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1. 发明公开

KR1020030040727A 반도체 제조용 버퍼 카세트 无效
标题翻译：用于制作半导体的缓冲盒
公开(公告)号：KR1020030040727A
公开(公告)日：2003-05-23
申请号：KR1020010071145
申请日：2001-11-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이상환 , 박봉석
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A buffer cassette for fabricating a semiconductor is provided to enhance the productivity in a semiconductor fabrication process by minimizing a backup time using a teaching process. CONSTITUTION: A buffer cassette(100) includes a housing(110) and a plurality of slots(120). The housing has a rectangular shape. The housing includes an open front portion and an open rear portion. The slots(120) are formed on both sides of the inside of the housing. A robot arm(140) is used for loading a wafer on the slots. The buffer cassette is used for performing an interfacing function. A handle(130) is formed at an upper end of the slots in order to transfer the buffer cassette. A sensor(200) is installed at the buffer cassette. The sensor is formed with a light transmitting device(210) and a light receiving device(220). A sensing hole(151) is formed at a teaching wafer(150).
摘要翻译：目的：提供用于制造半导体的缓冲盒，以通过使用教学过程最小化备用时间来提高半导体制造过程中的生产率。构成：缓冲盒（100）包括壳体（110）和多个槽（120）。外壳为矩形。壳体包括敞开的前部和敞开的后部。槽（120）形成在壳体内侧的两侧。机器人臂（140）用于将晶片装载在槽上。缓冲盒用于执行接口功能。手柄（130）形成在槽的上端，以便传送缓冲盒。传感器（200）安装在缓冲盒上。传感器形成有光发射装置（210）和光接收装置（220）。传感孔（151）形成在教导晶片（150）处。

2. 发明公开

KR1020020085347A 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법 无效
标题翻译：曝光装置和曝光方法
公开(公告)号：KR1020020085347A
公开(公告)日：2002-11-16
申请号：KR1020010024816
申请日：2001-05-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박태신 , 박봉석
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus and an exposure method using the same are provided to reduce a production cost and improve productivity by testing a sheet of wafer and reducing a time for testing the wafer. CONSTITUTION: A loading/unloading region(40) is used for loading or unloading a wafer. An HDMS region(42) is used for applying an adhesive on a surface of the wafer. A coating region(44) is used for forming a photoresist layer on the surface of the wafer including the adhesive. A soft bake region(46) is used for removing solvent from the photoresist layer formed on the surface of the wafer. A cooling region is used for cooling the heated wafer in an exposure process. An exposure region(50) is used for performing the exposure process for the wafer including the photoresist layer. A bake region(52) is used for performing a baking process after performing the exposure process. A developing region(54) is used for removing selectively a positive photoresist layer or a negative photoresist layer. A hard bake region(55) is used for performing a hard baking process after performing the developing process. A wafer test region(56) is used for detecting bad wafers. A pickup region(58) is used for picking up the bad wafers.
摘要翻译：目的：提供一种曝光装置和使用其的曝光方法，以通过测试一片晶片并减少测试晶片的时间来降低生产成本并提高生产率。构成：装载/卸载区域（40）用于装载或卸载晶片。 HDMS区域（42）用于在晶片的表面上施加粘合剂。涂覆区域（44）用于在包括粘合剂的晶片的表面上形成光致抗蚀剂层。软烘烤区域（46）用于从形成在晶片表面上的光致抗蚀剂层中除去溶剂。冷却区域用于在曝光过程中冷却加热的晶片。曝光区域（50）用于对包括光致抗蚀剂层的晶片进行曝光处理。烘烤区域（52）用于在进行曝光处理之后进行烘烤处理。显影区域（54）用于选择性地去除正性光致抗蚀剂层或负性光致抗蚀剂层。硬烘烤区域（55）用于在进行显影处理之后执行硬烘焙处理。晶片测试区域（56）用于检测不良晶片。拾取区域（58）用于拾取不良晶圆。

3. 发明授权

KR100254793B1 반도체장치 제조설비의 케미컬 분사장치 및 그 장치에 사용되는폐액조 失效
标题翻译：半导体器件和斜槽的化学爆炸
公开(公告)号：KR100254793B1
公开(公告)日：2000-05-01
申请号：KR1019970066716
申请日：1997-12-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최덕규 , 박봉석 , 박순종
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： B08B9/00 , Y10T137/4259
摘要： PURPOSE: Equipment for chemical spray of semiconductor device manufacturing system and waste solution tank for the equipment are provided to prevent corrosion of a generator and an accident due to the corrosion and to make easy to treat waste solution. CONSTITUTION: Developing solution is sprayed on a loaded wafer(34) through a supply pipe. Spraying the developing solution, an air valve(38) is closed, a generator(42) is not operated, and deionized water is not injected. An exposed photoresist layer on the wafer is melted selectively by the developing solution. After passing designated time, spraying the development solution is stopped and a suck back process is started. The generator(42) is operated to vacuumize a pipe(37), and the air valve(38) is opened for one second. Opening the air valve(38), deionized water is furnished into the generator(42) to prevent polluting from the developing solution. A running fluid speed controller(46) changes the velocity of deionized water.
摘要翻译：目的：提供半导体器件制造系统和废液处理设备的化学喷雾设备，以防止发生器腐蚀和腐蚀引起的事故，并易于处理废液。构成：显影溶液通过供应管道喷涂在装载的晶片（34）上。喷涂显影液，关闭空气阀（38），发生器（42）不工作，不注入去离子水。晶片上暴露的光致抗蚀剂层由显影液选择性地熔融。经过指定时间后，停止喷涂显影液并开始回吸处理。操作发电机（42）以使管道（37）抽真空，空气阀（38）打开一秒钟。打开空气阀（38），将去离子水装入发生器（42），以防止显影液污染。运行中的流体速度控制器（46）改变去离子水的速度。

4. 发明授权

KR100084857B1 화합물 반도체장치 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR100084857B1
公开(公告)日：1995-05-17
申请号：KR1019910023578
申请日：1991-12-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박봉석 , 김기환
IPC分类号： H01L29/20

5. 发明公开

KR1019930020705A 화합물 반도체장치 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019930020705A
公开(公告)日：1993-10-20
申请号：KR1019920005180
申请日：1992-03-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박봉석 , 김기환
IPC分类号： H01L27/15
摘要： 이 발명은 LD와 MESFET를 OEIC화한 화합물 반도체장치 및 그 제조방법에 관한 것으로써 결정면이 (001)인 화합물 반도체기판의 표면에 주플래트와 20~30°정도의 각도를 이루는 절연막을 형성하고 에피택셜층들을 성장하면 결정성장 특성에 의해 절연막의 상부에 삼각형의 보이드가 형성되는 것을 이용하여 1단계의 에피택시에 의해 게이트전극 하부에 형성된 보이드에 의해 짧은 유효채널을 가지는 MESFET와 P형전극 하부의 양측에 형성된 보이드들에 의해 전류의 흐름을 제한하는 LD를 단차없이 동일한 칩상에 형성한다. 따라서, MESFET와 LD사이에 단차가 발생되지 않으므로 MESFET의 작은 게이트전극의 길이와 보이드에 의해 유효채널의 길이를 줄일 수 있어 고주파동작 특성을 향상시킬 수 있으며, LD에서 보이드들에 활성층을 한정하여 전류의 확산을 방지하므로 임계전류를 낮게하고 또한, 상술한 화합물 반도체장치는 1단계의 결정성정으로 형성하므로 성장된 층들의 특성이 양호하고 제조공정이 간단하다.

6. 发明公开

KR1019930015042A 화합물 반도체장치 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR1019930015042A
公开(公告)日：1993-07-23
申请号：KR1019910023578
申请日：1991-12-20
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박봉석 , 김기환
IPC分类号： H01L29/20
摘要： (001)결정면을 가지며 표면에 주플래이트와 20∼40°정도의 각을 이루는 절연막을 형성하고 에피택셜층을 성장하면 결정성장특성에 의해 절연막의 상부에 삼각형의 보이드가 형성되는 것을 이용하여 2번의 에피택시에 의해 전극통로가 내부에 형성되고 게이트전극의 하부와 P형전극 하부의 양측에 보이드들을 가지는 MESFET와 LD를 단차없이 동일침상에 형성한다. 따라서, MESFET와 LD사이에 단차가 없으므로 MESFET의 게이트폭을 작게 만들수 있으며, 또한 삼각형으로 생성된 보이드에 의해 MESFET의 실질적인 게이트 길이를 줄일 수 있어 고주파 동작 특성을 향상시킬 수 있고, P형전극의 하부 양측의 보이드들에 의해 전류제어를 양호하게 하고 보이드들사이의 폭을 좁일 수 있으므로 임계전류를 낮게 할 수 있다. 그리고 MESFET와 LD사이에 전류통로를 외부에 형성하지 않고 내부에 형성하므로 기생캐패시턴스 및 저항등에 의한 전류특성 저하가 발생되지 않고 본딩하기 위한 패드가 필요하지 않으므로 면적을 줄일 수 있으며, 또한 전류통로를 외부에 별도로 형성하지 않으므로 제조공정이 간단하다.

7. 发明授权

KR102114729B1 저장된 정보 표시 방법 및 그 전자 장치 有权
公开(公告)号：KR102114729B1
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：KR1020130100731
申请日：2013-08-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김상호 , 김응하 , 김태형 , 문주현 , 박봉석
IPC分类号： H04N5/93 , G06F3/01

8. 发明公开

KR1020030010257A 반도체 제조용 포토레지스트 도포장치 无效
标题翻译：用于半导体制造的光电涂层装置
公开(公告)号：KR1020030010257A
公开(公告)日：2003-02-05
申请号：KR1020010045144
申请日：2001-07-26
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박봉석 , 이상환
IPC分类号： H01L21/027
摘要： PURPOSE: A photoresist coating apparatus for semiconductor fabrication is provided to remove effectively contaminants stacked on an exhaust tube by injecting a diluent into the exhaust tube. CONSTITUTION: A wafer chuck(110) is installed in the inside of a housing(100). A wafer(150) is loaded on the wafer chuck(110) in order to perform a photoresist coating process. A nozzle(140) is used for injecting photoresist solution on an upper surface of the wafer(150). An exhaust tube(210) is installed at a bottom of the housing(100) in order to exhaust contaminants of the photoresist coating process to the outside. An injection portion injects a diluent into the inside of the exhaust tube(210) in order to remove the contaminants. The injection portion is formed with a diluent supply portion(260) and a control valve(270).
摘要翻译：目的：提供一种用于半导体制造的光致抗蚀剂涂覆装置，通过将稀释剂注入排气管中，有效地除去堆放在排气管上的污染物。构成：将晶片卡盘（110）安装在壳体（100）的内部。将晶片（150）装载在晶片卡盘（110）上以进行光致抗蚀剂涂覆处理。喷嘴（140）用于将光致抗蚀剂溶液注入到晶片（150）的上表面上。排气管（210）安装在壳体（100）的底部，以将光刻胶涂覆过程的污染物排出到外部。注射部分将稀释剂注入排气管（210）的内部，以除去污染物。注射部分形成有稀释剂供应部分（260）和控制阀（270）。

9. 发明授权

KR100099629B1 화합물 반도체장치 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR100099629B1
公开(公告)日：1996-05-17
申请号：KR1019920005180
申请日：1992-03-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박봉석 , 김기환
IPC分类号： H01L27/15

10. 发明授权

KR101515467B1 서비스 제공 방법 및 장치, 단말 제어 방법 및 장치 有权
标题翻译：服务提供方法和装置，终端控制方法和装置
公开(公告)号：KR101515467B1
公开(公告)日：2015-05-04
申请号：KR1020080035820
申请日：2008-04-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이승호 , 김재환 , 박봉석 , 김유성
IPC分类号： H04W8/24 , H04W4/16
摘要： 본 발명은 위젯 서비스를 제공하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 제 1 공간에서 위젯 어플리케이션을 통하여 제공되는 서비스를, 제 2 공간에서 제공받고자 하는 사용자 요청 신호를 수신하고, 사용자 요청 신호에 대응하여, 적어도 하나의 위젯 어플리케이션에 관한 정보를 포함하는 외부 서버로부터 상기 제 2 공간에서 상기 서비스를 제공하는데 필요한 정보를 수신하며, 수신된 정보를 이용하여 제 2 공간에서 서비스를 제공한다. 제 1 공간 및 상기 제 2 공간 중 하나는 표시 수단에 표시된 제 1 웹페이지이며, 나머지 하나는 표시 수단에 표시된 제 2 웹페이지 또는 단말의 바탕 화면이다.
상술한 구성으로 인하여, 웹 위젯 및 데스크탑 위젯을 공간의 제약없이 자유롭게 사용할 수 있다는 효과가 있다.
위젯, 어플리케이션, 이동
摘要翻译： 1。一种用于提供小部件服务的方法和装置，所述方法包括：接收用户请求信号以接收通过小部件应用程序在第二空间中的第一空间中提供的服务; 从包括关于一个窗件应用程序的信息的外部服务器接收在第二空间中提供服务所需的信息，并且使用接收到的信息在第二空间中提供服务。第一空间和第二空间中的一个是显示装置上显示的第一网页，另一个是显示装置上显示的第二网页或终端的桌面。

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