专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020170139453A 기판 액처리 장치, 기판 액처리 방법 및 기억 매체 审中-实审
标题翻译：基板液处理装置，基板液处理方法和存储介质
公开(公告)号：KR1020170139453A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：KR1020170069578
申请日：2017-06-05
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 히라야마츠카사 , 이나다다카오
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67248 , H01L21/67017 , H01L21/67086 , H01L21/67253
摘要： 본발명은, 인산수용액의농도를변화시키지않고, 인산수용액의비등상태를일정하게유지하여, 에칭균일성을도모하는것을목적으로한다. 기판액처리장치(1)는액처리부(39)와, 처리액순환라인(42)과, 액처리부(39)의처리조(34)에설치된비등상태검출부(70)를갖는다. 비등상태검출부(70)로부터의신호에기초하여제어부(7)는, 처리액순환라인(42)의공급펌프(51)를제어하고, 공급되는유로내의인산수용액의압력을조정하여인산수용액의비등상태를원하는상태로조정한다.
摘要翻译：本发明的目的是在不改变磷酸水溶液的浓度的情况下将磷酸水溶液的沸腾状态保持在恒定水平，由此实现蚀刻均匀性。基板液处理装置1具有设置在液处理部39的处理槽34内的液处理部39，处理液循环管线42和沸腾状态检测部70。控制部7基于来自沸腾状态检测部70的信号，控制处理液循环线42的供给泵51，调整供给的流路中的磷酸水溶液的压力，达到所需的状态。

2. 发明公开

KR1020170038678A 기판 액 처리 장치 및 기판 액 처리 방법 审中-实审
标题翻译：基板液体处理装置和基板液体处理方法
公开(公告)号：KR1020170038678A
公开(公告)日：2017-04-07
申请号：KR1020160122214
申请日：2016-09-23
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카고지 , 시오카와도시유키 , 마스토미히로유키 , 사토다카미 , 다나카히로시 , 이나다다카오 , 히로야마즈카사
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 본발명은기판을처리액으로균일하게처리할수 있는기판액 처리장치를제공한다. 본발명에서는, 복수의기판(8)을배열시킨상태로처리액에침지하여처리하는처리조(34)와, 상기처리조(34)의내부에서상기기판(8)의하방에배치되어, 상기기판(8)의배열방향을따라연장시킨관체(74)에상기처리액을토출하기위한토출구(76)를형성한처리액공급노즐(49)을갖는기판액 처리장치(1)에있어서, 상기토출구(76)는, 상기기판(8)의배열방향과직교하는수평방향으로간격을두고제1 측면(78) 및제2 측면(79)을형성하며, 상기제1 측면(78) 또는/및상기제2 측면(79)의외측단가장자리가, 내측단가장자리를상기관체(74)의중심으로부터반경방향으로연장한위치(B1, D1)보다수평방향을향하여외측으로개방한위치(A1, C1)에마련되어있다.
摘要翻译：本发明提供能够用处理液均匀地处理基板的基板液处理装置。本发明的特征在于包括：处理槽34，用于将处理液浸渍在配置有多个基板8的状态下并对处理槽34进行处理; 一种具有处理液供给喷嘴（49）的基板液处理装置（1），在沿着基板（8）的排列方向延伸的管体（74）内形成有用于排出处理液的排出口（76）排出口76在与基板8的排列方向垂直的水平方向上隔开间隔地形成第一侧面78和第二侧面79，第一侧面78和/ 第二侧面79的外缘位于从管主体74的中心向半径方向延伸的位置B1，D1的位置朝向水平方向外侧开口的位置A1，C1 它提供。

3. 发明授权

KR101506203B1 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
公开(公告)号：KR101506203B1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：KR1020110018901
申请日：2011-03-03
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 햐쿠타케히로노부 , 우노타카시
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67028
摘要： 피처리 기판으로의 영향을 저감시키면서 양호한 세정, 건조 처리를 실행 가능한 기판 처리 장치 등을 제공한다. 기판 처리 장치(2)에 설치된 세정조(221)에서는 세정액 공급부로부터 세정액을 공급하면서 당해 세정액에 피처리 기판(W)을 세로 방향 상태로 침지시켜 세정이 행해지고, 이 세정조(221)의 상방 영역과 연통되는 건조실(21)에서는 세정조(221)에서 끌어올려진 피처리 기판(W)의 건조가 행해진다. 그리고, 제 1 건조 가스 공급부 및 제 2 건조 가스 공급부로부터는, 세정 후의 피처리 기판(W)의 상단이 세정액의 액면으로부터 상방으로 끌어올려진 후, 적어도 피처리 기판이 노출되는 영역에, 상기 세정조의 상방 영역에서부터 건조실 내에 이르기까지의 분위기에 액체 제거용의 용제 증기를 포함하는 제 1 건조 가스와 상기 용제 증기를 포함하지 않는 제 2 건조 가스가 교호로 공급된다.

4. 发明授权

KR101267641B1 액 처리 장치, 액 처리 방법, 및 액 처리 프로그램을저장한 기억 매체 有权
标题翻译：液体加工设备，液体加工方法和存储液体加工程序的储存介质
公开(公告)号：KR101267641B1
公开(公告)日：2013-05-23
申请号：KR1020070105089
申请日：2007-10-18
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 햐쿠타케히로노부 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/677 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67028
摘要： 본발명에서는린스처리시에린스액의액면위치(LV1)로부터피처리체[웨이퍼(2)]의상단위치(LV2)까지의거리(t1)가, 약액처리시의약액의액면위치(LV3)로부터피처리체[웨이퍼(2)]의상단위치(LV4)까지의거리(L2)보다도짧아지도록피처리체를갖는다. 혹은린스처리시에, 린스액의액면위치(LV1)로부터피처리체[웨이퍼(2)]의상단위치(LV2)까지의거리(L1)가, 린스액의바닥면위치(LV5)로부터피처리체[웨이퍼(2)]의하단위치(LV6)까지의거리(L3)보다도짧아지도록피처리체를갖는다.

5. 发明公开

KR1020080035489A 액 처리 장치, 액 처리 방법, 및 액 처리 프로그램을저장한 기억 매체 有权
标题翻译：液体加工设备，液体加工方法和存储液体加工程序的储存介质
公开(公告)号：KR1020080035489A
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：KR1020070105089
申请日：2007-10-18
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 햐쿠타케히로노부 , 가미카와유지
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/677 , H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67028 , H01L21/67742 , H01L21/67757 , H01L21/68707 , Y10S414/141
摘要： A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage medium having a liquid processing program stored are provided to reduce the time required for raising specific resistance of rinsing liquid up to a predetermined level by reducing a distance between a surface of the rinsing liquid and an upper side of an object to be processed. A liquid processing apparatus comprises a processing tank(49), a support(36), a chemical liquid supply unit, a rinsing liquid supply unit, a lifting mechanism, and a control unit. The support is installed within the processing tank to be lifted or lowered, to support an object to be processed(2). The chemical liquid supply part supplies chemical liquid into the processing tank. The rinsing liquid supply part supplies rinsing liquid into the processing tank. The lifting mechanism lifts and lowers the support. The control unit controls the lifting mechanism such that the control unit moves or holds the support after chemical liquid process is done by using the chemical liquid, and performs a rinsing process at a position where the object to be processed is lifted with respect to a liquid surface that the level set for the chemical liquid process.
摘要翻译：提供液体处理装置，液体处理方法和存储有液体处理程序的存储介质，以通过减少冲洗液体的表面之间的距离来减少将冲洗液的比电阻提高到预定水平所需的时间和待处理物体的上侧。液体处理装置包括处理罐（49），支撑件（36），化学液体供应单元，冲洗液体供应单元，提升机构和控制单元。支撑件安装在处理罐内以被提升或降低，以支撑待处理物体（2）。化学液体供应部分将化学液体供应到处理罐中。冲洗液供给部件将冲洗液供给到处理槽中。提升机构提升和降低支撑。控制单元控制提升机构，使得控制单元在通过使用化学液体进行化学液体处理之后移动或保持支撑件，并且在被处理物体相对于液体提升的位置处进行漂洗处理表面为化学液体过程设定的水平。

6. 发明授权

KR101633129B1 기판 액처리 장치, 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 有权
标题翻译：基板液体处理装置基板液体处理方法和存储基板液体处理程序的存储介质
公开(公告)号：KR101633129B1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：KR1020100096443
申请日：2010-10-04
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 미나미데루오미 , 가와부치요스케 , 이토노리히로 , 가미무라후미히로 , 야부타다카시 , 가즈키고사이 , 다카시우노 , 세키구치겐지 , 후지이야스시
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02057 , H01L21/67051
摘要： 본발명은기판에대전된전하가방전하는것에의한정전파괴의발생을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판(2)에액처리를실시하기위한기판액처리장치(1), 기판액처리방법및 기판액처리프로그램을기록한컴퓨터판독가능한기록매체(48)에있어서, 기판(2)의회로형성면을기판처리약액으로액처리하는액처리공정을행하기전에, 기판(2)의회로형성면과는반대면을제전처리액으로처리하는것에의해기판(2)에대전된전하를방출시키는제전처리공정을행하도록하였다.

7. 发明公开

KR1020110102180A 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
标题翻译： 기판처리장치，기판처리방법및기억매체
公开(公告)号：KR1020110102180A
公开(公告)日：2011-09-16
申请号：KR1020110018901
申请日：2011-03-03
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 다나카히로시 , 햐쿠타케히로노부 , 우노타카시
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/67057 , H01L21/67028
摘要： There is provided a substrate processing method including cleaning a substrate by immersing the substrate in a cleaning solution in a longitudinal direction while the cleaning solution is supplied to a cleaning tank; transferring the substrate picked up from the cleaning tank to a drying chamber while holding the substrate in a longitudinal direction; and drying the substrate in the drying chamber communicating with an upper area of the cleaning tank by alternately supplying a first drying gas containing vapor of a solvent for removing a liquid and a second drying gas without containing the vapor of the solvent for removing the liquid to an area where the substrate is exposed between the upper area of the cleaning tank and the drying chamber after an upper end of the cleaned substrate is picked up from a liquid surface of the cleaning solution.
摘要翻译：提供了一种基板处理方法，包括：在将清洁溶液供应到清洁槽的同时，将基板沿纵向浸入清洁溶液中来清洁基板; 将从清洗槽取出的基板沿纵向方向保持在干燥室内，通过交替地供给含有用于除去液体的溶剂的蒸气的第一干燥气体和不含用于除去液体的溶剂的蒸气的第二干燥气体，来干燥与干净室的上部区域连通的干燥室中的基板，以在从清洗液的液面拾取清洗后的基板的上端之后，基板在清洗槽的上部区域与干燥室之间露出的区域。

8. 发明公开

KR1020100100614A 기판 처리 장치, 여과재의 재생 방법 및 기억 매체 失效
标题翻译：基板处理装置，过滤材料和记录介质的回收方法
公开(公告)号：KR1020100100614A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：KR1020100015653
申请日：2010-02-22
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 햐쿠타케히로노부 , 니시무라히데키 , 다나카히로시
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67769
摘要： PURPOSE: A substrate processing apparatus, a method for reproducing a filtering material, and a storing media are provided to improve the rate of operations by omitting a filtering material replacing operation. CONSTITUTION: A dry gas generating unit(23) heats fluid to obtain a gas for a dry operation. The dry gas generating unit includes a temperature control function. A filtering material(222) eliminates particles in the gas for the dry operation. A filtering material heating unit(234) heats the filtering material. A processing unit implements the dry operation using the gas for the dry operation. A controlling unit controls the temperature for heating the filtering material heating unit.
摘要翻译：目的：提供基板处理装置，再生过滤材料的方法和存储介质，以通过省略过滤材料替换操作来提高操作速度。构成：干燥气体发生单元（23）加热流体以获得用于干燥操作的气体。干燥气体发生单元包括温度控制功能。过滤材料（222）消除用于干燥操作的气体中的颗粒。过滤材料加热单元（234）加热过滤材料。处理单元使用用于干燥操作的气体进行干燥操作。控制单元控制用于加热过滤材料加热单元的温度。

9. 发明授权

KR100338534B1 기판건조장치및기판건조방법 失效
公开(公告)号：KR100338534B1
公开(公告)日：2002-09-27
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
发明人： 다나카히로시 , 모쿠오쇼리 , 요코미조겐지 , 미나미데루오미
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.

10. 发明公开

KR1019950012610A 기판건조장치및기판건조방법 失效
标题翻译：的基板干燥装置及基板干燥方法
公开(公告)号：KR1019950012610A
公开(公告)日：1995-05-16
申请号：KR1019940028107
申请日：1994-10-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
发明人： 다나카히로시 , 모쿠오쇼리 , 요코미조겐지 , 미나미데루오미
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67034 , F26B21/145
摘要： 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.
摘要翻译：安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的的。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式