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    • 3. 发明公开
    • 막후 제어 장치, 막후 제어 방법 및 성막 장치
    • 薄膜厚度控制装置薄膜厚度控制方法和薄膜形成装置
    • KR1020160147009A
    • 2016-12-21
    • KR1020167033200
    • 2015-07-10
    • 가부시키가이샤 아루박
    • 코바야시,요시카즈이토,아츠시엔도,지로
    • C23C14/54G01B17/02
    • C23C14/52G01B17/02C23C14/542C23C14/546G01B17/025
    • [과제] 이상치를원인으로하는증착원으로의과잉피드백제어를억제할수 있는막후제어장치, 막후제어방법및 성막장치를제공한다. [해결수단] 본발명의일 형태에따른막후제어장치는, 증착원을가지는성막장치에설치된진동자의발진주파수에근거해성막레이트를측정하고, 측정된상기성막레이트에근거해상기증착원을제어하는막후제어장치에있어서, 레이트산출부(431)와, 제1 필터부(432)와, 제2 필터부(433)를구비한다. 레이트산출부(431)는, 진동자의발진주파수에근거해, 단위시간마다의레이트환산치를산출한다. 제1 필터부(중앙치연산부(432))는, 레이트산출부(431)로부터출력되는레이트환산치로부터이상치를제거(중앙치를산출)하도록구성된다. 제2 필터부(평활화처리부(433))는, 상기제1 필터부로부터출력되는레이트환산치를평활화하도록구성된다.
    • [问题]提供一种膜厚控制装置,膜厚控制方法和成膜装置,可以抑制由异常值引起的对蒸镀源的过度反馈控制。 [解决方案]根据本发明的实施方式的膜厚控制装置是根据设置在包括气相沉积源的成膜装置中的振荡器的振荡频率来测量成膜速度的膜厚控制装置, 并且根据被测量的成膜速度来控制气相沉积源,所述膜厚控制装置包括速率计算单元(431),第一过滤器单元(432)和第二过滤器单元(433)。 速率计算单元(431)基于振荡器的振荡频率计算每单位时间的速率转换值。 第一滤波器单元(中值计算单元432)被配置为从速率计算单元(431)输出的速率转换值中除去异常值(以计算中值)。 第二滤波器单元(平滑单元(433))被配置为平滑从第一滤波器单元输出的速率转换值。