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热词
    • 1. 发明公开
    • 연마필름
    • 磨料电影
    • KR1020170039750A
    • 2017-04-11
    • KR1020177006493
    • 2015-08-05
    • 반도 카가쿠 가부시키가이샤
    • 다우라도시카즈사이토가즈오
    • B24D11/00B24D3/28
    • B24D3/00B24D11/001G02B6/3847G02B6/3863
    • 본발명은, 높은연삭력을구비하고, 또한연마중의하중조건의변동에의한광파이버커넥터의끝면불량이발생하기어려운연마필름을제공하는것을목적으로한다. 본발명은, 기재필름과, 이기재필름의표면측에적층되는연마층을구비하는연마필름으로서, 상기연마층이연마입자와그 바인더를구비하고, 상기연마층에있어서테이버마모시험에의한마모량이 10mg이상 25mg이하인것을특징으로한다. 상기연마층에있어서의상기연마입자의함유량으로서는, 85질량%이상이바람직하다. 상기연마입자가, 1차입자지름이 10㎚이상 50㎚미만인제1연마입자와, 1차입자지름이 50㎚이상 250㎚미만인제2연마입자를구비하면좋다. 상기연마층의평균두께로서는 4㎛이상 15㎛이하가바람직하다. 상기연마입자가실리카입자이면좋다.
    • 本发明的目的在于提供一种研磨时的研磨力高且几乎不产生由于研磨时的负荷状态的变动引起的光纤连接器的端面不良的研磨膜。 本发明中,基膜和,作为具有被层压yigijae膜的前表面上的研磨层的研磨膜,其中由测试所述抛光层包含磨粒和粘合剂,在抛光层带缅一定量的磨损的 不少于10毫克,不多于25毫克。 研磨层中的磨粒的含量优选为85质量%以上。 其中所述磨料颗粒,一个可以是一次粒子直径大于10㎚50㎚小于第一磨料颗粒,所述初级颗粒直径和第二磨料颗粒50㎚以上且小于250㎚。 研磨层的平均厚度优选为4以上且15以下。 磨粒可以是二氧化硅颗粒。
    • 5. 发明公开
    • 연마패드 및 연마패드의 제조방법
    • 抛光垫及其制造方法
    • KR1020170013315A
    • 2017-02-06
    • KR1020167036276
    • 2015-05-07
    • 반도 카가쿠 가부시키가이샤
    • 무카이후미히로다우라도시카즈
    • B24B37/24B24B7/24B24D3/10B24D3/28B24D18/00
    • B24B7/24B24B37/24B24D3/00B24D3/28B24D3/10B24D18/0045
    • 본발명은, 가공효율과최종평탄성을높은수준으로양립시킬수 있는연마패드를제공하는것을목적으로한다. 본발명의연마패드는, 기재와, 그표면측에적층되는연마층을구비하는연마패드로서, 상기연마층이, 수지또는무기물을주성분으로하는바인더및 이바인더중에분산되는다이아몬드지립를구비하고, 상기다이아몬드지립의평균형상계수가 1 이상 1.33 이하인것을특징으로한다. 상기바인더의주성분이열경화성수지또는광경화성수지이면좋다. 상기바인더의주성분이규산염이면좋다. 상기연마층이표면에복수의볼록모양부를구비하고, 상기복수의볼록모양부가규칙적으로배열되어있으면좋다. 상기기재의이면측에접착층을구비하면좋다. 상기접착층이점착제로구성되면좋다. 상기기재가가요성또는연성을구비하면좋다.
    • 本发明的目的是提供一种抛光垫,其能够在高水平下实现加工效率和完成平整度之间的良好平衡。 根据本发明的抛光垫具有层压在基体的前表面上的基底和抛光层。 该抛光垫的特征在于:抛光层包括主要由树脂或无机材料组成的粘合剂和分散在粘合剂中的金刚石磨粒; 金刚石磨粒的平均形状因子为1〜1.33(含)。 粘合剂的主要成分优选为热固性树脂或光固化性树脂。 粘合剂的主要成分优选为硅酸盐。 抛光层优选在前表面具有多个突出部分,并且多个突出部分被规则地布置。 优选在基材的背面设置粘合剂层。 优选粘合剂层由粘合剂构成。 基材优选具有柔软性或延展性。
    • 7. 发明公开
    • 연마재 및 연마재의 제조방법
    • 制造磨料和磨料的方法
    • KR1020170073678A
    • 2017-06-28
    • KR1020177014055
    • 2015-10-06
    • 반도 카가쿠 가부시키가이샤
    • 무카이후미히로이와나가도모키다카기다이스케사이토가즈오다우라도시카즈
    • B24D3/14B24D3/10B24D18/00B24D11/00
    • B24D3/04B24B37/24B24D3/00B24D11/00B24D3/14B24D3/10B24D18/0045B24D18/0072
    • 본발명은, 기판재료의가공효율과마무리(최종) 평탄성을높은수준으로양립할수 있음과아울러연마비용이낮고, 사파이어나탄화규소와같은난가공기판이어도효율적으로또한높은정밀도로연마할수 있는연마재의제공을목적으로한다. 본발명은, 기재와, 그표면측에적층되는연마층을구비하는연마재로서, 상기연마층이무기물을주성분으로하는바인더와이 바인더중에분산되는연마입자를구비하고, 상기연마층의표면이홈으로구분된복수의영역으로구성되고, 상기연마층표면의최대산높이(Rp)가 2.5μm 이상 70μm 이하인것을특징으로한다. 상기복수의영역이평면에서볼 때에직교하는 XY방향으로적어도 2이상배치되어있으면좋다. 상기바인더가산화물을주성분으로하는충전제를함유하고, 상기산화물충전제의평균입자지름이상기연마입자의평균입자지름보다작으면좋다. 상기무기물이규산염이면좋다. 상기연마입자가다이아몬드이면좋다.
    • 本发明可以同时实现处理效率和精(最终)在基板材料中的高的水平,以及一个低抛光成本平坦度,以及I,诸如可研磨成还高的精度,高效地甚至处理基板蓝宝石或碳化硅磨料 提供为宗旨。 本发明中,描述的和,作为具有层叠在表面侧上的磨料层,和分散在所述粘合剂中的抛光颗粒,并且该粘合剂为主要成分的研磨材料是上述研磨层的矿物,抛光层槽的表面 并且抛光层表面的最大峰值高度(Rp)不小于2.5占有并且不超过70占有。 当在平面图中看时,多个区域中的至少两个或更多个可以在彼此正交的XY方向上排列。 粘合剂包含含有氧化物作为主要组分的填料,并且氧化物填料的平均粒径小于磨粒的平均粒径。 无机物质可以是硅酸盐。 磨粒可以是金刚石。
    • 8. 发明公开
    • 연마필름
    • 抛光膜
    • KR1020170016443A
    • 2017-02-13
    • KR1020177000240
    • 2015-06-26
    • 반도 카가쿠 가부시키가이샤
    • 다우라도시카즈사이토가즈오
    • B24D11/00B24B19/00B24D3/28G02B6/25
    • B24D3/28B24B19/00B24D11/00G02B6/25
    • 본발명은, 높은연삭력을구비하면서, 연마후의광파이버의인입을방지할수 있는연마필름을제공하는것을목적으로한다. 본발명은, 기재와, 그표면측에적층되는연마층을구비하는연마필름으로서, 상기연마층이, 수지바인더및 이수지바인더중에분산되는연마입자를구비하고, 상기연마입자전체에대하여 1차입자지름이 70nm 이상인연마입자의함유량이 10질량% 이상 50질량% 이하이며, 상기연마층에있어서의상기연마입자의함유량이 84질량% 이상이며, 상기연마층의압입경도가 370N/mm이하인것을특징으로한다. 상기연마입자가, 실리카입자이면좋다. 상기연마층의평균두께로서는, 4μm 이상 15μm 이하가바람직하다.
    • 本发明的目的是提供一种抛光膜,该抛光膜能够在研磨能力高的同时,防止在研磨后拉入光纤。 本发明是一种抛光膜,其具有层叠在基材的前表面上的基材和研磨层,其特征在于:所述研磨层含有树脂粘合剂和分散在所述树脂粘合剂中的研磨粒子; 一次粒径为70nm以上的研磨粒子的含量相对于所有研磨粒子为10质量%〜50质量%(以下)。 研磨层中的研磨粒子的含量为84质量%以上, 并且研磨层的压痕硬度为370N / mm 2以下。 抛光粒子优选为二氧化硅粒子。 研磨层的平均厚度优选为4μm〜15μm(以下)。