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1. 发明公开

KR1020110012581A 수소 실세스퀴옥산을 포함하는 폴리실라잔 코팅 조성물 无效
标题翻译：包含氢硅烷的聚氨酯涂料组合物
公开(公告)号：KR1020110012581A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：KR1020090070363
申请日：2009-07-31
申请人： (주)디엔에프
发明人： 임민혁 , 박정현 , 변태석 , 전상용 , 손승 , 권용희 , 문상덕 , 조익행 , 김진동 , 김명운
IPC分类号： C09D183/08
CPC分类号： C09D183/16 , C08L83/04
摘要： PURPOSE: A polysilazane coating composition is provided to enable use as a material of electric components such as an interlayer insulating film, dielectric film, planarized film, passivation membrane, and separation insulator. CONSTITUTION: A polysilazane coating composition comprises a polysilazane solution and hydrogen silsesquioxane. The polysilazane includes a skeleton represented by chemical formula 1 and has 3,000-10,000 of average molecular weight. A weight ratio of the hydrogen silsesquioxane and polysilazane solution is 10 : 0.1~2. A method for preparing the polysilazane coating composition includes a step for mixing a solution containing the polysilazane with hydrogen silsesquioxane in a weight ratio of 10 : 0.1~2.
摘要翻译：目的：提供聚硅氮烷涂料组合物，以使其能够用作诸如层间绝缘膜，电介质膜，平坦化膜，钝化膜和分离绝缘体之类的电子部件的材料。构成：聚硅氮烷涂料组合物包含聚硅氮烷溶液和氢倍半硅氧烷。聚硅氮烷包括由化学式1表示的骨架，具有3,000-10,000的平均分子量。氢倍半硅氧烷和聚硅氮烷溶液的重量比为10：0.1〜2。制备聚硅氮烷涂料组合物的方法包括将含有聚硅氮烷的溶液与重量比为10：0.1〜2的氢倍半硅氧烷混合的步骤。

2. 发明授权

KR100804413B1 지르코늄 산화물 박막 증착용 유기금속 선구물질 및 이의제조 방법 失效
标题翻译：二氧化锆薄膜沉积的前驱物及其制备方法
公开(公告)号：KR100804413B1
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：KR1020060056116
申请日：2006-06-21
申请人： (주)디엔에프
发明人： 김명운 , 김진동 , 박정우 , 신재관 , 김재완 , 임민혁
IPC分类号： C07F7/00
摘要： 본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 신규한 지르코늄 산화물 선구물질 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따라 합성된 지르코늄 산화물 선구물질은 열적으로 안정하고 휘발성이 개선되어 지르코늄 산화물 박막 제조에 유리하게 사용할 수 있다.
[화학식 1]

[상기 화학식 1에서 A는 NR
2 R
3 또는 ER
4 이고; E는 산소(O) 또는 황(S)이고; R
1 은 수소, 메틸 또는 에틸이고; R
2 및 R
3 는 서로 독립적으로 플루오르를 포함하거나 포함하지 않는 C1-C4의 알킬기 또는 SiR
5
3 이고; R
4 는 플루오르를 포함하거나 포함하지 않는 C1-C6의 알킬기 또는 SiR
5
3 이고; R
5 는 C1-C4의 알킬기이다.]
지르코늄 산화물 선구물질, 지르코늄 산화물, 박막, MOCVD, ALD

3. 发明公开

KR1020110012574A 아미노실란을 포함하는 폴리실라잔 조성물 无效
标题翻译：包含氨基硅烷的聚氨酯组合物
公开(公告)号：KR1020110012574A
公开(公告)日：2011-02-09
申请号：KR1020090070351
申请日：2009-07-31
申请人： (주)디엔에프
发明人： 임민혁 , 박정현 , 변태석 , 전상용 , 손승 , 권용희 , 오정미 , 조익행 , 김진동 , 김명운
IPC分类号： C09D183/08
CPC分类号： C09D183/16 , C08K5/544
摘要： PURPOSE: A polysilazane composition is provided to reduce the volume contraction of silicon dioxide and to form a silicon oxide film suitable for electric components with excellent film texture. CONSTITUTION: A polysilazane composition for forming a film comprises a polysilazane solution and aminosilane. A method for preparing the polysilazane composition comprises a step of mixing a solution including a skeleton represented by chemical formula 1 in which polysilazane with an average molecular weight of 3,000-10,000 is dissolved, with aminosilane of chemical formula 2: H_mSi(NR^1R^2)_(4-m) or chemical formula 3: H_nSi(ONR^3R^4)_(4-n) in a weight ratio of 10 : 0.1~2.
摘要翻译：目的：提供聚硅氮烷组合物以减少二氧化硅的体积收缩并形成适合于具有优异膜组织的电组件的氧化硅膜。构成：用于形成膜的聚硅氮烷组合物包含聚硅氮烷溶液和氨基硅烷。制备聚硅氮烷组合物的方法包括将包含其中溶解有平均分子量为3,000-10,000的聚硅氮烷的化学式1所示骨架的溶液与化学式2的氨基硅烷混合的步骤：H_mSi（NR 1 R 1） 2）_（4-m）或化学式3：重量比为10：0.1〜2的H_nSi（ONR ^ 3R ^ 4）_（4-n）

4. 发明公开

KR1020070121281A 지르코늄 산화물 박막 증착용 유기금속 선구물질 및 이의제조 방법 失效
标题翻译：二氧化锆薄膜沉积的前驱物及其制备方法
公开(公告)号：KR1020070121281A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：KR1020060056116
申请日：2006-06-21
申请人： (주)디엔에프
发明人： 김명운 , 김진동 , 박정우 , 신재관 , 김재완 , 임민혁
IPC分类号： C07F7/00
CPC分类号： C23C16/40 , C07F7/00
摘要： A precursor of zirconium dioxide is provided to improve thermal stability and volatility of the compound, thereby depositing high quality of zirconium dioxide thin film through the metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD) or atomic layer deposition(ALD) method. A precursor of zirconium dioxide for deposition of zirconium dioxide thin film is represented by the formula(1), wherein A is NR^2R^3 or ER^4; E is oxygen or sulfur; R^1 is hydrogen, methyl or ethyl; R^2 and R^3 are each independently C1-C4 alkyl group optionally having a fluor group or SiR^5_3; R^4 is C1-C6 alkyl group optionally having a fluor group or SiR^5_3; and R^5 is C1-C4 alkyl group. The precursor of zirconium dioxide represented by the formula(1) is prepared by reacting a zirconium compound represented by the formula(2) with alkali metal salt of amide, alkali metal salt of alkoxide or alkali metal salt of thiolate represented by the formula(3): MA, wherein M is lithium, sodium or potassium and X is chlorine, bromine or iodine atom.
摘要翻译：提供二氧化锆的前体以提高化合物的热稳定性和挥发性，从而通过金属 - 有机化学气相沉积（MOCVD）或原子层沉积（ALD）方法沉积高质量的二氧化锆薄膜。用于沉积二氧化锆薄膜的二氧化锆的前体由式（1）表示，其中A是NR 2 R 2 3或ER 4; E是氧或硫; R 1是氢，甲基或乙基; R 2和R 3各自独立地为任选具有氟基团的C 1 -C 4烷基或SiR 5 3; R 4是任选具有氟基或C 1 -C 5烷基的C 1 -C 6烷基; R 5为C 1 -C 4烷基。由式（1）表示的二氧化锆前体通过式（2）表示的锆化合物与酰胺的碱金属盐，醇盐的碱金属盐或由式（3）表示的硫醇盐的碱金属盐）：MA，其中M为锂，钠或钾，X为氯，溴或碘原子。

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