专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明授权

KR102027590B1 하지제, 블록 코폴리머를 함유하는 층의 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102027590B1
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：KR1020130026224
申请日：2013-03-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미야기겐 , 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26

2. 发明公开

KR1020170108876A 표면 처리 방법, 대전 방지제 및 친수화 처리제 审中-实审
标题翻译：表面处理方法，抗静电剂和亲水处理剂
公开(公告)号：KR1020170108876A
公开(公告)日：2017-09-27
申请号：KR1020170033360
申请日：2017-03-16
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로
IPC分类号： B05D5/00 , C09K3/16 , B05D7/24 , B05D7/00 , C09D5/24 , C09D5/00
CPC分类号： B05D5/00 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05D1/283 , B05D3/007 , B05D3/101 , B05D7/04 , B05D7/54 , B05D7/544 , B05D2451/00 , C08K3/16 , C08K3/30 , C08K2003/162 , C08K2003/3063 , C09D5/24 , C09D7/65 , C09D133/26 , C09D141/00 , B05D2401/20 , B05D2401/10
摘要： (과제) 간편한방법에의해피처리체의표면을친수화함과함께대전을방지하는표면처리방법및 대전방지제를제공하는것. (해결수단) 본발명은, 전해질 (e1), 친수성폴리머 (a) 및물을함유하고, 전기전도도가 15 mS/m 이상인대전방지제를피처리체상에도포하여얻어지는도포막 (A) 의건조를실시하여, 대전방지층을얻는대전방지처리공정과, 친수성폴리머 (b) 및알코올을함유하는친수화처리제를상기대전방지층상에도포하여얻어지는도포막 (B) 를건조시킨후, 린스하는친수화처리공정을포함하는표면처리방법이다.
摘要翻译：（要解决的问题）提供一种表面处理方法和抗静电剂，其通过简单的方法防止快乐处理体表面的亲水化并防止带电。 [解决问题的手段]进行本发明中，电解质（E1），亲水性聚合物的干燥（a）是还覆盖膜（A）含有mitmul，并且其通过导电性得到涂有抗静电剂大于15毫秒/米为待治疗受试者的并且，在将与获得的抗静电层的抗静电处理工序的，含有亲水性聚合物（b），和醇干燥覆盖膜（b）也通过施加到防止抗静电层中得到的亲水化处理，漂洗的亲水化步骤还有一种表面处理方法。

3. 发明公开

KR1020140001760A 미세 패턴 형성 방법, 현상액 审中-实审
标题翻译：形成精细图案的方法和开发解决方案
公开(公告)号：KR1020140001760A
公开(公告)日：2014-01-07
申请号：KR1020130072785
申请日：2013-06-25
申请人： 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소 , 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 후지카와시게노리 , 하야카와하루미 , 센자키다카히로 , 미야기겐
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/32
CPC分类号： B81C1/00531 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , H01L21/0337 , H01L21/3086 , H01L21/31133 , H01L21/0273 , G03F7/325
摘要： A method for forming a fine pattern comprising; a phase separation process which forms a layer containing a block co-polymer in which several types of blocks are combined on a substrate and separates the phase of the layer by heating the layer; a disassembly process which disassembles a part of the phase made of one or more types of blocks among the several types of blocks; a selective elimination process which selectively eliminates the phase containing disassembled block by putting the layer into a developing solution and forms a nano structure; and an etching process which performs an etching process of the substrate with the nano structure as a mask. An SP value of the developing solution is 7.5 ~ 11.5 (cal/cm^3) 1/ 2 . The main component of the developing solution is benzene which is replaced to an organic solvent in which the steam pressure is less than 2.1 kPa or alkyl radical, alkoxy, or halogen atom. The developing solution additionally contains a metal alkoxide.
摘要翻译：一种形成精细图案的方法，包括：相分离方法，其形成含有嵌段共聚物的层，其中将几种类型的嵌段组合在基底上，并通过加热层分离层的相位; 在多种类型的块中分解由一种或多种类型的块形成的相位的一部分的拆卸处理; 选择性消除处理，其通过将层置于显影溶液中并形成纳米结构来选择性地消除包含分解块的相。以及以纳米结构作为掩模进行基板的蚀刻处理的蚀刻工艺。显影液的SP值为7.5〜11.5（cal / cm 3）^{1 / ^{^{2。显影液的主要成分是苯，其中蒸汽压力小于2.1kPa的有机溶剂或烷基，烷氧基或卤原子。显影液另外含有金属醇盐。}}}

4. 发明公开

KR1020130105457A 하지제, 블록 코폴리머를 함유하는 층의 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：底层代理和形成包含块状共聚物的层的图案的方法
公开(公告)号：KR1020130105457A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：KR1020130026224
申请日：2013-03-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미야기겐 , 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26
CPC分类号： C09D125/14 , B05D3/145 , B05D7/544 , C09D125/02 , C09D133/02 , C09D133/08 , C09D133/18 , C09D133/22 , C09D135/06 , C09D143/04 , C09J133/06 , C09J133/14 , G03F7/0045 , G03F7/11 , G03F7/26
摘要： PURPOSE: An undercoating is provided to manufacture a substrate with a nanostructure in which a location and an alignment are freely designed on the surface of a substrate by using the phase separation of a block copolymer. CONSTITUTION: An undercoating agent is used for separating a layer (3) containing a block copolymer from a substrate (1). The undercoating agent contains a resin component and a structure unit which does not have an aromatic ring or a unit having it. The resin component has a group interacting with a substrate and does not have an ether-containing cyclic group with 3-7 atom rings. A patterning method of a layer containing a block copolymer comprises a step of forming a layer formed of the undercoating agent by spreading the undercoating agent onto the substrate; a step of forming the layer containing the block copolymer in which a plurality of blocks are coupled on the surface of the layer formed of the undercoating agent and phase-separating the block copolymer-containing layer; and a step of selectively removing a phase consisting of at least one kind of block among a plural kinds of blocks forming the block copolymer.
摘要翻译：目的：提供底涂层以制造具有纳米结构的基材，其中通过使用嵌段共聚物的相分离在基材的表面上自由地设计位置和取向。构成：使用底涂剂从基材（1）分离含有嵌段共聚物的层（3）。底涂剂含有树脂组分和不具有芳环的结构单元或含有芳环的单元。树脂组分具有与基底相互作用的基团，并且不具有含3-7个原子环的含醚环状基团。包含嵌段共聚物的层的图案化方法包括通过将底涂剂涂布在基材上形成由底涂层剂形成的层的步骤; 形成含有嵌段共聚物的层的步骤，其中多个嵌段结合在由底涂层剂形成的层的表面上并相分离含嵌段共聚物的层; 以及在形成嵌段共聚物的多种块中选择性除去由至少一种块组成的相。

5. 发明公开

KR1020080054443A 스프레이 도포용 포토레지스트 조성물 및 적층체 无效
标题翻译：用于喷涂和层压的光电组合物
公开(公告)号：KR1020080054443A
公开(公告)日：2008-06-17
申请号：KR1020087012500
申请日：2006-11-27
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미스미고이치 , 사이토고지
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/16 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/0048 , G03F7/0392 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397
摘要： On a substrate provided on its coating surface with step portion (1) of 10 to 1000 mum level difference (H), photoresist layer (2) is formed with the use of a photoresist composition containing a modified siloxane surfactant by spray coating technique. Thus, there is obtained a laminate having the step portion (1) whose top face (1a) and side face (1b) are continuously covered by the photoresist layer (2), wherein the thickness of photoresist layer (2) on the top face (1a) of the step portion is in the range of 1 to 40 mum, and wherein the layer thickness at the border of side face (1b) and top face (1a) of the step portion is 75% or more of the layer thickness on the top face (1a) adjacent to the border.
摘要翻译：在其涂覆表面上设置有10至1000μm级差（H）的台阶部分（1）的基底上，通过喷涂技术使用含有改性硅氧烷表面活性剂的光致抗蚀剂组合物形成光致抗蚀剂层（2）。因此，获得具有台阶部分（1）的层压板，其顶表面（1a）和侧面（1b）被光致抗蚀剂层（2）连续地覆盖，其中顶表面上的光致抗蚀剂层（2）的厚度（1a）为1〜40μm的范围，并且台阶部的侧面（1b）和顶面（1a）的边界处的层厚度为层厚的75％以上在与边界相邻的顶面（1a）上。

6. 发明公开

KR1020080006018A 포지티브형 포토레지스트 조성물, 후막 포토레지스트적층체, 후막 레지스트 패턴의 제조 방법 및 접속 단자의제조 방법 无效
标题翻译：积极光电组合物，厚层光刻胶，生产厚度图案的方法和生产连接端子的方法
公开(公告)号：KR1020080006018A
公开(公告)日：2008-01-15
申请号：KR1020077028859
申请日：2006-03-30
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미스미고이치 , 사이토고지
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/06 , C08F220/28 , C08F2220/1808 , C08F2220/1825
摘要： A positive photoresist composition which can form a thick resist pattern having high sensitivity. The positive photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with actinic rays or a radiation and (B) a resin whose alkali solubility increases by the action of an acid, wherein the ingredient (B) comprises a resin (B1) having a constituent unit (b1) which is a constituent unit derived from an acrylic ester and in which the hydrogen atom of the carboxy group has been replaced with an acid-dissociable dissolution-inhibitive group represented by the following general formula (I). [Chemical formula 1] (I) [In the formula, Y represents an optionally substituted alicyclic group or alkyl; n is an integer of 0-3; and R1 and R2 each independently represents hydrogen or C1-5 alkyl.]
摘要翻译：可以形成具有高灵敏度的厚抗蚀剂图案的正性光致抗蚀剂组合物。正型光致抗蚀剂组合物包含（A）在通过光化射线或辐射照射时产生酸的化合物和（B）通过酸的作用使碱溶解度增加的树脂，其中成分（B）包含树脂（B1 ）具有由丙烯酸酯衍生的构成单元（b1），其中羧基的氢原子被用以下通式（I）表示的酸解离溶解抑制基团代替。 [化学式1]（I）[式中，Y表示任选取代的脂环基或烷基; n为0-3的整数; 并且R 1和R 2各自独立地表示氢或C 1-5烷基。

7. 发明授权

KR102098530B1 블록 코폴리머 함유 조성물 및 패턴의 축소 방법 有权
公开(公告)号：KR102098530B1
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：KR1020190060157
申请日：2019-05-22
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미야기겐 , 미야시타겐이치로
IPC分类号： C08L53/00 , B05D5/00 , C08L25/14 , C08L33/04 , G03F7/004

8. 发明授权

KR101705908B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正性感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101705908B1
公开(公告)日：2017-02-13
申请号：KR1020110060657
申请日：2011-06-22
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 이시카와가오루 , 안도도모유키 , 센자키다카히로
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
摘要： [과제] 양호한해상성, 그리고그 경화물에있어서의양호한전기절연특성및 강도를나타내는포지티브형감광성수지조성물을제공하는것. [해결수단] (A) 페놀성수산기를갖는알칼리가용성수지, (B) 퀴논디아지드기를갖는화합물, (C) 분자중에적어도 2 개의알킬에테르화된아미노기를갖는화합물, (D) 하기일반식 (1) 로나타내는구성단위 (d1) 및불포화카르복실산에서유도되는구성단위 (d2) 를함유하고, 질량평균분자량이 2 만∼ 50 만인아크릴수지, 및 (S) 용제를함유하는포지티브형감광성수지조성물을사용한다.일반식 (1) 중, R은수소원자또는알킬기를나타내고, R는독립적으로탄화수소기를나타내고, p 는 0 ∼ 3 을나타낸다.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种正型感光性树脂组合物，其表现出良好的分辨率，并且其固化产物具有良好的电绝缘特性和强度。解决方案：正性感光性树脂组合物含有（A）具有酚羟基的碱溶性树脂，（B）具有醌二叠氮化物基团的化合物，（C）分子中具有至少两个烷基醚化氨基的化合物，（D）包含由以下通式（1）表示的结构单元（d1）的丙烯酸树脂，和由不饱和羧酸衍生的质均分子量为20,000〜500,000的结构单元（d2）和（S）溶剂。在通式（1）中，R表示氢原子或烷基，R 1表示烃基，p表示0〜3。

9. 发明授权

KR101666231B1 네거티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 드라이 필름 및 수광 장치 有权
标题翻译：负离子敏感性树脂组合物感光干膜和光接收装置
公开(公告)号：KR101666231B1
公开(公告)日：2016-10-13
申请号：KR1020110035047
申请日：2011-04-15
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 가토데츠야
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , H01L21/027
摘要： 현상성, 해상성, 패터닝후의접착성이우수한감광성수지층을형성할수 있는네거티브형감광성수지조성물, 그조성물로이루어지는감광성수지층을갖는감광성드라이필름, 및그 조성물이경화된스페이서를구비하는수광장치를제공한다.수광장치 (1) 의스페이서 (13) 를형성하는데에바람직한본 발명의네거티브형감광성수지조성물은, 알칼리가용성수지 (A), 활성선의조사에의해산 또는라디칼을발생시키는화합물 (B), 산또는라디칼에의해가교가능한화합물 (C), 일반식 (D-1) 로나타내는에폭시수지 (D), 및용제 (S) 를함유한다.[식중, R및 R는각각독립적으로메틸기등을나타내고, R∼ R은각각독립적으로수소원자등을나타낸다. A 는디(에틸렌옥시)에틸기등을나타낸다. n 은자연수이며, 그평균은 1.2 ∼ 5 이다]

10. 发明授权

KR101420453B1 감광성 수지 조성물, 감광성 수지 적층체, 및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：感光树脂组合物，感光树脂层压板及其形成方法
公开(公告)号：KR101420453B1
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：KR1020090050324
申请日：2009-06-08
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 가토데츠야
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/028
摘要： (과제) 안티몬계, 인계보다 약한 산 발생제로 경화가 가능해지는 감광성 수지 조성물을 제공한다.
(해결수단) 실시형태에 관련된 감광성 수지 조성물은 에폭시 수지와, 1 이상의 가교 형성성 부위를 갖는 아크릴계 모노머와, 말단 비닐계 실란 커플링제와, 광중합 개시제를 함유한다. 예를 들어, 에폭시 수지는 가수분해로 실라놀기 (Si-OH) 를 부여하는 알콕시기 (Si-OR) 를 갖는다. 아크릴계 모노머는, 말단 비닐기를 1 ∼ 6 개 갖는 분자이다. 말단 비닐계 실란 커플링제는 분자의 일단에 가수분해로 실라놀기 (Si-OH) 를 부여하는 알콕시기 (Si-OR) 를 갖고, 타단에 유기 관능기로서 비닐기를 갖는다. 또한, 광중합 개시제는 카르바졸 골격을 갖는 옥심계 라디칼 중합 개시제이다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式