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1. 发明公开

KR1020050032021A 연마 패드 및 방법 无效
标题翻译：抛光垫和抛光方法
公开(公告)号：KR1020050032021A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：KR1020047006155
申请日：2003-04-18
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 오오노히사또모 , 사또오사또루 , 오오사와가즈나리
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： B24B3/24 , B24B9/065 , B24B37/042 , B24D3/26 , B24D3/28 , B24D13/02 , H01L21/3043 , H01L2223/54493
摘要： A polishing pad (10) and a polishing method capable of stably polishing the notch of a wafer for a long time without generating dust and without damaging the notch during the polishing, the polishing pad (10) comprising a disk-like pad (11) formed of a synthetic resin such as a foam resin and holding plates (12) fixed to both faces of the pad (11) so that the peripheral edge portion of the pad (11) can be exposed, wherein the cross sectional shape of the peripheral edge portion of the pad (11) is formed so as to be fitted into the notch (21), the pad (11) is formed of a foam body such as a foam urethane, the average air bubble diameter of the foam body comes within the range of 10 to 500 mum, and the hardness thereof comes within the range of 25 to 95° in Shore hardness scale A, whereby the notch (21) can be polished by pressingly fitting the peripheral edge portion of the pad (11) into the notch (21) while rotating the polishing pad (10) and feeding slurry to a contact portion between the peripheral edge portion of the pad (11) and the notch (21) through a nozzle (14).
摘要翻译：一种抛光垫（10）和抛光方法，其能够长时间稳定地抛光晶片的凹口而不产生灰尘并且在抛光期间不损坏凹口，所述抛光垫（10）包括盘状垫（11）由诸如泡沫树脂的合成树脂和固定到焊盘（11）的两个表面的保持板（12）形成，使得焊盘（11）的周边部分可以被暴露，其中周边的横截面形状衬垫（11）的边缘部分形成为嵌合在凹口（21）中，衬垫（11）由诸如泡沫聚氨酯的泡沫体形成，泡沫体的平均气泡直径在其内 10至500μm的范围，其硬度在肖氏硬度标度A中在25至95°的范围内，从而可以通过将垫（11）的周边部分压配合而进行抛光所述切口（21）同时旋转所述抛光垫（10）并将浆料供给到所述接触部分在垫（11）的周缘部分和凹口（21）之间通过喷嘴（14）。

2. 发明授权

KR100366906B1 연마시트및그제조방법 失效
公开(公告)号：KR100366906B1
公开(公告)日：2003-02-11
申请号：KR1019950704547
申请日：1995-02-22
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 와따나베노부요시 , 후지이다께시 , 하라마사시 , 오오노히사또모 , 구와바라마꼬또
IPC分类号： B24D11/00
CPC分类号： B24B19/028 , B24D11/00
摘要： An abrasive sheet which can be used in precision working, such as texturing of the suface of a hard disk board, and by which the surface of a work can be finely and uniformly abraded with a desired roughness and abrasion chips and the like can be removed. The sheet is characterized in that abrasive grains (2) are bonded to each of the flocks (1) of a flocked sheet coating the flocks (1) with a coating material (2') containing the abrasive grains (2) and a binder dispersed therein.
摘要翻译：可以去除可用于精密加工的研磨片，如硬盘基片表面的纹理化，并且工件的表面可以以期望的粗糙度和磨损碎片等精细均匀地研磨。该片材的特征在于，用包含磨料颗粒（2）和分散的粘合剂的涂料（2'）将磨料颗粒（2）粘合到涂覆絮凝物（1）的植绒片材的每个植绒（1）在其中。

3. 发明公开

KR1020020086730A 연마 필름 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：磨料膜及其制造方法
公开(公告)号：KR1020020086730A
公开(公告)日：2002-11-18
申请号：KR1020027012904
申请日：2001-11-28
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 오오노히사또모 , 이즈미도시히로
IPC分类号： B24D11/00
摘要： 100 내지 400℃에서 4 내지 48 시간 가열 처리한 50 내지 85 중량 %의 실리카 입자(12)를 바인더 수지(13)로 고정한 50 ㎛ 이상의 두께의 연마층(14)을 플라스틱 필름(11)의 표면에 형성한 연마 필름(10).

4. 发明公开

KR1020030022098A 연마 시트 및 그 제조 방법 无效
标题翻译：抛光片及其制造方法
公开(公告)号：KR1020030022098A
公开(公告)日：2003-03-15
申请号：KR1020027010365
申请日：2001-08-06
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 오오노히사또모 , 이즈미도시히로 , 고바야시도시히로
IPC分类号： B24B37/24 , B24D11/00 , B24B37/00 , D03D15/00
CPC分类号： B24B37/24 , B24D3/28 , B24D11/02
摘要： 사용 시간의 경과와 함께 변형하지 않고, 높은 연마 레이트로 연마 대상물 표면을 균일하게 평탄화할 수 있는 연마 시트 및 방법을 제공하는 것이다. 1개의 섬유(13), 복수개의 섬유를 묶은 섬유 다발(13) 또는 복수개의 섬유를 묶은 섬유 다발을 거듭 복수로 묶은 섬유 다발(13)로 이루어지는 직포 시트(12) 및 이 직포 시트의 섬유 또는 섬유(13) 다발끼리를 고정하는 수지(14)로 구성되는 연마 시트(10)로서. 본 발명의 연마 시트(10)는 안감 시트(15)의 표면에 고정된다. 새틴 수는 3 내지 15의 범위가 바람직하다.

5. 发明公开

KR1019960701728A 연마시트및그제조방법 失效
标题翻译：抛光片及其制造方法
公开(公告)号：KR1019960701728A
公开(公告)日：1996-03-28
申请号：KR1019950704547
申请日：1995-02-22
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 와따나베노부요시 , 후지이다께시 , 하라마사시 , 오오노히사또모 , 구와바라마꼬또
IPC分类号： B24D11/00
摘要： 본 발명은 연마 시트 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 하드 디스크 기판 표면의 택스쳐 둥의 정밀 가공에 사용할 수 있는 연마 시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 파가공물 표면을 미세하게 소정의 거실기로 균일하게 연마 가공하는 동시에 연마 부스러기등을 제거할 수 있는 연마 시트 및 그 제조방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 식모 시트(10)의 식모(1)에 지립(2)과 바인더를 혼합 교반하고 분산시킨 도료(2')를 코팅함으로써 지립(2)이 분리하고 있는 식모(1)의 각각에 부착된 것을 특징으로 하는 연마 시트이다.

6. 发明授权

KR100721888B1 연마 패드 失效
标题翻译：抛光垫
公开(公告)号：KR100721888B1
公开(公告)日：2007-05-28
申请号：KR1020047020057
申请日：2004-04-08
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 오오노히사또모 , 이즈미도시히로 , 사이또미쯔루 , 나가미네다꾸야 , 밀러클로우톤 , 고다까이찌로
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/24 , H01L21/304 , B24B37/00
CPC分类号： B24B37/205
摘要： 연마를 종료하는 시점을 판정하는 연마 기술을 응용하여, 피연마물의 표면을 평활하고 평탄하게 안정적으로 연마할 수 있는 연마 패드 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다. 표면에 연마면(11a)을 갖는 광투과성 패드로 이루어지는 연마 패드(10)이다. 광투과성 패드(11)의 이면(11b)에 오목부(12)를 형성하여, 광투과율을 국소적으로 바꿀 수 있다. 광투과성 패드(11)는 350 내지 900 ㎚의 광파장 영역 내에 있는 적어도 하나의 파장의 빛에 대해 10 ％ 이상, 바람직하게는 30 ％ 이상의 광투과율을 갖는다. 광투과성 패드(11)는, 적합하게는 370 내지 900 ㎚의 광파장 영역, 보다 적합하게는 390 내지 900 ㎚의 광파장 영역에 걸쳐 10 ％ 이상의 광투과율을 나타낸다. 또한 광투과성 패드(11)는, 적합하게는 400 내지 900 ㎚의 광파장 영역, 보다 적합하게는 450 내지 900 ㎚의 파장 범위에 걸쳐 30 ％ 이상의 광투과율을 나타낸다.
광투과성 패드, 연마면, 오목부, 연마 패드, 이면

7. 发明公开

KR1020060049836A 수직 자기 기록 디스크의 제조 방법 无效
标题翻译：专用磁记录盘的制造方法
公开(公告)号：KR1020060049836A
公开(公告)日：2006-05-19
申请号：KR1020050060014
申请日：2005-07-05
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 요꼬따야스유끼 , 오오노히사또모 , 구마사까노리유끼
IPC分类号： G11B5/84 , G11B5/62 , G11B5/66
CPC分类号： G11B5/667 , B24B21/04 , B24B37/08 , G11B5/8404
摘要： 본 발명의 과제는 평탄 또는 평활한 수직 자기 기록 디스크를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
연자성층(13)의 표면을 평활하게 연마한 후에, 수직 기록층(15)은 이 평활하게 연마한 연자성층(13)의 표면에 중간층(14)을 거쳐서, 또는 직접 형성된다. 이에 의해, 연자성층(13)의 표면으로부터 이상 성장에 의해 형성된 돌기나 부착물이 제거된다. 기판(11)의 양면에 형성된 각각의 연자성층(13)의 표면은 고정 지립 연마된다. 이 고정 지립 연마는 기판(11)을 회전시키고, 이 기판(11)의 양면 상의 각각의 연자성층(3)의 표면에 패드(24)를 거쳐서 연마 테이프(26)를 압박하고, 패드(26)를 기판(11)의 화살표 X로 나타내는 직경 방향으로 왕복 이동시킴으로써 행해진다. 연마 테이프(26)는 기판(11)의 직경 방향으로 연속적으로 이송해도 좋고, 정시시킨 상태라도 좋다.
연자성층, 패드, 연마 테이프, 기판, 수직 기록층

8. 发明公开

KR1020050042752A 연마 패드 失效
标题翻译：抛光垫及其制造方法
公开(公告)号：KR1020050042752A
公开(公告)日：2005-05-10
申请号：KR1020047020057
申请日：2004-04-08
申请人： 니혼 미크로 코팅 가부시끼 가이샤
发明人： 오오노히사또모 , 이즈미도시히로 , 사이또미쯔루 , 나가미네다꾸야 , 밀러클로우톤 , 고다까이찌로
IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/24 , H01L21/304 , B24B37/00
CPC分类号： B24B37/205
摘要： A polishing pad is disclosed which enables to stably polish the surface of an object smooth and flat by applying the polishing technique for determining when polishing is completed. A method for producing such a polishing pad is also disclosed. A polishing pad (10) is composed of a light-transmitting pad having a polishing surface (11a) on the front side. By forming a recess (12) on the back side (11b) of the light-transmitting pad (11), the light transmittance can be locally changed. The light-transmitting pad (11) has a light transmittance of not less than 10%, preferably of not less than 30%, to at least a light having a wavelength within the region of 350-900 nm. The light-transmitting pad (11) has a light transmittance of not less than 10% preferably over the light wavelength region of 370-900 nm, more preferably over the light wavelength region of 390-900 nm. The light- transmitting pad (11) has a light transmittance of not less than 30% preferably over the light wavelength region of 400-900 nm, more preferably over the light wavelength region of 450-900 nm.
摘要翻译：公开了一种抛光垫，其通过应用用于确定抛光完成时的抛光技术，能够使物体的表面光滑平坦地被抛光。还公开了一种用于制造这种抛光垫的方法。抛光垫（10）由在前侧具有研磨面（11a）的透光垫构成。通过在透光垫（11）的背面（11b）上形成凹部（12），可以局部地改变透光率。透光垫（11）对波长在350-900nm范围内的至少一种光具有不小于10％，优选不小于30％的透光率。透光垫（11）的透光率优选在370-900nm的光波长区域以上，更优选在390-900nm的光波长区域以上的10％以上的透光率。发光垫（11）的透光率优选在400-900nm的光波长区域以上，更优选在450-900nm的光波长区域以上30％以上的透光率。

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