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1. 发明授权

KR100945846B1 도광판 진공성형 장치 및 진공성형 방법 失效
标题翻译：真空模具导光板的设备和方法
公开(公告)号：KR100945846B1
公开(公告)日：2010-03-12
申请号：KR1020080035144
申请日：2008-04-16
申请人： 비전하이테크 주식회사 , 주식회사 미뉴타텍
发明人： 임용진 , 김성훈 , 송문섭 , 백승준 , 김태완 , 최세진
IPC分类号： G02F1/13357 , G02F1/13
摘要： 본 발명은, 수지가 도포된 도광판에 광학 패턴을 성형하기 위한 진공 성형 장치와 진공 성형 방법에 관한 것이다. 진공 성형 장치는, 통상의 측벽과 측벽의 상방과 하방을 밀폐하는 커버와 바닥판으로 구성된 진공 체임버 본체를 구비하고, 진공 체임버 본체 내부에는, 도광판에 광학 패턴을 전사하는 스탬퍼와, 스탬퍼의 가장자리를 고정하는 승강 가능한 스탬퍼 프레임을 포함하며, 상기 커버, 측벽 및 바닥판에 의해 밀폐되는 공간은, 상기 스탬퍼 프레임의 하강에 의하여, 상부 체임버와 하부 체임버로 분할된다. 도광판 진공 성형 방법은, a) 도광판에 수지를 도포하는 단계, b) 상기 도광판을 진공 체임버 내에 장착하고 진공을 형성하는 단계, c) 진공 상태에서 상기 수지가 도포된 도광판의 일면에 스탬퍼를 접촉시키는 단계, d) 상기 스탬퍼의 상부 영역과 하부 영역이 서로에 대하여 기밀 상태가 되도록 유지하는 단계, 및 e) 상기 스탬퍼를 경계로 압력 차이를 발생시켜 스탬퍼를 도광판에 밀착시키는 단계를 포함한다.
본 발명에 따르면, 복잡한 형태의 광학 패턴에도 적용 가능할 뿐만 아니라, 도광판의 크기가 대형화하더라도 도광판에 형성된 광학 패턴에 미성형부가 발생하거나 기포 등의 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
진공 성형, 도광판, 스탬퍼, 광학 패턴

2. 发明公开

KR1020090109755A 도광판 진공성형 장치 및 진공성형 방법 失效
标题翻译：真空模具导光板的设备和方法
公开(公告)号：KR1020090109755A
公开(公告)日：2009-10-21
申请号：KR1020080035144
申请日：2008-04-16
申请人： 비전하이테크 주식회사 , 주식회사 미뉴타텍
发明人： 임용진 , 김성훈 , 송문섭 , 백승준 , 김태완 , 최세진
IPC分类号： G02F1/13357 , G02F1/13
CPC分类号： G02F1/133524 , B29C39/42 , B29C59/04 , G02B6/0065
摘要： PURPOSE: A light guide plate vacuum forming apparatus and a vacuum formation method capable of forming an optical pattern are provided to prevent defect without molding a stamper and the light guide plate. CONSTITUTION: A light guide plate vacuum forming apparatus(100) has a vacuum chamber main body(140). The light guide plate vacuum forming apparatus is the apparatus for shaping the optical pattern on the light guide plate. The vacuum chamber main body is comprised of a cover and the bottom plate. A stamper and the stamper frame are included inside the vacuum chamber main body. The stamper transfers the optical pattern in the light guide plate. The stamper fixes the edge of a stamper.
摘要翻译：目的：提供能够形成光学图案的导光板真空成形装置和真空成形方法，以防止在不压制压模和导光板的情况下的缺陷。构成：导光板真空成型装置（100）具有真空室主体（140）。导光板真空成型装置是用于使导光板上的光学图案成形的装置。真空室主体由盖和底板构成。压模和压模框架包括在真空室主体内。压模转移导光板中的光学图案。压模固定压模的边缘。

3. 发明授权

KR101435139B1 도광판 무늬형용 활성에너지선경화형 수지 조성물 有权
标题翻译：用光导向板图案的活性能量光可固化的树脂组合物
公开(公告)号：KR101435139B1
公开(公告)日：2014-09-02
申请号：KR1020110115555
申请日：2011-11-08
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 박태순 , 홍석원 , 최세진 , 김태완 , 백승준
IPC分类号： C09D4/00 , C09D7/12
摘要： 본 발명은 활성에너지선경화형 수지 조성물, 그 제조방법, 그를 포함한 도광판, 백라이트 유닛 및 디스플레이 장치에 관한 것으로서, 구체적으로 본 발명에서 제공하는 수지 조성물의 경화로 인하여 도광판에 기존 대비 저렴한 비용으로 패턴을 형성하여 박막형 디스플레이에 적용하기 위한 활성에너지선경화형 수지 조성물 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 활성에너지선경화형 수지 조성물을 이용하여 생산된 도광판은 기존의 사출, 실크인쇄 및 레이저 방식과 비교하여, 용이하게 다양한 패턴을 형성할 수 있고, 휘도 균일도, 색변화와 내황변성 등 물리적, 광학적 특성이 동등 수준 이상으로 우수한 장점이 있다. 그리고, 기재와의 부착력이 탁월하여 도광판에 별도의 전처리 없이 무늬형을 형성할 수 있고, 그 결과 공정이 간단해지는 장점 또한 가지고 있다. 나아가, 경화속도가 빨라, 빠른 생산속도와 적은 비용으로 원가절감을 이룰 수 있어 경제성 또한 뛰어나다.

4. 发明公开

KR1020090053102A 몰드 시트 조성물 및 이를 이용한 몰드 시트 제조방법 有权
标题翻译：模具用组合物和使用其的模具片的制备方法
公开(公告)号：KR1020090053102A
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：KR1020070119763
申请日：2007-11-22
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 최세진 , 김태완 , 백승준
IPC分类号： G03F7/028
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/029 , G03F7/0295 , G03F7/0388 , Y10T428/24802
摘要： 본 발명은 (1) 불포화 이중결합을 갖는 활성에너지선 경화형 화합물 및 (2) 상기 성분 (1) 100 중량부를 기준으로 광개시제 0.1 내지 20 중량부를 포함하는, 패턴 형성용 몰드 시트 조성물 및 이 조성물의 활성에너지선 경화물을 포함하며, 원하는 패턴의 음각이 형성되어 있는 패턴 형성용 몰드 시트를 제공한다.

5. 发明公开

KR1020070038892A 자외선 경화수지의 몰딩 방식을 이용한 무늬형 장식재제조방법 및 그 장식재 有权
标题翻译：通过模塑超紫外线固化树脂的图案的制造工艺
公开(公告)号：KR1020070038892A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：KR1020060097343
申请日：2006-10-02
申请人： 박기홍 , 주식회사 미뉴타텍
发明人： 박기홍 , 윤철 , 유미연 , 최세진 , 김태완
IPC分类号： B32B27/08 , B44C3/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B44C1/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要： 본 발명은 자외선 경화수지의 몰딩방식을 이용한 무늬형 장식재의 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 휴대폰 혹은 MP3와 같은 각종 전기전자 제품의 윈도우나 기타 액세서리 등의 장식용 무늬형 외장재를 제작하는 데 있어서, 플라스틱 필름, 폴리카보네이트(polycarbonate, PC)판, 아크릴(acryl)판, 금속(SUS 등), 유리 등의 각종 기판 상에 코팅된 자외선 경화수지에 무늬형이 형성된 활성에너지선 그 중에서도 특히 자외선 경화형 유기몰드 또는 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane)을 소재로 한 탄성체 몰드를 사용하여 몰딩을 가하고 자외선을 조사함으로써 무늬형을 형성시켜 원하는 무늬형을 가진 각종 장식재를 생산할 수 있는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 제조방법은 종래 무늬형 마스터 롤을 이용한 열압착 및 접착 방식에 비해 흠집 및 결함의 발생 빈도가 현저히 낮아 수율 및 경제성이 높고 고품질의 대면적 무늬형 장식재의 제작이 용이하여 작업성과 생산성이 우수할 뿐만 아니라, 기존 방식에 비해 고휘도의 무늬상을 가진 장식재를 제작할 수 있다.
무늬형 장식재, 자외선 경화수지, 몰드

6. 发明公开

KR1020040024725A 광학 필름 및 그 제조 방법과 이를 이용한 액정표시장치용백라이트 유니트 无效
标题翻译：光学薄膜及其制造方法及使用其的液晶显示器的背光单元
公开(公告)号：KR1020040024725A
公开(公告)日：2004-03-22
申请号：KR1020020056153
申请日：2002-09-16
申请人： 주식회사 미뉴타텍 , 미래나노텍(주)
发明人： 백승준 , 김태완 , 최세진 , 김연상
IPC分类号： G02F1/13357
CPC分类号： G02F1/133615 , C08J5/18 , G02B1/10 , G02B6/0036 , G02B6/0051 , G02F1/133524
摘要： PURPOSE: An optical film and its fabrication method and a back-light unit for a liquid crystal display using the same are provided to reduce the number of using the optical film and also to achieve high brightness of the optical film as reducing cost of the back-light unit. CONSTITUTION: The optical film(150) includes a transparent substrate(151), and projected parts(153) which are projected in a cone shape on one plane of the substrate and are arranged orthogonal to each other, and condense a light incident from the substrate. The projected parts are arranged without a separation gap each other, or with a separation gap of 0.1-1 times of a pitch of the projected part.
摘要翻译：目的：提供一种光学膜及其制造方法和使用其的液晶显示器的背光单元，以减少使用光学膜的数量，并且还实现光学膜的高亮度，作为降低背面的成本光单位。构成：光学膜（150）包括透明基板（151）和突出部（153），突出部（153）以圆锥形状突出在基板的一个平面上并且彼此正交布置，并且将从基质。投影部分彼此不分离间隙地布置，或者具有突出部分的间距的0.1-1倍的间隔间隙。

7. 发明授权

KR101453847B1 광학시트 제조용 친수성 조성물 및 이를 이용하여 제조된 광학시트 有权
标题翻译：用于制备光学片的水解组合物和使用其制备的光学片
公开(公告)号：KR101453847B1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：KR1020130013865
申请日：2013-02-07
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 탁동하 , 백승준 , 김태완 , 홍석원
IPC分类号： G02B5/08 , F21V8/00 , G02F1/1335 , C09D201/00 , C08J7/04
摘要： 본 발명은 광학소자용 반사시트를 비롯한 기타 광학시트를 제조할 수 있는 친수성 조성물에 관한 것으로, 구체적으로 수성 바인더 80 내지 95 중량%, 물 1 내지 10 중량%, 경화제 1 내지 10 중량%, 부착증진제 1 내지 10 중량%, 레벨링제 0.3 내지 5 중량% 및 소포제 0.3 내지 5 중량%를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학시트 제조용 친수성 조성물을 제공한다.
환경 유해성이 높은 유성 바인더를 사용하던 종래 기술을 수성 바인더로 대체 적용하여 광학적 특성이 우수할 뿐 아니라 작업자의 작업 환경 개선 및 작업장 주변 환경 오염 문제를 해소할 수 있는 광학시트 제조용 조성물을 제공한다.

8. 发明公开

KR1020120089414A 도광판 무늬형용 활성에너지선경화형 수지 조성물 有权
标题翻译：活性能光固化树脂组合物，适用于轻型导光板图案
公开(公告)号：KR1020120089414A
公开(公告)日：2012-08-10
申请号：KR1020110115555
申请日：2011-11-08
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 박태순 , 홍석원 , 최세진 , 김태완 , 백승준
IPC分类号： C09D4/00 , C09D7/12
CPC分类号： C09D133/08 , C08K2201/005 , C09D4/00 , G02B6/0043
摘要： PURPOSE: An actinic radiation-curable resin composition is provided to enhance adhesiveness, optical properties and productivity in short processing time. CONSTITUTION: An actinic radiation-curable resin composition forms patterns by being coated and cured on the surface of a substrate. The resin composition comprises 100.0 parts by weight of a first active energy ray cure type monomer, 65-400 parts by weight of active energy ray cure type oligomer, and 1-50 parts by weight of photopolymerization initiator. The solubility of the material of the light guide plate towards the first active energy ray cure type monomer is 0.1-70. The resin composition additionally includes 40-120 parts by weight of corpuscles based on 100.0 parts by weight of the first active energy ray cure type monomer.
摘要翻译：目的：提供光化辐射固化树脂组合物，以在短的加工时间内提高粘合性，光学性能和生产率。构成：光化学辐射固化树脂组合物通过在基材的表面上涂布和固化而形成图案。树脂组合物包含100.0重量份的第一活性能量射线固化型单体，65-400重量份的活性能量射线固化型低聚物和1-50重量份的光聚合引发剂。导光板的材料朝向第一活性能量射线固化型单体的溶解度为0.1-70。树脂组合物另外包含基于100.0重量份第一活性能量射线固化型单体的40-120重量份的小体。

9. 发明公开

KR1020110000309A 기판 진공성형 장치 및 진공성형 방법 无效
标题翻译：真空成型基板的装置和方法
公开(公告)号：KR1020110000309A
公开(公告)日：2011-01-03
申请号：KR1020090057745
申请日：2009-06-26
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 백승준 , 김태완 , 최세진
IPC分类号： B29C33/18
CPC分类号： B29C33/18 , B29C33/34 , B29L2007/002
摘要： PURPOSE: A substrate vacuum molding apparatus and a vacuum molding method are provided to prevent the generation of unformed parts or bubbles between a forming mold and a substrate. CONSTITUTION: A substrate vacuum molding apparatus(100) comprises a vacuum chamber body(140). The vacuum chamber body comprises a cover(110), a sidewall(120), and a bottom plate(130). The cover seals the top and bottom of the sidewall. A forming mold(20) and a forming mold frame(170) are installed inside the vacuum chamber body. The forming mold transfers optical patterns in a substrate(10). The forming mold frame fixes the edge of the forming mold.
摘要翻译：目的：提供基板真空成型装置和真空成型方法，以防止在成型模具和基板之间产生未成形部件或气泡。构成：基板真空成型装置（100）包括真空室主体（140）。真空室主体包括盖（110），侧壁（120）和底板（130）。盖子封住侧壁的顶部和底部。成形模具（20）和成型模具框架（170）安装在真空室主体的内部。成形模转移基板（10）中的光学图案。成形模框架固定成型模具的边缘。

10. 发明授权

KR100673547B1 3차원 구조의 패턴을 이용한 반도체 소자 제조 방법 失效
标题翻译：通过使用三维图案制作半导体器件的方法
公开(公告)号：KR100673547B1
公开(公告)日：2007-01-24
申请号：KR1020050069057
申请日：2005-07-28
申请人： 주식회사 미뉴타텍
发明人： 이홍희 , 박세영 , 김태완 , 한건국
IPC分类号： H01L29/786
CPC分类号： H01L29/66765 , G02F1/136227 , H01L27/1288
摘要： A method of manufacturing a semiconductor device is provided to simplify manufacturing processes and to improve the productivity by performing sequentially a selective etching process or an etch back process using a three dimensional pattern structure. A semiconductor material, a doping material and an electrode material are sequentially formed on a substrate(102) with a gate electrode(104a) and a gate insulating layer(106). A three dimensional polymer pattern structure(114) is formed on the resultant structure. The three dimensional polymer pattern structure includes a source electrode defining pattern, a drain electrode defining pattern and a via hole defining pattern. The electrode material is partially exposed to the outside by performing an etch back process on the three dimensional polymer pattern structure. A semiconductor layer(108a), a doping layer(110a), and source/drain electrodes(112a) are formed by performing a selective etching process on the resultant structure. The via hole defining pattern alone remains on the resultant structure by performing an etch back process on the three dimensional polymer pattern structure.
摘要翻译：提供一种制造半导体器件的方法，以简化制造工艺并通过使用三维图案结构依次执行选择性蚀刻工艺或回蚀刻工艺来提高生产率。在具有栅电极（104a）和栅极绝缘层（106）的基板（102）上依次形成半导体材料，掺杂材料和电极材料。在所得结构上形成三维聚合物图案结构（114）。三维聚合物图案结构包括源电极限定图案，漏电极限定图案和通孔限定图案。通过对三维聚合物图案结构进行回蚀处理，电极材料部分地暴露于外部。通过对所得结构进行选择性蚀刻处理，形成半导体层（108a），掺杂层（110a）和源极/漏极（112a）。通过在三维聚合物图案结构上执行回蚀工艺，单独的通孔限定图案保留在所得结构上。

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