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1. 发明公开

KR1020160103528A 열처리 시스템, 열처리 방법 및 프로그램 审中-实审
标题翻译：热处理系统，热处理方法和程序
公开(公告)号：KR1020160103528A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：KR1020160020712
申请日：2016-02-22
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다케나가유이치 , 오타히로이치 , 세키사와신고
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/16
CPC分类号： C23C16/52 , C23C16/45578 , C23C16/4583 , C23C16/46 , G05B15/02 , H01L21/67109
摘要： 본발명은피처리체의면내형상을제어할수 있는열처리시스템, 열처리방법및 프로그램을제공하는것을과제로한다. 열처리장치(1)는, 복수매의반도체웨이퍼(W)를수용하는반응관(2) 내를가열하는히터부(10)와, 열처리내용에따른열처리조건을기억하는열처리조건기억수단과, 반응관(2) 내의온도의변화와, 열처리결과의변화의관계를나타내는열처리변화모델을기억하는열처리변화모델기억수단과, 열처리조건에서의열처리결과를실행하는열처리실행수단과, 실행된열처리결과를수신하는열처리결과수신수단과, 목표로하는열처리결과와, 목표로하는열처리결과의형상에관한정보에기초하여, 반도체웨이퍼(W)의면내형상에관한목표로하는열처리결과를산출하고, 산출한면내형상에관한목표로하는열처리결과와, 열처리변화모델에기초하여, 목표로하는열처리결과가되는최적온도를산출하는최적온도산출수단을구비한다.
摘要翻译：本发明涉及热处理系统，热处理方法和控制处理对象的平面形状的程序。热处理系统（1）包括：加热单元（10），其加热容纳多个半导体晶片（W）的反应管（2）的内部; 热处理条件存储装置，其存储根据热处理的热处理条件; 存储表示反应管（2）内的相对温度变化的热处理变化模型和热处理结果的变化的热处理变化模型存储单元; 在热处理条件下进行热处理的热处理执行装置; 接收所执行的热处理结果的热处理结果接收装置; 以及根据目标热处理结果的形状来计算关于半导体晶片（W）的面内形状的目标热处理结果的最佳温度计算单元，并计算关于所计算的热处理结果的目标热处理结果平面形状和最佳温度，这是热处理变化模型的基础上的目标热处理结果。

2. 发明授权

KR101998921B1 열처리 시스템, 열처리 방법 및 프로그램 有权
公开(公告)号：KR101998921B1
公开(公告)日：2019-07-10
申请号：KR1020160020712
申请日：2016-02-22
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다케나가유이치 , 오타히로이치 , 세키사와신고
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/16

3. 发明授权

KR101928615B1 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 제어 장치 有权
公开(公告)号：KR101928615B1
公开(公告)日：2018-12-12
申请号：KR1020157010583
申请日：2013-10-30
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오타히로이치 , 미나미고조
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/52 , H01L21/66
摘要： 기판에 처리를 실시하는 기판 처리부와, 처리 조건을 나타내는 레시피를 복수개 기억하는 기억부와, 기억부에 기억된 레시피에 기초하여 기판 처리부를 제어하고 기판에 미리 정해진 처리를 실시하는 주제어부와, 주제어부에 액세스하기 위한 사용자 인터페이스부를 갖는 제어부를 구비한 기판 처리 장치로서, 제어부는, 기판의 처리 결과를 측정한 측정 데이터와 목표치의 차를 산출하고, 그 차가 작아지도록 레시피의 처리 조건의 일부를 변경하여 그 레시피를 최적화하는 레시피 최적화 처리 수단과, 레시피 최적화 처리 수단에 의한 최적화 처리 실행중인 레시피와 관련하여 일괄 최적화 가능한 레시피를 기억부 내에서 검색하고, 검색된 레시피에 관해, 최적화 처리 실행중인 레시피와 마찬가지로 처리 조건의 일부를 변경하는 레시피 일괄 최적화 리 수단을 구비한다.

4. 发明公开

KR1020150079635A 기판 처리 장치 및 기판 처리 장치의 제어 장치 审中-实审
标题翻译：基板处理装置和用于基板处理装置的控制装置
公开(公告)号：KR1020150079635A
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：KR1020157010583
申请日：2013-10-30
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오타히로이치 , 미나미고조
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/52 , H01L21/66
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/52 , H01L21/67109 , H01L22/12 , H01L22/20 , H01L31/18
摘要： 기판에처리를실시하는기판처리부와, 처리조건을나타내는레시피를복수개기억하는기억부와, 기억부에기억된레시피에기초하여기판처리부를제어하고기판에미리정해진처리를실시하는주제어부와, 주제어부에액세스하기위한사용자인터페이스부를갖는제어부를구비한기판처리장치로서, 제어부는, 기판의처리결과를측정한측정데이터와목표치의차를산출하고, 그차가작아지도록레시피의처리조건의일부를변경하여그 레시피를최적화하는레시피최적화처리수단과, 레시피최적화처리수단에의한최적화처리실행중인레시피와관련하여일괄최적화가능한레시피를기억부내에서검색하고, 검색된레시피에관해, 최적화처리실행중인레시피와마찬가지로처리조건의일부를변경하는레시피일괄최적화처리수단을구비한다.

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