回收磷酸; 以及收集回收单元中回收的磷酸的磷酸收集单元（38,50,52），以返回到在蚀刻处理单元中再次使用的蚀刻溶液。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式