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1. 发明授权

KR102027590B1 하지제, 블록 코폴리머를 함유하는 층의 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102027590B1
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：KR1020130026224
申请日：2013-03-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미야기겐 , 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , G03F7/26

2. 发明公开

KR1020140105399A 패턴 형성 방법, 및 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：形成电阻图案的方法及其生产结构的方法，包括相分离结构
公开(公告)号：KR1020140105399A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：KR1020140019765
申请日：2014-02-20
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 미야시타겐이치로 , 시오노다이주 , 미야기겐 , 마츠미야다스쿠 , 구로사와츠요시 , 오모리가츠미
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273
摘要： A method of forming a pre-pattern comprises (1) a process of generating acid by light exposure, forming a photosensitive resin film on a support using a photosensitive resin composition whose solubility for a developing solution changes by the action of the acid, exposing the photosensitive resin film, and forming a pre-pattern by negative-developing the photosensitive resin film after light exposure using the developing solution containing an organic solvent, (2) a process of forming a neutralization film containing a surface treatment agent on the support with the pre-pattern, and (3) a process of alkali-developing the pre-pattern and the neutralization film formed on the support, removing the pre-pattern from the support, and forming a pattern composed of the neutralization film on the support.
摘要翻译：形成预图案的方法包括：（1）通过曝光产生酸的方法，使用感光性树脂组合物在载体上形成感光性树脂膜，所述感光性树脂组合物的显影溶液对酸的作用发生变化，感光性树脂膜，通过使用含有有机溶剂的显影液曝光后，使感光性树脂膜进行负显影而形成预图案，（2）在载体上形成含有表面处理剂的中和膜的工序预制图案，以及（3）在支撑体上形成预图案和中和膜的碱显影处理，从载体上除去预图案，并在支撑体上形成由中和膜构成的图案。

3. 发明公开

KR1020140105378A 감광성 수지 조성물, 패턴 형성 방법 및 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：光敏树脂组合物，耐火花纹形成方法和生产结构的方法，包括相分离结构
公开(公告)号：KR1020140105378A
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：KR1020140016987
申请日：2014-02-14
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 미야시타겐이치로 , 시오노다이주 , 미야기겐 , 마츠미야다스쿠 , 구로사와츠요시 , 오모리가츠미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/26 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/26
摘要： A method for forming a pattern comprises the steps of: generating an acid through exposure, forming a photosensitive resin film on a support body by using a photosensitive resin composite having solubility that is varied with respect to a developing solution through acid behavior, exposing the photosensitive resin film to light, and developing the exposed photosensitive resin film as a negative by using a developing solution containing an organic solvent to form a free pattern (1); applying a surface treatment reagent on the support body on which the free pattern is formed, and heating the support body on which the surface treatment reagent is applied to form a neutralization film (2); and alkali-developing the free pattern and the neutralization film that are formed on the support body, removing the free pattern from the support body, and forming a pattern formed of the neutralization film on the support body (3). The photosensitive resin composite used in the method for forming the pattern contains a base component (A) having reduced solubility with respect to the organic solvent through acid behavior, and the base component (A) contains a high molecule compound (A1) having a constituent unit (a2-1) that contains a lactone-containing polycyclic group, -SO_2-containing polycyclic group or a carbonate-containing polycyclic group.
摘要翻译：形成图案的方法包括以下步骤：通过曝光产生酸，通过使用具有通过酸性行为相对于显影液变化的溶解度的感光性树脂复合体在支撑体上形成感光性树脂膜，使感光性曝光通过使用含有机溶剂的显影液形成游离图案（1），将曝光的感光性树脂膜显影为负极; 在形成有游离图案的支撑体上涂布表面处理试剂，加热涂布有表面处理试剂的支撑体，形成中和膜（2）; 碱性显影形成在支撑体上的自由图案和中和膜，从支撑体去除自由图案，并在支撑体（3）上形成由中和膜形成的图案。用于形成图案的方法中使用的感光性树脂组合物含有通过酸性行为相对于有机溶剂的溶解性降低的碱成分（A），碱成分（A）含有高分子化合物（A1）单元（a2-1），含有含内酯的多环基团，含-SO_2的多环基团或含碳酸酯的多环基团。

4. 发明公开

KR1020140104354A 하지제 및 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译： UNDERCOAT代理和图案形成方法
公开(公告)号：KR1020140104354A
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：KR1020140017283
申请日：2014-02-14
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 미야기겐 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： C09D201/00 , C09D7/12 , B05D1/36
CPC分类号： C09D201/02 , B05D7/24
摘要： Disclosed is an undercoat agent to perform phase separation of a layer formed on a substrate, wherein the layer contains a block copolymer in which a plurality of blocks is bonded. The undercoat agent contains a resin component which contains a structural unit with an aromatic group, a structural unit with a hydroxyalkyl group, a structural unit without an aromatic group and a hydroxyalkyl group.
摘要翻译：公开了一种用于对形成在基材上的层进行相分离的底涂剂，其中该层含有多个嵌段键合的嵌段共聚物。底涂剂含有含有芳香族结构单元，羟基烷基的结构单元，无芳基的结构单元和羟烷基的树脂成分。

5. 发明授权

KR100602818B1 ＬＣＤ 제조용 포지티브형 포토레지스트 조성물 및레지스트 패턴의 형성방법 失效
标题翻译：用于生产液晶的正极光电组合物和形成电阻图案的方法
公开(公告)号：KR100602818B1
公开(公告)日：2006-07-19
申请号：KR1020030072491
申请日：2003-10-17
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 가따노아끼라 , 다찌도시아끼 , 미야기겐
IPC分类号： G03F7/022
摘要： (과제) 저 NA 조건 하에서도 높은 해상도로 레지스트 패턴을 형성할 수 있는, LCD 제조용 레지스트 재료를 제공하는 것.
(해결수단) (A) 23 ℃ 의 2.38 질량% 테트라메틸암모늄히드록시드 수용액에 대한 알칼리 용해성이 100 ~ 400 ㎚/초의 범위인 노볼락 수지로 이루어지는 알칼리 가용성 수지, (B) 방사선의 조사에 의해 산을 발생시키는 화합물 및 (C) 가교성 폴리비닐에테르 화합물을 함유하는 LCD 제조용의 포지티브형 포토레지스트 조성물.

6. 发明公开

KR1020060051216A 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：化学放大型积极光电组合物
公开(公告)号：KR1020060051216A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050084764
申请日：2005-09-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 다치도시아키 , 미야기겐 , 스즈키다카코
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0007 , G03F7/0045
摘要： 이 포토레지스트 조성물은 1 개의 기판 상에 집적 회로와 액정 디스플레이 부분이 형성된 기판 제조용의 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물로서, 전체 페놀성 수산기의 적어도 일부가 산해리성 용해 억제기로 보호된 노볼락 수지 (A-1), 전체 페놀성 수산기의 적어도 일부가 산해리성 용해 억제기로 보호된 폴리히드록시스티렌 수지 (A-2), 및 방사선 조사에 의해 산을 발생하는 산발생제 (B) 를 유기 용제에 용해하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물이다.

7. 发明公开

KR1020050043915A 화학증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 레지스트패턴형성방법 有权
标题翻译：化学放大正电照相组合物和形成电阻图案的方法
公开(公告)号：KR1020050043915A
公开(公告)日：2005-05-11
申请号：KR1020057002750
申请日：2004-05-19
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 마루야마겐지 , 구리하라마사키 , 미야기겐 , 니이쿠라사토시 , 시마타니사토시 , 마스지마마사히로 , 닛타가즈유키 , 야마구치도시히로 , 도이고우스케
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要： A chemically amplified positive photo resist composition which comprises an organic solvent and, dissolved therein, a resin being prepared through the reaction of a novolac resin or a hydroxystyrene resin with a crosslinking agent, being slightly soluble or insoluble in an alkaline aqueous solution and exhibiting enhanced solubility into an aqueous alkali solution in the presence of an acid, and (B) a compound generating an acid by the irradiation with a radiation, wherein it contains an acid component in a amount of 10 ppm or less. The chemically amplified positive photo resist composition can form a resist exhibiting good storage stability as a resist solution in a bottle.
摘要翻译：一种化学放大正光致抗蚀剂组合物，其包含有机溶剂，并溶解于通过酚醛清漆树脂或羟基苯乙烯树脂与交联剂反应制备的树脂，其微溶于或不溶于碱性水溶液并显示出增强的在酸存在下溶解于碱性水溶液中，（B）通过辐射照射产生酸的化合物，其中含有10ppm以下的酸成分。化学放大的正光致抗蚀剂组合物可以形成作为瓶中的抗蚀剂溶液显示出良好的储存稳定性的抗蚀剂。

8. 发明公开

KR1019990014193A 노볼락수지전구체,노볼락수지및노볼락수지를함유한포지티브포토레지스트조성물 有权
标题翻译：含有酚醛清漆树脂前体，酚醛清漆树脂和酚醛清漆树脂的正型光刻胶组合物
公开(公告)号：KR1019990014193A
公开(公告)日：1999-02-25
申请号：KR1019980030048
申请日：1998-07-25
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 미야기겐 , 도이고스께 , 다까하시류사꾸 , 고하라히데까쓰 , 나까야마도시마사
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027

9. 发明授权

KR101872546B1 하지제 및 블록 코폴리머를 함유하는 층의 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR101872546B1
公开(公告)日：2018-06-28
申请号：KR1020137007924
申请日：2011-09-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 , 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소
发明人： 센자키다카히로 , 다자이다카히로 , 미야기겐 , 후지카와시게노리 , 하야카와하루미 , 고이즈미마리
IPC分类号： C08L25/00 , C08L101/00 , C09K3/00 , C08F12/02 , C08K5/28 , C08L33/06 , C08L61/10
CPC分类号： G03F7/11 , C08K5/42 , C08K5/45 , C08L53/00 , C09D125/14 , C09D161/06 , G03F7/00 , G03F7/0002 , G03F7/0233 , G03F7/0752 , G03F7/20 , G03F7/265 , Y10S438/947 , C08L25/02 , C08L2205/025 , C08L33/12 , C08L23/20 , C08F212/08 , C08F212/14 , C08F220/14 , C08F212/32 , C08F2220/325 , C08F2220/1858 , C08F220/18
摘要： 기판상에형성한복수종류의폴리머가결합된블록코폴리머를함유하는층을상 분리시키기위해서사용되는하지제로서, 수지성분을함유하고, 그수지성분전체의구성단위중 20 몰% ∼ 80 몰% 가방향족고리함유모노머유래의구성단위인것을특징으로하는하지제 ; 및기판 (1) 상에상기하지제를도포하여, 그하지제로이루어지는층 (2) 을형성하는공정 (1) 과, 복수종류의폴리머가결합된블록코폴리머를함유하는층 (3) 을상기하지제 (2) 로이루어지는층 표면에형성한후, 상기블록코폴리머를함유하는층 (3) 을상 분리하는공정 (2) 와, 상기블록코폴리머를함유하는층 (3) 중, 상기블록코폴리머를구성하는복수종류의폴리머중의적어도 1 종류의폴리머로이루어지는상 (3a) 을선택적으로제거하는공정 (3) 을갖는것을특징으로하는블록코폴리머를함유하는층의패턴형성방법.

10. 发明公开

KR1020160068671A 하지제 조성물 및 상분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：刷式组合物和生产包含相分离结构的结构的方法
公开(公告)号：KR1020160068671A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：KR1020150170537
申请日：2015-12-02
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 야마노히토시 , 마츠미야다스쿠 , 야하기마사히토 , 구로사와츠요시 , 미야기겐
IPC分类号： C08F212/08 , C08F220/16 , H01L21/027 , H01L21/768 , H01L21/311
CPC分类号： B05D1/36 , B82Y40/00 , C09D125/14 , C09D153/00 , G03F7/0002 , C08F212/08 , C08F220/14 , C08F2220/281
摘要： 기판상에, 블록코폴리머를포함하는층을상분리시키기위해서사용되는하지제조성물로서, 수지성분 (N) 을함유하고, 그수지성분 (N) 이, 소수성의구성단위 (Nx) 와, 친수성의구성단위 (Ny) 를함유하고, 상기수지성분 (N) 중의, 상기구성단위 (Ny) 의함유량이, 5 몰% 이하인것을특징으로하는하지제조성물.
摘要翻译：本发明涉及用于在基材上相分离包含嵌段共聚物的层的研磨组合物。更具体地说，研磨组合物包含由化学式（Nx-1）表示的疏水性结构单元（Nx）和由化学式（Ny-1）表示的亲水性结构单元（Ny）的树脂成分（N）。亲水性结构单元（Ny）构成树脂成分（N）的5摩尔％以下。

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