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1. 发明授权

KR101276424B1 광 응답성 가스 발생 재료, 마이크로펌프 및 마이크로유체 디바이스 失效
标题翻译：光电气体发生材料，微波和微流体装置
公开(公告)号：KR101276424B1
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：KR1020127021671
申请日：2009-03-11
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸오까,마사떼루 , 야마모또,가즈끼 , 아까기,요시노리 , 후꾸이,히로지
IPC分类号： F04F1/18 , B01J7/00 , B01J19/00 , B81B1/00
CPC分类号： B01L3/50273 , B01L2300/0887 , B01L2400/046 , F04B19/006 , Y10T137/2082
摘要： 미세 유로가 형성되어 있는 마이크로유체 디바이스의 마이크로펌프에 이용되는 광 응답성 가스 발생 재료로서, 광이 조사되면 가스를 효율적으로 발생하고, 마이크로유체를 반송시킬 수 있고, 또한 송액 효율을 높일 수 있는 광 응답성 가스 발생 재료, 및 상기 광 응답성 가스 발생 재료를 이용한 마이크로펌프를 제공한다. 기판 내에 미세 유로가 형성되어 있는 마이크로유체 디바이스의 마이크로펌프에 이용되는 광 응답성 가스 발생 재료로서, 광 산 발생제와 산 자극 가스 발생제를 포함하는 광 응답성 가스 발생 재료(13), 및 상기 광 응답성 가스 발생 재료(13)이 내부에 수납되어 있는 마이크로펌프실 (10)을 제공한다.

2. 发明授权

KR101332463B1 광 경화성 조성물 有权
公开(公告)号：KR101332463B1
公开(公告)日：2013-11-25
申请号：KR1020107002940
申请日：2008-07-23
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 , 도쿄 유니버시티 오브 사이언스 에듀케이셔널 파운데이션 애드미니스트레이티브 오거니제이션
发明人： 후꾸이,히로지 , 곤도,슌스께 , 아리미쯔,고지
IPC分类号： C08L33/00 , C08F2/50 , C08G18/00 , C08G59/68
CPC分类号： C08F2/50 , C08F2220/1825 , C08G18/12 , C08G18/2825 , C08G18/4804 , C08G18/8077 , C08G59/625 , C08G59/681 , C08L63/00 , C08L2312/06 , C09J133/068 , G03F7/0045 , G03F7/038 , C08F2220/325
摘要： 본 발명은 광 염기 발생제로부터 발생하는 염기의 양자 수율이 높고, 단시간 또한 소량의 광 조사에 의해 충분한 양의 염기를 발생하고, 또한 발생한 염기에 의해 경화성 화합물의 경화가 빠르게 진행하여, 경화물을 제공하는 광 경화성 조성물을 제공한다. 하기 화학식 1-1로 표시되는 카르복실산 (a1-1)과 염기성 화합물 (a2)의 염인 광 염기 발생제 (A)와, 에폭시기, (메트)아크릴로일기, 이소시아네이트기, 산 무수물기 및 알콕시실릴기로부터 선택되는 관능기를 1분자 중에 적어도 2개 갖는 경화성 화합물 (B)를 포함하는 광 경화성 조성물에 관한 것이다. 상기 화학식 1-1 중, R1 내지 R7은 각각 수소 또는 유기기를 나타낸다. R1 내지 R7은 동일하거나 상이할 수도 있으며, R1 내지 R7 중 2개가 서로 결합하여 환상 구조를 형성하고 있을 수도 있다.

3. 发明公开

KR1020100018556A 광 경화형 점접착제 조성물 有权
标题翻译：可压敏感应胶粘剂组合物
公开(公告)号：KR1020100018556A
公开(公告)日：2010-02-17
申请号：KR1020097025925
申请日：2008-06-04
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸이,히로지
IPC分类号： C09J11/06 , C09J163/00 , C09J201/00
CPC分类号： C09J11/00 , B33Y70/00 , C08G59/686 , C08K5/0008 , C08L63/00 , C09J163/00 , G03F7/0045
摘要： A photocurable pressure-sensitive adhesive composition which before irradiation with light has sufficient adhesive force and which, after irradiation with light, can secure a sufficient pot life and completely cures at room temperature in a short time. It has a high strength of adhesion to adherends difficult to bond and gives a cured layer having excellent durability. The photocurable pressure-sensitive adhesive composition comprises a crosslinkable compound (A) which crosslinks by the action of a base, a photobase generator (B) which becomes active upon irradiation with light to generate a base, and a tackifier ingredient (C).
摘要翻译：在光照射之前的光固化型压敏粘合剂组合物具有足够的粘合力，并且在光照射之后可以确保足够的适用期并且在短时间内在室温下完全固化。对于难以粘合的被粘附体的粘合强度高，得到耐久性优异的固化层。光固化性粘合剂组合物包含通过碱的作用交联的交联性化合物（A），在照射光时产生活性的光碱产生剂（B），以产生增粘剂成分（C）。

4. 发明公开

KR1020090029207A 패턴막의 제조 방법 및 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：生产图案薄膜和感光树脂组合物的方法
公开(公告)号：KR1020090029207A
公开(公告)日：2009-03-20
申请号：KR1020087030328
申请日：2006-10-19
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸이,히로지 , 아오끼,겐이찌 , 이찌무라,구니히로 , 스에자끼,미노루 , 에나미,도시오 , 이시자와,히데아끼 , 우나떼,다까오 , 고바야시,히로시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/36 , G03F7/0045 , G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/0382 , H01L21/027 , H01L21/0271
摘要： A process for producing a film pattern, in which a layer of photosensitive resin composition is formed on a substrate and exposed selectively through a mask to light to thereby obtain a film pattern provided on its surface with protrusions and depressions without the need to remove the layer of photosensitive resin composition at unexposed regions or exposed regions by, for example, development; and a photosensitive resin composition for use in the above process for producing a film pattern. There is provided a process for producing a patterned film, comprising the steps of preparing a photosensitive resin composition that upon light irradiation, generates an acid or a base and is hardened; coating substrate (2) with the photosensitive resin composition to thereby form photosensitive resin composition layer (1) of given thickness; and exposing the photosensitive resin composition layer (1) selectively through mask (3) to light so as to travel at least portion of the photosensitive resin composition at unexposed regions toward the exposed regions and further effect hardening thereof, thereby obtaining patterned film (1A) furnished on its surface with protrusion/depression pattern.
摘要翻译：一种薄膜图案的制造方法，其中在基板上形成感光性树脂组合物层，并通过掩模选择性地曝光于光，从而获得在其表面上设置有突起和凹陷的膜图案，而不需要去除层感光性树脂组合物在未曝光区域或曝光区域的显影; 以及用于上述制造薄膜图案的方法的感光性树脂组合物。提供一种图案化膜的制造方法，包括以下步骤：制备在光照射时产生酸或碱并被硬化的感光性树脂组合物; 用感光性树脂组合物涂布基材（2），形成规定厚度的感光性树脂组合物层（1）通过掩模（3）选择性地使感光性树脂组合物层（1）发光，使未曝光区域的感光性树脂组合物的至少一部分向露出区域移动，进一步进行硬化，得到图案化膜（1A）其表面上具有突出/凹陷图案。

5. 发明公开

KR1020050083864A 가열 소멸성 재료, 이것을 이용한 전사 시트 및 패턴 형성방법 有权
标题翻译：热转印材料，使用该材料的转印片和形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020050083864A
公开(公告)日：2005-08-26
申请号：KR1020057007509
申请日：2003-11-26
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸이,히로지 , 에나미,도시오
IPC分类号： C08L71/02 , C08K5/14 , C08K3/22 , C08K5/37
CPC分类号： C08G65/329 , C08G65/336 , C08J9/26 , C08J11/06 , C08J2300/30 , C08J2367/02 , C08L71/02 , H01L21/6835 , H01L21/7682 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L2224/05001 , H01L2224/05022 , H01L2224/05548 , H01L2224/05571 , H01L2224/05624 , H01L2224/05647 , H01L2224/11003 , H01L2224/11334 , H01L2224/13099 , H01L2924/00014 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01009 , H01L2924/0101 , H01L2924/01011 , H01L2924/01012 , H01L2924/01013 , H01L2924/01015 , H01L2924/01016 , H01L2924/01019 , H01L2924/0102 , H01L2924/01022 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/0103 , H01L2924/01033 , H01L2924/01039 , H01L2924/01042 , H01L2924/01047 , H01L2924/01054 , H01L2924/01056 , H01L2924/01074 , H01L2924/01075 , H01L2924/01077 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/01082 , H01L2924/01087 , H01L2924/01088 , H01L2924/014 , H01L2924/10329 , H01L2924/12042 , H01L2924/13091 , H01L2924/14 , H01L2924/3025 , H05K1/0373 , H05K3/048 , H05K3/20 , H05K3/3478 , H05K2201/0116 , H05K2201/0212 , H05K2201/10424 , H05K2203/041 , H05K2203/083 , H05K2203/1105 , Y02W30/701 , Y10T156/1153 , Y10T428/24802 , Y10T428/28 , H01L2924/00 , H01L2224/05099
摘要： A thermally vanishing material, characterized in that it comprises a polyoxyalkylene resin as a primary component, contains oxygen atoms in an amount of 15 to 55 mass %, and 95 wt % or more of the material vanishes on the exposure to a temperature of 150 to 350°C for 10 minutes or less. The thermally vanishing material is less prone to deterioration or decomposition at an ordinary use temperature and vanishes by the heating to a relatively low temperature for a short time, and thus finds widespread application, for example, applications for a method for producing a porous material, a transfer sheet comprising electroconductive fine particles, a transfer sheet for forming a circuit, a method for forming a pattern and the like.
摘要翻译：一种热消失材料，其特征在于，其包含聚氧化烯树脂作为主要组分，其含有15至55质量％的氧原子，并且在暴露于150至150℃的温度下，该材料的95重量％或更多会消失 350℃10分钟以下。热消失材料在普通使用温度下不容易劣化或分解，并且通过在短时间内加热至较低温度而消失，因此广泛应用于例如多孔材料的制造方法的应用，包含导电细颗粒的转印片，用于形成电路的转印片，形成图案的方法等。

6. 发明公开

KR1020120098967A 광 응답성 가스 발생 재료, 마이크로펌프 및 마이크로유체 디바이스 失效
标题翻译：光响应气体生成材料，微型泵和微流体装置
公开(公告)号：KR1020120098967A
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：KR1020127021671
申请日：2009-03-11
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸오까,마사떼루 , 야마모또,가즈끼 , 아까기,요시노리 , 후꾸이,히로지
IPC分类号： F04F1/18 , B01J7/00 , B01J19/00 , B81B1/00
CPC分类号： B01L3/50273 , B01L2300/0887 , B01L2400/046 , F04B19/006 , Y10T137/2082
摘要： 미세 유로가 형성되어 있는 마이크로유체 디바이스의 마이크로펌프에 이용되는 광 응답성 가스 발생 재료로서, 광이 조사되면 가스를 효율적으로 발생하고, 마이크로유체를 반송시킬 수 있고, 또한 송액 효율을 높일 수 있는 광 응답성 가스 발생 재료, 및 상기 광 응답성 가스 발생 재료를 이용한 마이크로펌프를 제공한다. 기판 내에 미세 유로가 형성되어 있는 마이크로유체 디바이스의 마이크로펌프에 이용되는 광 응답성 가스 발생 재료로서, 광 산 발생제와 산 자극 가스 발생제를 포함하는 광 응답성 가스 발생 재료(13), 및 상기 광 응답성 가스 발생 재료(13)이 내부에 수납되어 있는 마이크로펌프실 (10)을 제공한다.
摘要翻译：在具有微通道的微流体装置的微泵中使用的气体发生材料的光响应形成，当光照射，并能有效地产生气体，并输送微流体，及光，可以增加液体进料效率提供响应性气体生成材料和使用该光响应性气体生成材料的微型泵。在基板上形成在微流体装置的具有微通道的微泵中使用的气体发生材料的光响应，气体生成材料13的光学响应，其包括光酸产生剂和酸刺激产气，并且并且，设有收纳有光响应性气体生成材料13的微型泵室10。

7. 发明授权

KR101157720B1 광 경화형 점접착제 조성물 有权
标题翻译：可压敏感应胶粘剂组合物
公开(公告)号：KR101157720B1
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020097025925
申请日：2008-06-04
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 후꾸이,히로지
IPC分类号： C09J11/06 , C09J163/00 , C09J201/00
CPC分类号： C09J11/00 , B33Y70/00 , C08G59/686 , C08K5/0008 , C08L63/00 , C09J163/00 , G03F7/0045
摘要： 본 발명은 광이 조사되기 전에는 충분한 점착력을 갖고, 광이 조사된 후에는 가용 시간을 충분히 확보할 수 있으며, 실온에서의 경화 완료 시간이 짧고, 추가로 접착이 곤란한 피착체에 대한 접착력이 높으며, 내구성이 우수한 경화물을 제공하는 광 경화형 점접착제 조성물을 제공한다. 염기의 작용에 의해 가교하는 가교성 화합물 (A), 광의 조사에 의해 활성화하여 염기를 발생하는 광 염기 발생제 (B) 및 점착성 부여 성분 (C)를 포함하는 광 경화형 점접착제 조성물을 제공한다.
광 경화형 점접착제 조성물, 가교성 화합물, 광 염기 발생제

8. 发明公开

KR1020100056457A 광 경화성 조성물 有权
标题翻译：可光成分
公开(公告)号：KR1020100056457A
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：KR1020107002940
申请日：2008-07-23
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 , 도쿄 유니버시티 오브 사이언스 에듀케이셔널 파운데이션 애드미니스트레이티브 오거니제이션
发明人： 후꾸이,히로지 , 곤도,슌스께 , 아리미쯔,고지
IPC分类号： C08L33/00 , C08F2/50 , C08G18/00 , C08G59/68
CPC分类号： C08F2/50 , C08F2220/1825 , C08G18/12 , C08G18/2825 , C08G18/4804 , C08G18/8077 , C08G59/625 , C08G59/681 , C08L63/00 , C08L2312/06 , C09J133/068 , G03F7/0045 , G03F7/038 , C08F2220/325
摘要： The invention provides a photocurable composition which contains a photobase generator capable of generating a satisfactory amount of a base in a high quantum yield when irradiated even with a small quantity of light for a short time and which can be speedily cured by the base into a cured article. A photocurable composition comprising a photobase generator (A) which is a salt of a carboxylic acid (a1-1) represented by the general formula (1-1) with a basic compound (a2) and a curable compound (B) having at least two functional groups selected from among epoxy, (meth)acryloyl, isocyanato, acid anhydride groups, and alkoxysilyl: (1-1) wherein R1 to R7 are each hydrogen or an organic group and may be the same or different, or alternatively two of R1 to R7 may be bonded to each other to form a ring structure.
摘要翻译：本发明提供了一种可光固化组合物，其含有能够在短时间内用少量光照射时能够以高量子产率产生令人满意的碱的量的光碱性组合物，其可以通过碱快速固化成固化文章。一种光固化性组合物，其包含作为由通式（1-1）表示的羧酸（a1-1）与碱性化合物（a2）和至少具有固化性化合物（B）的盐的光碱产生剂（A）选自环氧基，（甲基）丙烯酰基，异氰酸酯基，酸酐基和烷氧基甲硅烷基中的两个官能团：（1-1）其中R 1至R 7各自为氢或有机基团，可以相同或不同，或者两个 R 1〜R 7可以相互结合形成环结构。

9. 发明公开

KR1020100053692A 마이크로펌프 장치 有权
标题翻译： MICROPUMP设备
公开(公告)号：KR1020100053692A
公开(公告)日：2010-05-20
申请号：KR1020107008115
申请日：2009-03-17
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 야마모또,가즈끼 , 후꾸오까,마사떼루 , 아까기,요시노리 , 후꾸이,히로지
IPC分类号： B01J19/00 , B81B1/00 , F04B49/06 , G01N37/00
CPC分类号： F04B19/006 , F04B9/12 , F04B19/20 , F04B19/24 , F04F1/06
摘要： Provided is a micropump device exhibiting good controllability of the quantity of gas generated from a gas generating material and the pumping quantity of a micropump. A micropump device comprises a micropump (10) and a controller (50). The micropump (10) comprises a microchannel (22) that is a liquid channel, a gas generating material (34) for generating gas by receiving irradiation of light and supplying the gas to the microchannel (22), and a light source (42) for irradiating the gas generating material (34) with light (44). The controller (50) supplies the light source (42) with a control pulse signal (CS) for flickering the light source (42) in two-level state by repeating a pulse sequence pattern consisting of a plurality of bits of a fixed number, each bit of which can take two states of a first level for lighting the light source (42) and a second level for unlighting the light source (42).
摘要翻译：本发明提供一种显示从气体发生材料产生的气体的量的可控性和微型泵的泵送量的微型泵装置。微型泵装置包括微型泵（10）和控制器（50）。微型泵（10）包括作为液体通道的微通道（22），用于通过接收光的照射并将气体供应到微通道（22）产生气体的气体发生材料（34），以及光源（42）用于用光（44）照射气体发生材料（34）。控制器（50）通过重复由固定数量的多个位组成的脉冲序列模式，以二级状态向光源（42）提供用于使光源（42）闪烁的控制脉冲信号（CS）其每个位可以采取用于点亮光源（42）的第一电平的两个状态和用于使光源（42）反光的第二电平。

10. 发明授权

KR101159977B1 마이크로펌프 장치 有权
标题翻译： MICROPUMP设备
公开(公告)号：KR101159977B1
公开(公告)日：2012-06-25
申请号：KR1020107008115
申请日：2009-03-17
申请人： 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
发明人： 야마모또,가즈끼 , 후꾸오까,마사떼루 , 아까기,요시노리 , 후꾸이,히로지
IPC分类号： B01J19/00 , B81B1/00 , F04B49/06 , G01N37/00
CPC分类号： F04B19/006 , F04B9/12 , F04B19/20 , F04B19/24 , F04F1/06
摘要： 본 발명은 가스 발생 재료로부터의 가스 발생량 나아가서는 마이크로펌프의 송액량의 제어성이 좋은 마이크로펌프 장치를 제공한다. 이 마이크로펌프 장치는 마이크로펌프 (10)과 제어 장치 (50)을 구비하고 있다. 마이크로펌프 (10)은 액체의 유로인 마이크로 유로 (22)와, 광의 조사를 받아 가스를 발생하여 해당 가스를 마이크로 유로 (22)에 공급하는 가스 발생 재료 (34)와, 가스 발생 재료 (34)에 광 (44)를 조사하는 광원 (42)를 갖고 있다. 제어 장치 (50)은 각 비트가 광원 (42)를 점등시키는 제1 레벨과 소등시키는 제2 레벨의 2 상태를 취할 수 있는 일정수의 복수 비트로 이루어지는 펄스열 패턴을 반복함으로써 광원 (42)를 2치 상태로 명멸시키는 제어 펄스 신호 CS를 광원 (42)에 공급한다.

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