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1. 发明授权

KR102152911B1 기판 세정 조성물, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102152911B1
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：KR1020180106336
申请日：2018-09-06
申请人： 세메스 주식회사 , 부경대학교 산학협력단
发明人： 최해원 , 강기문 , 최기훈 , 커랴킨 , 허찬영 , 이재성 , 임권택 , 김용훈 , 이상호
IPC分类号： C11D11/00 , C11D7/28 , C11D7/36 , C11D7/50 , H01L21/02 , H01L21/67

2. 发明授权

KR102061004B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102061004B1
公开(公告)日：2020-01-02
申请号：KR1020170134311
申请日：2017-10-17
申请人： 세메스 주식회사 , 부경대학교 산학협력단
发明人： 최해원 , 최기훈 , 강기문 , 커랴킨 , 허찬영 , 이재성 , 정지수 , 임권택 , 김용훈 , 이상호
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/02

3. 发明授权

KR102225957B1 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102225957B1
公开(公告)日：2021-03-11
申请号：KR1020180108733
申请日：2018-09-12
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 최기훈 , 허찬영 , 김도헌 , 최해원 , 이재성 , 커랴킨 , 정지수
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/677 , B65G49/07
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것으로, 현상액을공급하여상기기판을현상처리하는현상챔버와; 초임계유체를공급하여상기기판을처리하는초임계챔버와; 상기현상챔버와상기초임계챔버사이에상기기판을반송하는반송유닛을가지는반송챔버를포함하는기판처리장치에관한것이다.

4. 发明授权

KR102143139B1 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102143139B1
公开(公告)日：2020-08-12
申请号：KR1020180050048
申请日：2018-04-30
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이재성 , 최기훈 , 최해원 , 커랴킨 , 허찬영 , 김도헌 , 정지수
IPC分类号： H01L21/67

5. 发明公开

KR1020210011544A 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR1020210011544A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：KR1020190088336
申请日：2019-07-22
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 허찬영 , 최기훈 , 강기문 , 김도헌 , 이재성 , 최해원 , 커랴킨 , 고영란
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/302 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판을처리하는방법을제공한다. 일실시예에있어서, 챔버내의처리공간으로초임계유체를공급하여초임계유체로기판을처리하되, 처리공간으로제1밀도의초임계유체를공급하는것과제1밀도보다높은제2밀도의초임계유체를공급하는것을포함할수 있다. 본발명의일 실시예에의하면, 초임계유체를이용하여기판을처리시 기판의처리효율을향상시킬수 있는기판처리방법및 기판처리장치를제공할수 있다.

6. 发明授权

KR101856611B1 기판 처리 장치 및 방법 有权
公开(公告)号：KR101856611B1
公开(公告)日：2018-05-14
申请号：KR1020160030362
申请日：2016-03-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정인일 , 최해원 , 김붕 , 강기문 , 엄기상 , 커랴킨
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는내부에서로조합되어처리공간을제공하는상부하우징및 하부하우징을가지는하우징과; 상기처리공간을외부로부터밀폐하도록상기상부하우징과상기하부하우징사이를밀폐하는실링유닛을포함하되, 상기실링유닛은, 상기상부하우징과상기하부하우징사이에제공되는제 1 실링부재와; 상기제 1 실링부재를감싸도록상기상부하우징과상기하부하우징사이에제공되고, 상기제 1 실링부재와상이한재질의제 2 실링부재를포함한다.

7. 发明公开

KR1020170106792A 기판 처리 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：基板处理设备和方法
公开(公告)号：KR1020170106792A
公开(公告)日：2017-09-22
申请号：KR1020160030362
申请日：2016-03-14
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 정인일 , 최해원 , 김붕 , 강기문 , 엄기상 , 커랴킨
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리장치는내부에서로조합되어처리공간을제공하는상부하우징및 하부하우징을가지는하우징과; 상기처리공간을외부로부터밀폐하도록상기상부하우징과상기하부하우징사이를밀폐하는실링유닛을포함하되, 상기실링유닛은, 상기상부하우징과상기하부하우징사이에제공되는제 1 실링부재와; 상기제 1 실링부재를감싸도록상기상부하우징과상기하부하우징사이에제공되고, 상기제 1 실링부재와상이한재질의제 2 실링부재를포함한다.
摘要翻译：基板处理装置技术领域本发明涉及基板处理装置根据本发明实施例的基板处理设备包括：壳体，具有向上结合以提供处理空间的上壳体和下壳体; 以及密封单元，密封所述上部壳体与所述下部壳体之间以密封所述处理空间，其中所述密封单元包括：设置在所述上部壳体与所述下部壳体之间的第一密封构件; 并且第二密封构件设置在上壳体和下壳体之间以包围第一密封构件并且由与第一密封构件不同的材料制成。

8. 发明授权

KR102211779B1 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102211779B1
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：KR1020190088336
申请日：2019-07-22
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 허찬영 , 최기훈 , 강기문 , 김도헌 , 이재성 , 최해원 , 커랴킨 , 고영란
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/302 , H01L21/324 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판을처리하는방법을제공한다. 일실시예에있어서, 챔버내의처리공간으로초임계유체를공급하여초임계유체로기판을처리하되, 처리공간으로제1밀도의초임계유체를공급하는것과제1밀도보다높은제2밀도의초임계유체를공급하는것을포함할수 있다. 본발명의일 실시예에의하면, 초임계유체를이용하여기판을처리시 기판의처리효율을향상시킬수 있는기판처리방법및 기판처리장치를제공할수 있다.

9. 发明授权

KR102208754B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 有权
公开(公告)号：KR102208754B1
公开(公告)日：2021-01-28
申请号：KR1020170087073
申请日：2017-07-10
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이몽룡 , 조미영 , 연예림 , 커랴킨
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판처리장치및 기판처리방법에관한것이다. 본발명의일 실시예에따른기판처리방법은단위체를포함하는처리액을세정대상이되는기판에도포하는단계; 상기처리액에광을조사하여상기단위체가중합반응시켜, 상기처리액을세정막으로경화시키는단계; 및상기세정막을제거하는단계를포함한다.

10. 发明授权

KR102153122B1 초임계 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102153122B1
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：KR1020180149165
申请日：2018-11-28
申请人： 세메스 주식회사
发明人： 이재성 , 최해원 , 최기훈 , 커랴킨 , 허찬영 , 김도헌 , 정지수
IPC分类号： H01L21/67

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