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1. 发明公开

KR1019920016899A 광에 대해 표백 작용 또는 퇴색 작용 가진 유기 재료막 无效
标题翻译：对光具有漂白作用或褪色作用的有机材料膜
公开(公告)号：KR1019920016899A
公开(公告)日：1992-09-25
申请号：KR1019920002756
申请日：1992-02-24
申请人： 소니 주식회사
发明人： 도모요이찌
IPC分类号： G03F7/04
摘要： 내용 없음

2. 发明授权

KR101354303B1 표시 장치 失效
标题翻译：显示单元
公开(公告)号：KR101354303B1
公开(公告)日：2014-01-23
申请号：KR1020070022896
申请日：2007-03-08
申请人： 소니 주식회사
发明人： 우라베데쯔오 , 이와세유이찌 , 쯔끼하라고이찌 , 도모요이찌 , 후꾸다도시히로
IPC分类号： H05B33/22
CPC分类号： G02B6/0018 , G02B17/006 , G02F1/133504 , H04M1/22 , H04W52/027 , Y02D70/122
摘要： 시야각이 제한되고 정면 휘도가 향상된 표시 장치가 제공된다. 표시 장치는, 표시 소자와, 상기 표시 소자에 대향해서 설치되고, 상기 표시 소자에 대향하는 측에 입사면, 상기 표시 소자와는 반대측에 출사면, 측면에 반사면을 가지며, 상기 입사면에서 상기 출사면을 향해서 넓어지는 단면을 갖는 도광부를 포함한다.
시야각, 표시 기기, 휘도, 도광
摘要翻译：提供了视角被限制并且改善了前方亮度的显示单元。显示单元包括显示装置和设置为面向显示装置的导光部，在与显示装置相对的一侧具有入射面，在显示装置的相对侧具有发光面，反射面对侧面，并且具有从入射面向发射面扩展的横截面。

3. 发明授权

KR100295541B1 감광성조성물및패턴형성방법 失效
公开(公告)号：KR100295541B1
公开(公告)日：2001-09-17
申请号：KR1019940011721
申请日：1994-05-28
申请人： 소니 주식회사
发明人： 도모요이찌 , 사이또마사오
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 미세가공에 적합한 동시에, 각종 드라이에칭공정에서 실용적으로 이용할 수 있는 신규의 감광성 조성물을 제공하고, 또 이러한 감광성 조성물을 사용한 유리한 패턴형성방법을 제공한다.
① 주쇄(主鎖)의 최소한 일부에 폴리비닐알코올쇄와 같은 비닐알코올계 화합물을 중합하여 얻어지는 골격을 포함하고, 이 골격의 수산기의 최소한 일부가 산탈리성(酸脫離性) 보호기(保護基)로 보호되고, 바람직하게는 더욱 드라이에칭내성을 향상시키는 기(基)가 도입되어 있는 물질과, 광산(光酸) 발생제를 함유하는 감광성 조성물. ② 상기 ①을 사용하여 극성(極性)이 높은 용매에서의 현상, 예를 들면 수성(水性)현상을 행하는, 또는 수성현상으로 포지티브 패턴, 알코올성 현상으로 네가티브 패턴을 얻는다.

4. 发明公开

KR1020070093338A 표시 장치 失效
标题翻译：显示单元
公开(公告)号：KR1020070093338A
公开(公告)日：2007-09-18
申请号：KR1020070022896
申请日：2007-03-08
申请人： 소니 주식회사
发明人： 우라베데쯔오 , 이와세유이찌 , 쯔끼하라고이찌 , 도모요이찌 , 후꾸다도시히로
IPC分类号： H05B33/22
CPC分类号： G02B6/0018 , G02B17/006 , G02F1/133504 , H04M1/22 , H04W52/027 , Y02D70/122
摘要： A displaying apparatus is provided to secure the privacy of displaying contents by restricting a direction of light to limit a field of view. A displaying apparatus includes a driving substrate(10), a displaying device(20), a sealing substrate(30), a middle layer(40), and a reflecting film(54). The displaying device(20) is installed on the driving substrate(10). The sealing substrate(30) is installed to be oppositely arranged on a side to install the displaying device(20) of the driving substrate(10). A space between the driving substrate(10) and the displaying device(20) is completely packed by the middle layer(40). The driving substrate(10) is made of an insulating material such as glass. The displaying device(20) is a light emitting device such as an EL(ElectroLuminescence) and a PDP(Plasma Display Panel) or a liquid crystal device with a liquid crystal layer and a backlight. The sealing substrate(30) seals the displaying device(20) with the middle layer(40) together. The reflecting film(54) is composed of a dielectric multi-layer film.
摘要翻译：提供了一种显示装置，通过限制光的方向来限制视场来确保显示内容的隐私。显示装置包括驱动基板（10），显示装置（20），密封基板（30），中间层（40）和反射膜（54）。显示装置（20）安装在驱动基板（10）上。密封基板（30）安装成相对设置在一侧以安装驱动基板（10）的显示装置（20）。驱动基板（10）与显示装置（20）之间的空间被中间层（40）完全包装。驱动基板（10）由绝缘材料如玻璃制成。显示装置（20）是诸如EL（电致发光）和PDP（等离子体显示面板）的发光装置或具有液晶层和背光的液晶装置。密封基板（30）将显示装置（20）与中间层（40）密封在一起。反射膜（54）由电介质多层膜构成。

5. 发明公开

KR1019940026639A 감광성조성물및패턴형성방법 失效
标题翻译：图案形成的光敏组合物和方法
公开(公告)号：KR1019940026639A
公开(公告)日：1994-12-09
申请号：KR1019940011721
申请日：1994-05-28
申请人： 소니 주식회사
发明人： 도모요이찌 , 사이또마사오
IPC分类号： G03F7/004

6. 发明公开

KR1020040076210A 전자선 묘화 장치, 홀 패턴의 노광 방법 및 반도체 장치의제조 방법 无效
标题翻译：电子束光刻系统，用于露出孔图案的方法和用于制造半导体器件以减少接触时间间隔的方法
公开(公告)号：KR1020040076210A
公开(公告)日：2004-08-31
申请号：KR1020040011740
申请日：2004-02-23
申请人： 소니 주식회사
发明人： 도모요이찌
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , G03F1/20
摘要： PURPOSE: An electron beam lithography system is provided to shorten an interval of exposure time by decreasing the number of shots in performing an exposure process on a hole pattern of a logic device. CONSTITUTION: An electron beam lithography system performs a partial exposure at a time by using electron beam, including the second molding aperture(102) with a cell(21) in which a plurality of hole patterns of a logic device is installed. In the cell, a plurality of hole patterns are disposed at an interval that is natural number times the interval of power lines in the logic device.
摘要翻译：目的：提供电子束光刻系统，通过减少对逻辑器件的孔图案进行曝光处理的拍摄次数来缩短曝光时间间隔。构成：电子束光刻系统通过使用包括第二成型孔（102）的电子束一次执行部分曝光，其中安装有逻辑器件的多个孔图案的单元（21）。在单元中，以自然数乘以逻辑器件中的电力线的间隔的间隔设置多个孔图案。

7. 发明公开

KR1019960008993A 반사 방지막 형성 재료, 레지스트 패턴 형성 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 无效
标题翻译：抗反射膜形成材料，抗蚀剂图案形成方法和半导体器件制造方法
公开(公告)号：KR1019960008993A
公开(公告)日：1996-03-22
申请号：KR1019950024092
申请日：1995-08-04
申请人： 소니 주식회사
发明人： 도모요이찌
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명의 목적은 소망의 파장영역에 대해서 반사방지효과를 구비시키는 것이 용이하고, 특별한 박리공정이 필요없이 용이하고, 특별한 박리공정이 필요없이 용이하게 제거할 수 있는 반사방지막을 제공하고, 포토리소그래피용 반사장지막으로서 레지스트패턴 형성에 이용하는 경우에 현상공정에서 동시에 제거할 수 있는 반사방지 기술을 제공하고, 상기 이점을 가지는 반도체장치의 제조방법을 제공하는데 있다.
그 구성은 노광하여 레지스트패턴을 형성하는 포토레지스트 재료위에 직접도포하여 반사방지막을 형성하는 반사방지막 형성재료로서 저극성 유기용매에 가용하고, 또한 알칼리 수용액에 가용한 로진등의 바인더성분과 저극성 유기용매에 가용하고, 또한 알칼리 수용액에 가용한 광흡수성분으로 이르는 반사방지막 형성재료 및 이것을 이용한 레지스트패턴 형성방법 및 반도체장치의 제조방법이다.

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