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1. 发明授权

KR102154198B1 금속 합금 촉매의 제조 방법, 금속 합금 촉매를 이용한 이산화탄소 환원 방법, 및 이산화탄소 환원 시스템 有权
公开(公告)号：KR102154198B1
公开(公告)日：2020-09-09
申请号：KR1020190011399
申请日：2019-01-29
申请人： 서울대학교산학협력단 , 한국과학기술연구원
发明人： 남기태 , 임상원 , 장준호 , 조남헌 , 민병권 , 황윤정 , 이찬우
IPC分类号： B01J37/34 , B01J23/44 , B01J23/50 , B01J35/02 , C25B3/04 , C25B11/04

2. 发明授权

KR102220197B1 콘텐츠 제공 시스템 有权
公开(公告)号：KR102220197B1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：KR1020180118935
申请日：2018-10-05
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 이종민 , 조재현 , 윤인섭 , 이찬우 , 양영순 , 최현대 , 정상원 , 허병철 , 여채원
IPC分类号： G06Q50/10 , G06Q50/20 , G06F16/40
摘要： 본발명의실시예들에따른콘텐츠제공시스템은, 사용자에게콘텐츠를제공하는시스템으로서, 상기콘텐츠를설정된기술분류에따라저장하는콘텐츠저장부, 상기사용자와상기콘텐츠저장부를연결하는인터페이스부, 및상기콘텐츠저장부와상기인터페이스부를제어하는제어부를포함하고, 상기제어부는상기콘텐츠에대한상기사용자의평가에따라상기콘텐츠의기술분류를재설정한다.

3. 发明授权

KR101463234B1 Ｂａ－Ｓｕ―Ｍ―Ｏ 반도체막을 포함하는 염료감응 태양전지 광전극 有权
标题翻译：用于包含BA-SN-M-O半导体膜的太阳能电池的光电电极
公开(公告)号：KR101463234B1
公开(公告)日：2014-11-25
申请号：KR1020130089522
申请日：2013-07-29
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 홍국선 , 신성식 , 석재호 , 김동회 , 김주성 , 박익재 , 이찬우 , 성원모 , 조인선 , 김동욱
IPC分类号： H01L31/04 , H01L31/0224
CPC分类号： H01G9/2027 , H01G9/2059 , Y02E10/542
摘要： Ba-Sn-O 기반의 신규한 다성분계 산화물 반도체막을 구비한 광전극이 개시된다. 본 발명은 도전성 투명 기판; 및 상기 기판 상에 형성되는 다성분계 산화물 반도체막을 포함하는 염료감응 태양전지용 광전극을 제공한다. 상기 반도체막의 조성은 BaSnO
3 : M (여기서, M은 BaSnO
3 에 도핑되며, Sr, Ca, Mg, Zn, Pb, Ti, Mn, Sb, K, In, Zr, Te, Fe, Y, Sm, Sc, Co, La 및 Rh로 이루어진 금속 원소 중 최소한 1종의 금속)으로 표현될 수 있다. 본 발명에 따르면, BaSnO
3 반도체 산화막의 광전 에너지 변환 효율을 향상시켜 고효율의 태양전지 셀의 제조를 가능하게 하는 광전극을 제공할 수 있게 된다.
摘要翻译：公开了一种包括基于Ba-Sn-O的新的多组分氧化物半导体膜的光电极。在本发明中提供了一种用于染料敏化太阳能电池的光电极，其包括导电透明基板; 以及形成在所述基板上的多组分氧化物半导体膜。半导体膜的组成可以表示为BaSnO_3：M。（M掺杂在BaSnO_3上，并且是由Sr，Ca，Mg，Zn，Pb，Ti，Mn，Sb，K，In，Zr，Te，Fe，Y，Sm组成的金属元素中的至少一种金属， Sc，Co，La和Rh。）根据本发明，提供了一种提高BaSnO_3半导体氧化膜的光电能转换效率以能够制造高效率太阳能电池的光电极。

4. 发明授权

KR101445127B1 대기압 플라즈마를 이용한 나노 형광체 처리 방법 有权
标题翻译：用大气压等离子体处理纳米磷光体的方法
公开(公告)号：KR101445127B1
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：KR1020130044219
申请日：2013-04-22
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 홍국선 , 정현석 , 송희조 , 김동회 , 허세윤 , 김주성 , 이찬우
IPC分类号： C09K11/00 , B82B3/00
摘要： Provided is a new treatment method improving light emitting properties of nanophosphor and controlling a change over time. The method for treating nanophosphor of the present invention comprises the steps of: preparing oxide-based nanophosphor; and changing surficial properties of the oxide-based nanophosphor or improving crystallinity by treating the oxide-based nanophosphor by generating atmospheric pressure plasma. According to the present invention, surficial defect of nanophosphor can be removed and the crystallinity can be improved to have an effect of improving the light emitting properties and can control changes in crystal structure when using phosphor, thereby controlling change over time.
摘要翻译：提供了一种改善纳米荧光体的发光性能并控制随时间变化的新的处理方法。本发明的纳米荧光粉处理方法包括以下步骤：制备氧化物基纳米荧光体; 并通过生成大气压等离子体处理氧化物基纳米荧光体，改变氧化物基纳米荧光体的表面性质或改善结晶度。根据本发明，可以除去纳米荧光体的表面缺陷，并且可以提高结晶度以具有改善发光性能的效果，并且可以在使用荧光体时控制晶体结构的变化，从而控制随时间的变化。

5. 发明公开

KR1020120011304A 물분해용 광촉매 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：用于水分解的光催化剂及其合成方法
公开(公告)号：KR1020120011304A
公开(公告)日：2012-02-07
申请号：KR1020100073092
申请日：2010-07-28
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 노태훈 , 조인선 , 이상욱 , 김동욱 , 임동균 , 노희석 , 박상백 , 서세원 , 이찬우 , 홍국선
IPC分类号： B01J23/20 , B01J23/648 , B01J23/847 , B01J37/08
CPC分类号： B01J23/002 , B01J23/648 , B01J37/0027 , B01J37/08 , B01J2523/00 , B01J2523/27 , B01J2523/56 , B01J2523/57
摘要： PURPOSE: A photo-catalyst for water decomposition and a method for manufacturing the same are provided to decompose pure water and to generate hydrogen by generating electrons and holes from photo-catalysts under light irradiation. CONSTITUTION: A photo-catalyst for water decomposition is represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, the M is Nb or Ta. The photo-catalyst carries one metal element selected from Pt, Pd, Ag, Ru, and Ni. The content of the metal element is between 0.1 and 1 weight%. A method for manufacturing the photo-catalyst grinds, mixes, and plasticizes ZnO and a metal oxide. The metal oxide is Nb_2O_5 or Ta_2O_5.
摘要翻译：目的：提供用于水分解的光催化剂及其制造方法，以在光照射下从光催化剂中产生电子和空穴来分解纯水并产生氢。构成：用于水分解的光催化剂由化学式1表示。在化学式1中，M是Nb或Ta。光催化剂携带一种选自Pt，Pd，Ag，Ru和Ni的金属元素。金属元素的含量为0.1〜1重量％。制造光催化剂的方法研磨，混合并增塑ZnO和金属氧化物。金属氧化物为Nb_2O_5或Ta_2O_5。

6. 发明公开

KR1020140122026A 플라즈마를 이용한 티타늄 산화물 탄소 복합체 나노 구조의 제조 방법 有权
标题翻译：制备钛基氧化物的纳米颗粒的方法及其设备
公开(公告)号：KR1020140122026A
公开(公告)日：2014-10-17
申请号：KR1020130038543
申请日：2013-04-09
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 홍국선 , 정현석 , 이찬우 , 이석근 , 정경재 , 김동회 , 송희조 , 노준홍 , 김동욱 , 최수석 , 황용석 , 박재영
IPC分类号： C01G23/04 , B01J19/12 , B82B1/00 , B82B3/00
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0877 , C01G23/047 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C01P2004/64
摘要： 간단하면서 지속적인 합성이 가능한 티타늄 산화물 나노 구조 제조 방법 및 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 티타늄 산화물 나노 구조 제조 방법에서는 반응 챔버 내부에 티타늄 함유 전구체 용액을 투입한 후, 펄스 방식의 전원을 인가하여 플라즈마 아크 방전을 일으켜 티타늄 산화물 나노 구조를 생성한다. 본 발명에 따르면, 나노 구조를 구성하는 조성으로 전극을 구성할 필요가 없고 추가의 기체 공급이 필요 없으므로 기존의 방법에 비하여 간단하고, 용이하며, 공정 비용의 절감뿐만 아니라 대량 생산이 가능하다.
摘要翻译：提供了可以简单且一致地合成二氧化钛纳米结构的二氧化钛纳米结构体的制造方法和装置。在本发明的氧化钛纳米结构体的制造方法中，通过将含钛前体溶液输入到反应室中，并施加脉冲型电力来产生等离子体电弧放电，生成氧化钛纳米结构体。本发明与现有的方法相比简单和容易，并且由于不需要在构成纳米结构的组合物中组成电极并提供额外的气体，所以能够降低工艺成本和批量生产。

7. 发明授权

KR101229824B1 물분해용 광촉매 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：用于水分解的光催化剂及其合成方法
公开(公告)号：KR101229824B1
公开(公告)日：2013-02-05
申请号：KR1020100073092
申请日：2010-07-28
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 노태훈 , 조인선 , 이상욱 , 김동욱 , 임동균 , 노희석 , 박상백 , 서세원 , 이찬우 , 홍국선
IPC分类号： B01J23/20 , B01J23/648 , B01J23/847 , B01J37/08
摘要： 본 발명은 물분해용 광촉매 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 광조사 하에 광촉매로부터 생성된 전자와 정공이 순수한 물을 분해하여 수소를 발생시키는 효과를 가질 수 있다.

8. 发明授权

KR101457057B1 플라즈마를 이용한 티타늄 산화물 탄소 복합체 나노 구조의 제조 방법 有权
标题翻译：制备钛基氧化物碳复合物的纳米颗粒的方法
公开(公告)号：KR101457057B1
公开(公告)日：2014-10-31
申请号：KR1020130038543
申请日：2013-04-09
申请人： 서울대학교산학협력단
发明人： 홍국선 , 정현석 , 이찬우 , 이석근 , 정경재 , 김동회 , 송희조 , 노준홍 , 김동욱 , 최수석 , 황용석 , 박재영
IPC分类号： C01G23/04 , B01J19/12 , B82B1/00 , B82B3/00
CPC分类号： B01J19/088 , B01J2219/0877 , C01G23/047 , C01P2002/72 , C01P2004/03 , C01P2004/64
摘要： 간단하면서 지속적인 합성이 가능한 티타늄 산화물 나노 구조 제조 방법 및 장치를 제공한다. 본 발명에 따른 티타늄 산화물 나노 구조 제조 방법에서는 반응 챔버 내부에 티타늄 함유 전구체 용액을 투입한 후, 펄스 방식의 전원을 인가하여 플라즈마 아크 방전을 일으켜 티타늄 산화물 나노 구조를 생성한다. 본 발명에 따르면, 나노 구조를 구성하는 조성으로 전극을 구성할 필요가 없고 추가의 기체 공급이 필요 없으므로 기존의 방법에 비하여 간단하고, 용이하며, 공정 비용의 절감뿐만 아니라 대량 생산이 가능하다.

9. 发明授权

KR100249453B1 초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법 失效
标题翻译：用于高分辨率耐高温材料的高分子衍生物及其制备方法
公开(公告)号：KR100249453B1
公开(公告)日：2000-03-15
申请号：KR1019980007697
申请日：1998-03-09
申请人： 한국과학기술연구원
发明人： 안광덕 , 한동근 , 김종만 , 강종희 , 이찬우 , 이재형
IPC分类号： C08F222/40
摘要： 본 발명에는 하기 화학식 1로 표시되는 지환족 유도체 및 그의 제조 방법이 개시되어 있다.

-(M
a )
x -(M
b )
y -(M
c )
u -(M
d )
v -

식 중,
M
a 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 노르보르넨 단량체로서 이고,
M
b 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 디노르보르넨 단량체로서 이며,
M
c 는 전자 결핍성 단량체로서 이고,
M
d 는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체로서 이며,
R
1 및 R
2 는 서로 독립적으로 H 또는 산소 원자수 1 내지 4개를 갖는 이탈기, 예를 들면 H, COOH, CH
2 OH, COOC
2 H
5 , COOC(CH
3 )
3 , 메틸 에스테르, 테트라히드로피라닐 에스테르, 테트라히드로푸라닐 에스테르, 1-에톡시에틸 에스테르 또는 t-부틸 카르보네이트이며,
R
3 은 O, NH 또는 N-CH
2 CH
3 이고,
R
4 는 H 또는 CH
3 이고,
R
5 는 CH
3 , CH
2 CH
3 , CH
2 CH
2 CH
2 CH
3 또는 C(CH
3 )
3 이며,
x+y+u+v의 총 몰수를 기준으로,
x는 0 내지 0.2, 바람직하게는 0.01 내지 0.1의 몰비를 갖는 값이고,
y는 0.25 내지 0.5의 몰비를 갖는 값이며,
u는 x+y이고,
v는 0.1 내지 0.33의 몰비를 갖는 값이다.
이러한 지환족 유도체는 ArF 엑시머 레이저 영역에서의 투명성, 고해상도 및 고감도를 갖고, 기존의 노볼락 수지와 대등한 건식 엣칭 내성을 가지며, 기존의 알칼리 현상액을 적용할 수 있고, 특히 웨이퍼에 대한 접착성 및 현상성이 개선된다. 그러므로, 이러한 지환족 유도체를 사용하여 ArF 엑시머 레이저 가공용 고해상도 레지스트 재료를 제조할 수 있다.

10. 发明公开

KR1019990074239A 초고집적 반도체의 고해상도 레지스트 재료용 지환족 유도체 및그의 제조 방법 失效
标题翻译：用于超高集成度半导体高分辨率抗蚀剂材料的脂环衍生物及其制备方法
公开(公告)号：KR1019990074239A
公开(公告)日：1999-10-05
申请号：KR1019980007697
申请日：1998-03-09
申请人： 한국과학기술연구원
发明人： 안광덕 , 한동근 , 김종만 , 강종희 , 이찬우 , 이재형
IPC分类号： C08F222/40
摘要： 본 발명에는 하기 화학식 1로 표시되는 지환족 유도체 및 그의 제조 방법이 개시되어 있다.

-(M
a )
x -(M
b )
y -(M
c )
u -(M
d )
v -

식 중,
M
a 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 노르보르넨 단량체로서 이고,
M
b 는 카르복시 또는 히드록시기를 함유한 디노르보르넨 단량체로서 이며,
M
c 는 전자 결핍성 단량체로서 이고,
M
d 는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체로서 이며,
R
1 및 R
2 는 서로 독립적으로 H 또는 산소 원자수 1 내지 4개를 갖는 이탈기, 예를 들면 H, COOH, CH
2 OH, COOC
2 H
5 , COOC(CH
3 )
3 , 메틸 에스테르, 테트라히드로피라닐 에스테르, 테트라히드로푸라닐 에스테르, 1-에톡시에틸 에스테르 또는 t-부틸 카르보네이트이며,
R
3 은 O, NH 또는 N-CH
2 CH
3 이고,
R
4 는 H 또는 CH
3 이고,
R
5 는 CH
3 , CH
2 CH
3 , CH
2 CH
2 CH
2 CH
3 또는 C(CH
3 )
3 이며,
x+y+u+v의 총 몰수를 기준으로,
x는 0 내지 0.2, 바람직하게는 0.01 내지 0.1의 몰비를 갖는 값이고,
y는 0.25 내지 0.5의 몰비를 갖는 값이며,
u는 x+y이고,
v는 0.1 내지 0.33의 몰비를 갖는 값이다.
이러한 지환족 유도체는 ArF 엑시머 레이저 영역에서의 투명성, 고해상도 및 고감도를 갖고, 기존의 노볼락 수지와 대등한 건식 엣칭 내성을 가지며, 기존의 알칼리 현상액을 적용할 수 있고, 특히 웨이퍼에 대한 접착성 및 현상성이 개선된다. 그러므로, 이러한 지환족 유도체를 사용하여 ArF 엑시머 레이저 가공용 고해상도 레지스트 재료를 제조할 수 있다.

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