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    • 1. 发明授权
    • 레이저를 이용하여 균일한 특성과 두께를 갖는 대면적박막 증착 장치
    • 레이저를이용하여균일한특성과두께를갖는대면적박막증착장장치
    • KR100389511B1
    • 2003-06-27
    • KR1020000041327
    • 2000-07-19
    • 김상옥채희백홍진수김창교
    • 김상옥홍진수김창교채희백
    • C23C16/48
    • PURPOSE: An apparatus is provided which obtains a large area thin film in a laser deposition process, and obtains a thin film having a constant thickness and uniformed physical properties over a large area of the film using a laser deposition process. CONSTITUTION: In a laser beam deposition equipment forming a thin film, the apparatus for depositing a large area thin film comprises a microwave generator irradiating microwaves(195) onto a substrate(105a) on which a thin film is deposited in a direction parallel to the surface of the substrate; and a resonator(133) evenly diffusing the plasma emitted on the surface of the substrate on the substrate by forming the microwaves(195) into stationary waves on the surface of the substrate(105a). The apparatus for depositing a large area thin film comprises a vacuum chamber(101); a target substrate(103) which is installed in the vacuum chamber, rotationally moved, and on which a deposition material is installed; a substrate mount(105) which is installed in the vacuum chamber with spaced apart from the target substrate in a certain distance, on which a substrate is installed, wherein a thin film is formed on the substrate, and which can be rotationally moved; a laser generator(111) capable of irradiating laser beams toward the target substrate; a microwave generator capable of emitting microwaves in a direction parallel to the surface of the substrate; and a resonance(133) forming the microwaves(195) into stationary waves on the surface of the substrate(105a).
    • 目的:提供一种在激光沉积工艺中获得大面积薄膜的设备,并且使用激光沉积工艺在大面积的薄膜上获得具有恒定厚度和均匀物理性质的薄膜。 构成:在形成薄膜的激光束沉积设备中,用于沉积大面积薄膜的设备包括微波发生器,该微波发生器将微波(195)照射到基底(105a)上,基底(105a)上沉积有薄膜, 基材表面; 以及谐振器(133),通过将微波(195)形成为基板(105a)表面上的固定波,将在基板表面上发射的等离子体均匀地扩散到基板上。 沉积大面积薄膜的装置包括真空室(101); 安装在真空室内并旋转移动并且在其上安装沉积材料的目标基板(103) 基板安装部,该基板安装部安装在所述真空室内并与所述目标基板隔开一定距离,在所述基板安装基板上安装有基板,其中,在所述基板上形成有能够旋转移动的薄膜; 激光发生器(111),其能够朝向目标基板照射激光束; 微波发生器,能够在平行于基板表面的方向上发射微波; 和在衬底(105a)的表面上形成微波(195)成静止波的谐振(133)。
    • 2. 发明公开
    • 레이저를 이용하여 균일한 특성과 두께를 갖는 대면적박막 증착 장치
    • 用于沉积具有均匀性质的大面积薄膜的装置和使用激光的厚度
    • KR1020020007821A
    • 2002-01-29
    • KR1020000041327
    • 2000-07-19
    • 김상옥채희백홍진수김창교
    • 김상옥홍진수김창교채희백
    • C23C16/48
    • C23C14/28C23C14/0605C23C14/505C23C14/54Y10S427/106
    • PURPOSE: An apparatus is provided which obtains a large area thin film in a laser deposition process, and obtains a thin film having a constant thickness and uniformed physical properties over a large area of the film using a laser deposition process. CONSTITUTION: In a laser beam deposition equipment forming a thin film, the apparatus for depositing a large area thin film comprises a microwave generator irradiating microwaves(195) onto a substrate(105a) on which a thin film is deposited in a direction parallel to the surface of the substrate; and a resonator(133) evenly diffusing the plasma emitted on the surface of the substrate on the substrate by forming the microwaves(195) into stationary waves on the surface of the substrate(105a). The apparatus for depositing a large area thin film comprises a vacuum chamber(101); a target substrate(103) which is installed in the vacuum chamber, rotationally moved, and on which a deposition material is installed; a substrate mount(105) which is installed in the vacuum chamber with spaced apart from the target substrate in a certain distance, on which a substrate is installed, wherein a thin film is formed on the substrate, and which can be rotationally moved; a laser generator(111) capable of irradiating laser beams toward the target substrate; a microwave generator capable of emitting microwaves in a direction parallel to the surface of the substrate; and a resonance(133) forming the microwaves(195) into stationary waves on the surface of the substrate(105a).
    • 目的:提供一种在激光沉积工艺中获得大面积薄膜的设备,并且使用激光沉积工艺在薄膜的大面积上获得具有恒定厚度和均匀物理性能的薄膜。 构成:在形成薄膜的激光束沉积设备中,用于沉积大面积薄膜的设备包括微波发生器,其将微波(195)照射到基板(105a)上,在基板(105a)上沉积薄膜, 基材表面; 以及谐振器(133),通过在基板(105a)的表面上形成微波(195)成为静止波,使在基板表面上发射的等离子体均匀地漫射在基板上。 用于沉积大面积薄膜的设备包括真空室(101); 安装在所述真空室中的旋转移动并且沉积材料安装在其上的目标基板(103) 基板安装件(105),其安装在与目标基板间隔开一定距离的真空室中,其上安装有基板,其中薄膜形成在基板上,并且可旋转地移动; 激光发生器(111),其能够朝向所述目标基板照射激光束; 微波发生器,其能够在平行于所述基板的表面的方向上发射微波; 以及在基板(105a)的表面上形成静止波的微波(195)的共振(133)。
    • 3. 发明授权
    • 유기발광 디바이스 및 그 제조방법
    • 有机发光二极管及其制造方法
    • KR100590002B1
    • 2006-06-19
    • KR1020040092901
    • 2004-11-15
    • 홍진수서유석박훈박성훈정영철채희백
    • 홍진수채희백박훈박성훈서유석
    • H05B33/04H05B33/10
    • 본 발명은 유기발광 디바이스 및 그 제조방법에 관한 것으로, 고분자 물질인 PTFE를 차단벽 및 패시베이션 박막으로 사용한 유기발광 디바이스 및 그 제조방법에 관한 것이다.
      특히 산소 및 습기에 민감한 유기발광 디바이스는 수명연장을 위하여 보호막이 필수적으로 구비되어야 하는바, 고분자 물질 중 내수성에 강한 PTFE를 박막으로 사용하여 유기발광 디바이스 내부로 유입될 수 있는 산소 및 습기를 효율적으로 차단함으로써, 유기발광 디바이스의 수명을 연장시킬 수 있다.
      본 발명의 유기발광 디바이스 및 그 제조방법은 유리 또는 고분자 물질로 이루어진 기판; 상기 기판 상에 부분적으로 증착된 투명한 애노드 전극; 상기 애노드 전극 상에 색별로 증착된 유기물; PTFE재질로 이루어지며, 상기 애노드 전극이 증착되지 않은 상기 기판 상에 상기 유기물의 높이 까지 증착된 내/외부 차단벽; 상기 내부 차단벽 상단 전체, 상기 유기물 상단 전체 및 상기 외부 차단벽 일부에 걸쳐 증착된 캐소드 전극층 및 PTFE재질로 이루어지며, 상기 캐소드 전극층 상단 전체 및 상기 캐소드 전극층이 증착되지 않은 상기 외부 차단벽 상단에 증착되는 패시베이션 박막을 포함하여 이루어진 유기발광 디바이스 및 유리 또는 고분자 물질로 이루어진 기판 상에 투명 애노드 전극을 증착 후 부분 식각하는 단계; PTFE재질로 이루어지며, 상기 식각된 기판상에 소정 높이로 증착되는 내/외부 차단벽을 증착하는 단계; 상기 애노드 전극 상단에 상기 내/외부 차단벽의 높이 까지 색별로 유기물을 증착하는 단계; 상기 내부 차단벽 상단 전체, 상기 유기물 상단 전체 및 상기 외부 차단벽 일부에 걸쳐 캐소드 전극층을 증착하는 단계 및 PTFE재질로 이루어지며, 상기 캐소드 전극층 상단 전체 및 상기 캐소드 전극층이 증착되지 않은 상기 외부 차단벽 상단에 패시베이션 박막을 증착하는 단계를 포함 하여 이루어진다.
      유기발광, 유기 전계 발광, PTFE, 패시베이션, ITO, 수명연장
    • 4. 发明公开
    • 유기발광 디바이스 및 그 제조방법
    • 有机发光二极管(OLEDs)及其制造方法
    • KR1020060047070A
    • 2006-05-18
    • KR1020040092901
    • 2004-11-15
    • 홍진수서유석박훈박성훈정영철채희백
    • 홍진수채희백박훈박성훈서유석
    • H05B33/04H05B33/10
    • 본 발명은 유기발광 디바이스 및 그 제조방법에 관한 것으로, 고분자 물질인 PTFE를 차단벽 및 패시베이션 박막으로 사용한 유기발광 디바이스 및 그 제조방법에 관한 것이다.
      특히 산소 및 습기에 민감한 유기발광 디바이스는 수명연장을 위하여 보호막이 필수적으로 구비되어야 하는바, 고분자 물질 중 내수성에 강한 PTFE를 박막으로 사용하여 유기발광 디바이스 내부로 유입될 수 있는 산소 및 습기를 효율적으로 차단함으로써, 유기발광 디바이스의 수명을 연장시킬 수 있다.
      본 발명의 유기발광 디바이스 및 그 제조방법은 유리 또는 고분자 물질로 이루어진 기판; 상기 기판 상에 부분적으로 증착된 투명한 애노드 전극; 상기 애노드 전극 상에 색별로 증착된 유기물; PTFE재질로 이루어지며, 상기 애노드 전극이 증착되지 않은 상기 기판 상에 상기 유기물의 높이 까지 증착된 내/외부 차단벽; 상기 내부 차단벽 상단 전체, 상기 유기물 상단 전체 및 상기 외부 차단벽 일부에 걸쳐 증착된 캐소드 전극층 및 PTFE재질로 이루어지며, 상기 캐소드 전극층 상단 전체 및 상기 캐소드 전극층이 증착되지 않은 상기 외부 차단벽 상단에 증착되는 패시베이션 박막을 포함하여 이루어진 유기발광 디바이스 및 유리 또는 고분자 물질로 이루어진 기판 상에 투명 애노드 전극을 증착 후 부분 식각하는 단계; PTFE재질로 이루어지며, 상기 식각된 기판상에 소정 높이로 증착되는 내/외부 차단벽을 증착하는 단계; 상기 애노드 전극 상단에 상기 내/외부 차단벽의 높이 까지 색별로 유기물을 증착하는 단계; 상기 내부 차단벽 상단 전체, 상기 유기물 상단 전체 및 상기 외부 차단벽 일부에 걸쳐 캐소드 전극층을 증착하는 단계 및 PTFE재질로 이루어지며, 상기 캐소드 전극층 상단 전체 및 상기 캐소드 전극층이 증착되지 않은 상기 외부 차단벽 상단에 패시베이션 박막을 증착하는 단계를 포함 하여 이루어진다.
      유기발광, 유기 전계 발광, PTFE, 패시베이션, ITO, 수명연장