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1. 发明公开

KR1020150026920A 가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법 有权
标题翻译：气体供应装置和气体分配供应方法
公开(公告)号：KR1020150026920A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：KR1020140112466
申请日：2014-08-27
申请人： 가부시키가이샤 후지킨 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타카하시에이지 , 사사키노리카즈 , 사와치아츠시 , 사와다요헤이 , 이케다노부카즈 , 도히료우수케 , 니시노코우지
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05D7/0664 , G05D11/132 , Y10T137/0363 , Y10T137/2529 , Y10T137/2562 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , H01L21/02 , G05D7/0641 , G05D11/16
摘要： (과제) 압력식 유량 제어장치로부터의 가스 흐름을 복수의 분류로를 통해서 분류 공급하는 가스 분류 공급장치에 있어서, 가스 도입시의 분류로에 있어서의 가스의 오버슈트의 발생을 방지함과 아울러 분류량 제어의 응답성과 안정성과 제어 정밀도를 높인다.
(과제 해결수단) 가스 공급원으로부터의 가스의 유량 제어장치와, 유량 제어장치로부터의 가스를 가스 사용 개소로 분류하는 병렬로 접속된 복수의 분류로(L
1 ∼L
n )와, 각 분류로(L
1 ∼L
n )에 설치한 열식 유량센서와, 열식 유량센서(29a∼29n)의 하류측에 설치한 전동밸브(28a∼28n)와, 각 전동밸브(28a∼28n)의 개폐를 제어하는 컨트롤러(16a∼16n)와, 외부로부터 유량비 지령값이 입력됨과 아울러 각 열식 유량센서(29a∼29n)의 유량으로부터 총 유량을 연산하고, 상기 연산한 총 유량과 상기 유량비 지령값으로부터 각 분류로(L
1 ∼L
n )의 유량값을 연산해서 각 컨트롤러(16a∼16n)에 상기 연산 유량값을 설정 유량으로서 입력하는 유량비 설정 연산기(RSC)를 구비하고, 우선, 상기 유량비 설정 연산기(RSC)로부터 입력된 설정 유량값이 최대가 되는 어느 하나의 분류로 (L
1 ∼L
n )를 비제어 상태로 해서 그 개방도를 일정값으로 유지함과 아울러 그 밖의 분류로의 개방도를 설정 개방도로 제어하고, 그 후에 각 컨트롤러(16a∼16n)에 의해 각 분류로(L
1 ∼L
n )의 분류량을 피드백 제어한다.
摘要翻译：（问题）中，通过多个分散路径分散并供给来自压力式流量控制装置的气体流的气体分散供给装置，能够防止产生气体，并且能够抑制气体的响应特性，稳定性，控制精度当输入气体时，色散量控制在色散路径上得到改善。（溶液）本发明包括来自气体供给源的气体的流量控制装置，并联连接的多个分散路径（L1-Ln），以将来自流量控制装置的气体分散到气体使用场所，安装在每个分散路径（L1-Ln）处的热流量传感器，安装在热流量传感器（29a-29n）的下侧的电动阀（28a-28n），控制器（16a-16n）控制每个电动阀的打开和关闭，以及流量设定操作单元（RSC）。

2. 发明授权

KR101690583B1 가스 분류 공급장치 및 가스 분류 공급방법 有权
标题翻译：气体供应装置和气体分配供应方法
公开(公告)号：KR101690583B1
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：KR1020140112466
申请日：2014-08-27
申请人： 가부시키가이샤 후지킨 , 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 타카하시에이지 , 사사키노리카즈 , 사와치아츠시 , 사와다요헤이 , 이케다노부카즈 , 도히료우수케 , 니시노코우지
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： G05D7/0664 , G05D11/132 , Y10T137/0363 , Y10T137/2529 , Y10T137/2562 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要： (과제) 압력식유량제어장치로부터의가스흐름을복수의분류로를통해서분류공급하는가스분류공급장치에있어서, 가스도입시의분류로에있어서의가스의오버슈트의발생을방지함과아울러분류량제어의응답성과안정성과제어정밀도를높인다. (과제해결수단) 가스공급원으로부터의가스의유량제어장치와, 유량제어장치로부터의가스를가스사용개소로분류하는병렬로접속된복수의분류로(L∼L)와, 각분류로(L∼L)에설치한열식유량센서와, 열식유량센서(29a∼29n)의하류측에설치한전동밸브(28a∼28n)와, 각전동밸브(28a∼28n)의개폐를제어하는컨트롤러(16a∼16n)와, 외부로부터유량비지령값이입력됨과아울러각 열식유량센서(29a∼29n)의유량으로부터총 유량을연산하고, 상기연산한총 유량과상기유량비지령값으로부터각 분류로(L∼L)의유량값을연산해서각 컨트롤러(16a∼16n)에상기연산유량값을설정유량으로서입력하는유량비설정연산기(RSC)를구비하고, 우선, 상기유량비설정연산기(RSC)로부터입력된설정유량값이최대가되는어느하나의분류로(L∼L)를비제어상태로해서그 개방도를일정값으로유지함과아울러그 밖의분류로의개방도를설정개방도로제어하고, 그후에각 컨트롤러(16a∼16n)에의해각 분류로(L∼L)의분류량을피드백제어한다.
摘要翻译：一种用于分配和供应气体的装置设置有流量控制装置，从流量控制装置流动的多条分流流路，设置在分流流路上的热型质量流量传感器，设置有电动阀的电动阀在热型质量流量传感器的下游侧，控制电动阀的控制器和计算总流量的流量比设定计算器，然后计算分流流路的流量，然后输入计算出的流量设定为每个控制器的流量。一个具有最高设定流量的分流通道处于不受控状态，并且对每个其余分流通道的开度进行控制，然后分流流路的分流流量的反馈控制为由每个控制器实现。

3. 发明公开

KR1020150056536A 가스 공급 방법 및 플라즈마 처리 장치 审中-实审
标题翻译：气体供应方法和等离子体处理装置
公开(公告)号：KR1020150056536A
公开(公告)日：2015-05-26
申请号：KR1020157004334
申请日：2013-09-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마시타가즈오 , 세키모토유이치로 , 사와치아츠시
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/311 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/3244 , C23C16/455 , C23C16/52 , H01J37/32091 , H01J37/32449 , H01J2237/332 , H01J2237/334 , H01L21/3065 , H01L21/31138 , H01L21/67069
摘要： 가스공급방법은, 선택공정과, 첨가가스공급공정을포함한다. 선택공정은, 피처리막이형성된기판이배치되는처리실내에플라즈마처리에이용되는처리가스를도입하는가스도입부를구획하여얻어진복수의가스실중 첨가가스가공급되는가스실과상기첨가가스의종별의조합을상기피처리막의종별에따라선택한다. 첨가가스공급공정은, 상기선택공정에의해선택된상기조합에기초하여, 상기가스실에대하여상기첨가가스를공급한다.

4. 发明公开

KR1020170046641A 가스 공급계, 플라즈마 처리 장치 및 플라즈마 처리 장치의 운용 방법 审中-实审
标题翻译：气体供应系统，等离子体处理设备和操作等离子体处理设备的方法
公开(公告)号：KR1020170046641A
公开(公告)日：2017-05-02
申请号：KR1020177001597
申请日：2015-08-06
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 사와치아츠시 , 사사키노리카즈 , 야마시마쥰 , 사토요시야스 , 노가미켄이치
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31 , C23C16/455 , C23C16/509
CPC分类号： C23C16/45561 , C23C16/455 , C23C16/45523 , C23C16/45587 , C23C16/509 , H01J37/3244 , H01L21/02274 , H01L21/3065 , H01L21/67017
摘要： 일실시형태의가스공급계는제 1 ~ 제 3 기구를구비한다. 제 1 기구의복수의통합부는하나이상의가스소스로부터의가스를선택하고, 선택한가스를출력하도록구성되어있다. 제 2 기구는복수의통합부로부터의복수의가스를분배하고, 분배된가스의유량을조정하여출력하도록구성되어있다. 제 3 기구는가스공급계내의가스를배기장치로배기하도록구성되어있다.
摘要翻译：一个实施例的气体供应系统包括第一至第三机构。第一机构的多个积分器被配置为从一个或多个气体源中选择气体并输出所选择的气体。第二机构被配置为分配来自多个集成部件的多种气体，并且调节和输出分配气体的流量。第三机构构造成将气体供应系统中的气体排出到排气装置。

5. 发明授权

KR101271800B1 성막 장치 有权
标题翻译：成膜装置
公开(公告)号：KR101271800B1
公开(公告)日：2013-06-07
申请号：KR1020127020098
申请日：2009-09-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 즈지노리히코 , 모로이마사유키 , 사와치아츠시 , 이와타테루오
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/45544 , B29C66/71 , C23C16/45517 , C23C16/45527 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , H01L21/02164 , H01L21/02197 , H01L21/0228 , H01L21/3141 , H01L21/31608 , H01L21/31691
摘要： 본 발명은 진공 용기 내에서, 제1 반응 가스와 제2 반응 가스를 교대로 공급하여 배기하는 사이클을 복수회 실행함으로써, 기판의 표면에 박막을 성막하는 성막 장치에 있어서, 상기 진공 용기 내에 설치되고, 각각 기판의 배치 영역을 포함하는 복수의 하부 부재와, 상기 복수의 하부 부재의 각각에 대향하여 설치되며, 상기 배치 영역과의 사이에 처리 공간을 형성하는 복수의 상부 부재와, 상기 처리 공간 내에 가스를 공급하기 위한, 제1 반응 가스 공급부, 제2 반응 가스 공급부, 및, 상기 제1 반응 가스를 공급하는 타이밍과, 상기 제2 반응 가스를 공급하는 타이밍 사이에 퍼지 가스를 공급하기 위한 퍼지 가스 공급부와, 상기 처리 공간의 둘레 방향을 따라 형성되고, 그 처리 공간 내와 그 처리 공간의 외부인 상기 진공 용기 내의 분위기를 연통하기 위� � 배기용 개구부와, 상기 처리 공간을, 상기 배기용 개구부 및 상기 진공 용기 내의 분위기를 통해 진공 배기하기 위한 진공 배기 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.
摘要翻译：一种成膜装置，通过在真空容器内交替地供给和排出第一反应气体和第二反应气体来进行基板的排气循环，从而在基板的表面形成薄膜，多个下部构件，所述多个下部构件布置成面对所述多个下部构件中的每一个并且在所述下部构件和所述布置区域之间形成处理空间; 在用于供给第一反应气体的时刻和供给用于供给第一反应气体的第二反应气体的时刻之间供给吹扫气体的吹扫气体，第一反应气体供给部件，第二反应气体供给部件，以及沿着处理空间的圆周方向形成并与处理空间外部的真空室内的大气连通的真空室和用于排气的开口，一个膜形成处理空间的装置，其特征在于，它包括一个真空排气装置，用于通过在所述排气口的气氛中，并在真空容器抽真空。

6. 发明授权

KR101248654B1 성막 장치 有权
公开(公告)号：KR101248654B1
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：KR1020107023541
申请日：2009-09-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 즈지노리히코 , 모로이마사유키 , 사와치아츠시 , 가토스스무
IPC分类号： H01L21/205 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/45544 , B29C66/71 , C23C16/45517 , C23C16/45527 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , H01L21/02164 , H01L21/02197 , H01L21/0228 , H01L21/3141 , H01L21/31608 , H01L21/31691
摘要： 본 발명은 진공 용기 내에서, 제1 반응 가스와 제2 반응 가스를 교대로 공급하여 배기하는 사이클을 복수회 실행함으로써, 기판의 표면에 박막을 성막하는 성막 장치에 있어서, 상기 진공 용기 내에 설치되고, 각각 기판의 배치 영역을 포함하는 복수의 하부 부재와, 상기 복수의 하부 부재의 각각에 대향하여 설치되며, 상기 배치 영역과의 사이에 처리 공간을 형성하는 복수의 상부 부재와, 상기 처리 공간 내에 가스를 공급하기 위한, 제1 반응 가스 공급부, 제2 반응 가스 공급부, 및, 상기 제1 반응 가스를 공급하는 타이밍과, 상기 제2 반응 가스를 공급하는 타이밍 사이에 퍼지 가스를 공급하기 위한 퍼지 가스 공급부와, 상기 처리 공간의 둘레 방향을 따라 형성되고, 그 처리 공간 내와 그 처리 공간의 외부인 상기 진공 용기 내의 분위기를 연통하기 위한 배기용 개구부와, 상기 처리 공간을, 상기 배기용 개구부 및 상기 진공 용기 내의 분위기를 통해 진공 배기하기 위한 진공 배기 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

7. 发明公开

KR1020120101165A 성막 장치 有权
标题翻译：电影制作装置
公开(公告)号：KR1020120101165A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：KR1020127020098
申请日：2009-09-29
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 즈지노리히코 , 모로이마사유키 , 사와치아츠시 , 이와타테루오
IPC分类号： H01L21/205
CPC分类号： C23C16/45544 , B29C66/71 , C23C16/45517 , C23C16/45527 , C23C16/45551 , C23C16/45563 , H01L21/02164 , H01L21/02197 , H01L21/0228 , H01L21/3141 , H01L21/31608 , H01L21/31691
摘要： 본 발명은 진공 용기 내에서, 제1 반응 가스와 제2 반응 가스를 교대로 공급하여 배기하는 사이클을 복수회 실행함으로써, 기판의 표면에 박막을 성막하는 성막 장치에 있어서, 상기 진공 용기 내에 설치되고, 각각 기판의 배치 영역을 포함하는 복수의 하부 부재와, 상기 복수의 하부 부재의 각각에 대향하여 설치되며, 상기 배치 영역과의 사이에 처리 공간을 형성하는 복수의 상부 부재와, 상기 처리 공간 내에 가스를 공급하기 위한, 제1 반응 가스 공급부, 제2 반응 가스 공급부, 및, 상기 제1 반응 가스를 공급하는 타이밍과, 상기 제2 반응 가스를 공급하는 타이밍 사이에 퍼지 가스를 공급하기 위한 퍼지 가스 공급부와, 상기 처리 공간의 둘레 방향을 따라 형성되고, 그 처리 공간 내와 그 처리 공간의 외부인 상기 진공 용기 내의 분위기를 연통하기 위한 배기용 개구부와, 상기 처리 공간을, 상기 배기용 개구부 및 상기 진공 용기 내의 분위기를 통해 진공 배기하기 위한 진공 배기 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 성막 장치이다.

8. 发明公开

KR1020120056782A 처리 장치 审中-实审
标题翻译：加工设备
公开(公告)号：KR1020120056782A
公开(公告)日：2012-06-04
申请号：KR1020110122901
申请日：2011-11-23
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 데즈카카즈유키 , 카토켄이치 , 사와치아츠시 , 기쿠치타카미치 , 미무라타카노리
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32082
摘要： PURPOSE: A processing apparatus is provided to easily change a discharge location of a process gas without changing a location of a circular partition member or a processing gas discharge unit. CONSTITUTION: A process chamber(2) processes a wafer(W) by using a process gas. A mounting table(4) mounts the wafer while being installed in the process chamber. The mounting table is connected to a second high frequency power supply(9) by interposing a matching device(8). A processing gas discharge unit(5) is installed within the process chamber facing the mounting table. The processing gas discharge unit discharges the process gas to the process chamber. The processing gas discharge unit is connected to a first high frequency power(7) by interposing a matching device(6).
摘要翻译：目的：提供一种处理装置，用于容易地改变处理气体的排放位置，而不改变圆形分隔构件或处理气体排出单元的位置。构成：处理室（2）通过使用工艺气体处理晶片（W）。安装台（4）在安装在处理室中时安装晶片。安装台通过插入匹配装置（8）连接到第二高频电源（9）。处理气体排出单元（5）安装在面向安装台的处理室内。处理气体放电单元将处理气体排放到处理室。处理气体放电单元通过插入匹配装置（6）连接到第一高频电力（7）。

9. 发明授权

KR102132045B1 가스 공급 방법 및 플라즈마 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102132045B1
公开(公告)日：2020-07-08
申请号：KR1020157004334
申请日：2013-09-10
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 야마시타가즈오 , 세키모토유이치로 , 사와치아츠시
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/67 , H01J37/32

10. 发明公开

KR1020160120660A 가스 공급 제어 방법 审中-实审
标题翻译：气体供应控制方法
公开(公告)号：KR1020160120660A
公开(公告)日：2016-10-18
申请号：KR1020160038419
申请日：2016-03-30
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 오노쿠미코 , 츠지모토히로시 , 사와치아츠시 , 아미쿠라노리히코 , 사사키노리카즈 , 카와구치요시타카
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/60 , G05D7/01
CPC分类号： G05D7/0647 , H01L21/02 , G05D7/0113 , H01L21/67005 , H01L2021/60187
摘要： 챔버내에신속하게원하는유량의가스를공급한다. 압력제어식유량계와, 압력제어식유량계의상류측의제 1 밸브와, 하류측의제 2 밸브를이용한가스공급제어방법으로서, 압력제어식유량계는, 제 1및제 2 밸브에접속되는컨트롤밸브와, 컨트롤밸브와제 2 밸브사이에마련되는오리피스를가지고, 오리피스및 컨트롤밸브간의가스공급관의용적(V)과오리피스및 제 2 밸브간의가스공급관의용적(V)은 V/ V≥ 9이며, 오리피스및 컨트롤밸브간의가스공급관의압력(P)과오리피스및 제 2 밸브간의가스공급관의압력(P)은, 가스를공급하는동안 P> 2 × P로유지되고, 제 1 밸브를열고, 컨트롤밸브를제어한상태에서제 2 밸브의개폐제어에의해가스의공급을제어하는가스공급제어방법이제공된다.
摘要翻译：气体供给控制方法使用压力控制用流量计和分别设置在气体供给管路中的压力控制用流量计的上游和下游的第一阀和第二阀。压力控制流量计包括控制阀和孔。气体供给控制方法包括：保持孔和控制阀之间的第一气体供给管的压力P1和孔与第二阀之间的第二气体供给管的压力P2，以满足P1> 2×P2。通过控制第一阀打开并控制控制阀来控制第二阀的打开和关闭来控制气体供应。第一气体供给管的体积V1和第二气体供给管的体积V2具有V1 /V2≥9的关系。

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