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    • 1. 发明授权
    • 전이금속박막형상 제어에 의한 탄소나노튜브의 수직 성장방법
    • 通过改变过渡金属薄膜的形态,垂直排列碳纳米管的生长方法
    • KR100513713B1
    • 2005-09-07
    • KR1020000025333
    • 2000-05-12
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 이영희이병수최영철김종민최원봉이내성
    • H01L21/20B82Y40/00
    • 본 발명은 전이금속박막의 표면형상을 제어함에 의해 수직으로 성장되는 탄소나노튜브의 직경, 밀도, 길이를 마음대로 조절할 수 있는 전이금속박막의 표면형상을 제어에 의한 탄소나노튜브 성장 방법을 기재한다. 본 발명에 따른 전이금속박막형상 제어에 의한 탄소나노튜브의 수직 성장 방법은, (가) 형성되는 결정의 형상과 크기를 원하는 모양과 크기로 조절하면서 상기 기판 상에 전이금속박막을 증착하는 단계; 및 (나) 상기 증착된 전이금속박막 상에 탄소나노튜브를 성장시키는 단계;를 포함한다. 먼저, (가) 단계의 기판 준비 방법은 일반적으로 sputter를 이용하는 경우 sputtering power 밀도를 조절하거나 증착온도 또는 열처리 온도를 변화시켜 Ni, Co, Fe 혹은 그들 혼합물의 grain 크기 및 밀도를 조절한다. 다음에, (나) 단계의 탄소나노튜브의 합성 증착은 실리콘기판이나 유리기판 위에 증착된 전이금속박막을 반응로 안으로 옮겨 플라즈마화학기상증착법이나 열화학증착법으로 메탄가스, 아세틸렌가스, 에틸렌가스, 프로판가스등의 탄화수소가스를 반응로 내에 흘려줌으로써, 상기 촉매금속막 위에 탄소나노튜브를 성장시킨다.
    • 2. 发明公开
    • 필드 에미터의 제조 방법
    • 现场发射机的制造方法
    • KR1020000009237A
    • 2000-02-15
    • KR1019980029511
    • 1998-07-22
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 이내성한인택최원봉최준희
    • H01J9/02
    • PURPOSE: A manufacturing method of a field emitter is provided to lower operating voltage required to electron emission and present afield emitter having an amorphous carbon micro-tip. CONSTITUTION: The present invention discloses a manufacturing method of a field emitter comprising: a step forming stripe shape cathode electrodes on substrate; a step forming an insulation layer on the cathode electrodes and the exposed substrate; a step forming a gate layer on the insulation layer; a step forming plural holes by etching from the top of the gate layer to the top of the cathode electrodes; a step forming a divide layer on the gate layer; a step forming micro-tips having prescribed height within the holes by using amorphous carbon particles; and a step removing the divide layer.
    • 目的:提供一种场发射器的制造方法,以降低电子发射所需的工作电压,并提供具有无定形碳微型尖端的远场发射体。 构成:本发明公开了一种场致发射体的制造方法,包括:在基板上形成条状阴极电极的台阶; 在阴极电极和暴露的基板上形成绝缘层的步骤; 在所述绝缘层上形成栅极层的步骤; 通过蚀刻从栅极层的顶部到阴极的顶部形成多个孔的台阶; 在所述栅极层上形成分割层的步骤; 通过使用无定形碳颗粒在孔内形成具有规定高度的微尖端的步骤; 以及去除划分层的步骤。
    • 4. 发明公开
    • 2차 전자 증폭 구조체를 채용한 전계 방출 소자
    • 使用二次电子放大结构的场发射显示
    • KR1020010077687A
    • 2001-08-20
    • KR1020000005649
    • 2000-02-07
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 이원태최원봉한인택
    • H01J1/30C01B31/02
    • PURPOSE: A field emission display using a secondary electron amplification structure is provided to be capable of enhancing brightness or lowering drive voltage by stacking a fluoride film or an oxide film on a carbon nanotube to increase a secondary electron emission coefficient. CONSTITUTION: A front glass substrate(200) and a rear glass substrate(110) are arranged oppositly each other with a constant gap sustained by spacers(150). Anodes(160) and cathodes(120) are respectively formed on opposing surfaces of the front substrate(200) and rear substrate(110). An insulating layer(130) is formed on the rear substrate(110) including the cathodes. Electron emission micro tips(120) are formed on the cathodes(120) exposed through holes(130a) formed on the insulating layer(130). Gates(140) are formed on the insulating layer(130) to have apertures(140a) corresponding to the holes(130a). A fluorescent layer is formed on the anodes(160). A carbon nanotube(191) is formed on walls of the gate apertures(140a). MgO layer(192) is formed on the carbon nanotube.
    • 目的:使用二次电子放大结构的场致发射显示器能够通过在碳纳米管上层叠氟化物膜或氧化膜来提高亮度或降低驱动电压,从而增加二次电子发射系数。 构成:前面玻璃基板(200)和后玻璃基板(110)以间隔物(150)保持的恒定的间隙相对配置。 阳极(160)和阴极(120)分别形成在前基板(200)和后基板(110)的相对表面上。 在包括阴极的后衬底(110)上形成绝缘层(130)。 电子发射微尖端(120)形成在通过形成在绝缘层(130)上的孔(130a)暴露的阴极(120)上。 在所述绝缘层(130)上形成有对应于所述孔(130a)的孔(140a)的门(140)。 在阳极(160)上形成荧光层。 在门孔(140a)的壁上形成碳纳米管(191)。 在碳纳米管上形成MgO层(192)。
    • 5. 发明公开
    • 필드 에미터 및 그 제조방법
    • 现场发射器及其制造方法
    • KR1020000039520A
    • 2000-07-05
    • KR1019980054873
    • 1998-12-14
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 한인택이내성최원봉
    • H01J9/02H01J1/304
    • PURPOSE: A method for manufacturing a field emitter is provided to increase the amount of the discharged electrons by increasing the amount of the current with respect to the tip. CONSTITUTION: A cathode layer, an insulating layer, and a gate layer are sequentially deposited on a glass substrate. A gate having an opening of a predetermined diameter is formed by etching the gate layer. A hole which correspond to the opening is formed in the insulating layer by etching. A dividing layer is formed by the electric beam depositing method. A single tip is formed by sequentially depositing a first depositing layer, a second depositing layer, and a third depositing layer. Portions of the first, second, and third depositing layers are removed by etching the divided layer.
    • 目的:提供一种用于制造场发射器的方法,通过增加电流相对于尖端的量来增加放电电子的量。 构成:阴极层,绝缘层和栅极层依次沉积在玻璃基板上。 通过蚀刻栅极层形成具有预定直径的开口的栅极。 通过蚀刻在绝缘层中形成与开口对应的孔。 通过电子束沉积法形成分隔层。 通过依次沉积第一沉积层,第二沉积层和第三沉积层形成单个尖端。 通过蚀刻分割层来去除第一,第二和第三沉积层的一部分。
    • 6. 发明公开
    • 전기 영동법에 의한 필드 에미터의 제조방법
    • 电解法制备场发射体的方法
    • KR1020000021034A
    • 2000-04-15
    • KR1019980039946
    • 1998-09-25
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 최원봉이내성한인택
    • H01J9/02
    • PURPOSE: A method for fabricating field emitter is provided to increase the life of an emitter by improving the endurance by an ionization gad, reducing a work function and a driving voltage of the emitter. CONSTITUTION: A method includes the steps of: installing a substrate where a field emitter(20) is formed to be separated from an electrode plate in a vessel filled with a diamond powder solution; precipitating a diamond powder(25a) in a room temperature atmosphere on a surface of the field emitter by applying a bias voltage on the electrode plate from a power source; and performing a low temperature thermal treatment to the field emitter deposited with the diamond powder after taking out the field emitter from the vessel. The work function of the field emitter is lowered by growing the field emitter, and the life of the field is increased by increasing endurance.
    • 目的:提供一种制造场致发射体的方法,通过提高电离钆的耐久性,降低功函数和发射极的驱动电压来增加发射极的寿命。 构成:一种方法包括以下步骤:在填充有金刚石粉末溶液的容器中安装形成场致发射体(20)以与电极板分离的基板; 通过从电源施加偏置电压,在场致发射体的表面上在室温气氛中沉淀金刚石粉末(25a); 并且在从容器中取出场致发射体之后,对沉积有金刚石粉末的场致发射体进行低温热处理。 通过增加场发射器来降低场发射器的功函数,并且通过增加耐久性来增加场的寿命。
    • 7. 发明公开
    • 전이금속박막형상 제어에 의한 탄소나노튜브의 수직 성장방법
    • 通过改变过渡金属薄膜的形态来快速生长碳纳米管的方法
    • KR1020010103984A
    • 2001-11-24
    • KR1020000025333
    • 2000-05-12
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 이영희이병수최영철김종민최원봉이내성
    • H01L21/20B82Y40/00
    • 본 발명은 전이금속박막의 표면형상을 제어함에 의해 수직으로 성장되는 탄소나노튜브의 직경, 밀도, 길이를 마음대로 조절할 수 있는 전이금속박막의 표면형상을 제어에 의한 탄소나노튜브 성장 방법을 기재한다. 본 발명에 따른 전이금속박막형상 제어에 의한 탄소나노튜브의 수직 성장 방법은, (가) 형성되는 결정의 형상과 크기를 원하는 모양과 크기로 조절하면서 상기 기판 상에 전이금속박막을 증착하는 단계; 및 (나) 상기 증착된 전이금속박막 상에 탄소나노튜브를 성장시키는 단계;를 포함한다. 먼저, (가) 단계의 기판 준비 방법은 일반적으로 sputter를 이용하는 경우 sputtering power 밀도를 조절하거나 증착온도 또는 열처리 온도를 변화시켜 Ni, Co, Fe 혹은 그들 혼합물의 grain 크기 및 밀도를 조절한다. 다음에, (나) 단계의 탄소나노튜브의 합성 증착은 실리콘기판이나 유리기판 위에 증착된 전이금속박막을 반응로 안으로 옮겨 플라즈마화학기상증착법이나 열화학증착법으로 메탄가스, 아세틸렌가스, 에틸렌가스, 프로판가스등의 탄화수소가스를 반응로 내에 흘려줌으로써, 상기 촉매금속막 위에 탄소나노튜브를 성장시킨다.
    • 8. 发明公开
    • 전기 영동법을 이용한 카본나노튜브 필드 에미터의 제조 방법
    • 使用电泳制备碳纳米管场发射体的方法
    • KR1020010017543A
    • 2001-03-05
    • KR1019990033119
    • 1999-08-12
    • 삼성에스디아이 주식회사
    • 최원봉김훈영정득석강정호
    • H01J1/30C01B31/02B82Y40/00
    • B82Y10/00H01J9/025H01J2201/30469Y10S977/842Y10S977/844Y10S977/847H01J1/30B82Y40/00C01B32/05
    • PURPOSE: A method of fabricating a carbon-nanotube field emitter using electrophoresis is provided which attaches carbon-nanotube as a tip for emitting electrons to reduce work function and driving voltage of the emitter and improve endurance to ionized gases generated during operation of the emitter. CONSTITUTION: A stripe-shaped cathode(12) is formed on a substrate(11), and an insulating layer(13) having a hole(13a) is formed on the cathode. A metal gate(14) having an opening(14a) corresponding to the hole is formed on the insulating layer, and a carbon-nanotube tip formed on the exposed surface of the cathode. The substrate on which the cathode is formed is placed in a container filled with carbon-nanotube powder solution, having a predetermined distance from an electrode plate. A predetermined bias voltage is applied to the electrode plate to attach the carbon-nanotube powder(25) to the exposed surface of the cathode through the hole of the insulating layer at the normal temperature. Then, the substrate to which the carbon-nanotube powder is attached is taken out of the container to be heat-processed at a predetermined temperature.
    • 目的:提供一种使用电泳制造碳纳米管场发射体的方法,其将碳纳米管作为用于发射电子的尖端,以降低发射极的功函数和驱动电压,并提高发射极运行期间产生的电离气体的耐久性。 构成:在基板(11)上形成条状阴极(12),在阴极上形成具有孔(13a)的绝缘层(13)。 在绝缘层上形成具有与孔对应的开口(14a)的金属栅极(14),形成在阴极的露出面上的碳纳米管尖端。 将其上形成阴极的基板放置在填充有与电极板预定距离的碳纳米管粉末溶液的容器中。 将预定的偏置电压施加到电极板,以在正常温度下通过绝缘层的孔将碳纳米管粉末(25)附着到阴极的暴露表面。 然后,将附着有碳纳米管粉末的基板从规定温度下进行热处理的容器取出。