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1. 发明公开

KR1020120074213A 레이저 가공 장치 有权
标题翻译：激光加工设备
公开(公告)号：KR1020120074213A
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：KR1020110137021
申请日：2011-12-19
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 다까하시후미따께
IPC分类号： B23K26/08 , B23K26/064
摘要： PURPOSE: A laser processing apparatus is provided to reduce the moving distance of a processing unit and analyzing the working quality by measuring the resistance value of substrate by parading the working position and recording position of the processing unit and a measuring unit in a line. CONSTITUTION: A laser processing apparatus comprises a processing unit and a measuring unit. The measuring unit measures the resistance value of the processing part of substrate and records the measured area. The processing unit moved in a first direction and a second direction. The measuring unit is installed in the processing unit for recording.
摘要翻译：目的：提供一种激光加工装置，用于通过将处理单元的工作位置和记录位置以及测量单元进行行直线测量来测量基板的电阻值来减小处理单元的移动距离并分析工作质量。构成：激光加工装置包括处理单元和测量单元。测量单元测量衬底的处理部分的电阻值并记录测量面积。处理单元沿第一方向和第二方向移动。测量单元安装在用于记录的处理单元中。

2. 发明授权

KR100960546B1 포토마스크의 백 결함 수정 방법 失效
标题翻译：修改白光缺陷的方法
公开(公告)号：KR100960546B1
公开(公告)日：2010-06-03
申请号：KR1020080067565
申请日：2008-07-11
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 구스미유스케
IPC分类号： G03F1/72 , H01L21/027 , C23C14/00
摘要： 백 (白) 결함을 갖고 있지 않은 참조 패턴의 투과 화상을 취득하고 (단계 S11), 수정 가공 개시 (단계 S12) 후, 결함 수정부의 투과 화상을 취득한다 (단계 S13). 그 후, 투과 화상의 화소마다의 휘도를 연산 처리하고 (단계 S14), 연산 결과로부터 1 개 이상의 판정값을 산출한다 (단계 S15). 이 판정값을 기초로 수정 가공을 종료하는지의 여부를 판단하고 (단계 S16), 수정 가공을 종료한다고 판단할 때까지, 가공 조건의 변경 여부를 판단하고 (단계 S17), 필요에 따라 가공 조건을 변경 (단계 S18) 한 후, 단계 S13 이후의 공정을 반복한다. 단계 S16 에 있어서 수정 가공을 종료한다고 판단한 경우에는, 수정 가공을 종료한다 (단계 S19). 이에 의해, 복잡한 수정 가공 조건에 대해서도 고정밀도로 효율적으로 백 결함을 수정할 수 있는 포토마스크의 백 결함 수정 방법을 제공한다.
백 결함, 참조 패턴, 투과 화상, 수정 가공

3. 发明授权

KR100722160B1 부재 전환 장치, 렌즈 전환 장치, 레이저 리페어 장치 및레이저 검사 장치 失效
标题翻译：会员切换装置，镜头切换装置，激光修复装置和激光检查装置
公开(公告)号：KR100722160B1
公开(公告)日：2007-05-28
申请号：KR1020060001624
申请日：2006-01-06
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 노자키마사카즈
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/66
CPC分类号： G02B7/14 , B23K26/064 , B23K26/0648 , B23K26/0665
摘要： 레이저 리페어 장치의 렌즈 전환 장치에 리니어 모터 테이블을 형성한다. 리니어 모터 테이블은 테이블 및 레이저 발진장치에 대하여 고정되어 있고, 렌즈 홀더를 수평방향으로 이동시킨다. 배율이 서로 다른 6개의 대물렌즈가 제공되고, 이 렌즈는 광축이 서로 평행하게 되도록 일렬로 렌즈 홀더에 유지된다. 리니어 모터 테이블이 렌즈 홀더를 이동시킴으로써, 레이저광의 광로에 놓인 대물렌즈가 전환된다. 이로써, 렌즈와 같은 부재는 고정밀도로 위치결정될 수 있고, 위치어긋남이 발생하더라도, 이 위치어긋남은 간단한 방식으로 재빨리 해소될 수 있다.
전환, 레이저, 리페어, 검사

4. 发明授权

KR100600524B1 레이저 가공 장치 및 레이저 가공 방법 失效
标题翻译：激光加工设备和激光加工方法
公开(公告)号：KR100600524B1
公开(公告)日：2006-07-13
申请号：KR1020030080815
申请日：2003-11-15
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 나가노츠요시
IPC分类号： B23K26/042
摘要： 본 발명은 부품의 배치가 제약을 받고, 유지 보수가 번거로워 고가이며, 광 이용률이 낮다는 문제점을 해결하는 것을 과제로 한다.
과제를 해결하기 위한 수단으로서 본 발명에서는, 가공 광원(1)을 출사한 광이 미러(2)를 투과하여, 개구(3)를 조명한다. 레이저 다이오드(4)를 출사한 광은 렌즈(5)에 의해 콜리메이트(collimate)되고, 미러(2)에 의해 반사되어, 개구(3)를 조명한다. 개구(3)의 상(像)은 렌즈(6)에 의해 가공 대상(7)에 결상된다. 레이저 다이오드(4)는 캔 패키지에 레이저 다이오드 칩과 함께 내장된 포토다이오드 칩의 출력을 귀환시킴으로써 광의 출력을 일정하게 유지하는 제어 기능, 소위 APC(오토 파워 컨트롤) 기능을 구비한 회로(8)에 의해 직류에 100㎒ 내지 600㎒ 사이의 교류를 중첩시킨 전류의 공급을 받는다.
레이저, 레이저 가공 장치, 레이저 다이오드, 가공 광원

5. 发明授权

KR100547500B1 레이저 ＣＶＤ 장치 및 레이저 ＣＶＤ 방법 失效
标题翻译：激光CVD设备和激光CVD方法
公开(公告)号：KR100547500B1
公开(公告)日：2006-01-31
申请号：KR1020030041013
申请日：2003-06-24
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 모리시게유키오 , 우에다아츠시
IPC分类号： C23C16/44
CPC分类号： C23C16/45519 , C23C16/0245 , C23C16/047 , C23C16/483 , H01J37/32339
摘要： 레이저 CVD에 의해 형성된 막과 기판의 피성막면을 밀착시켜서 막 자체에서 크랙이 생기는 것을 방지할 수 있는 레이저 CVD 장치가 제공된다. 상기 장치는 아크 방전에 의해 전처리 가스를 플라즈마 상태로 바꾸고, 이 플라즈마 상태의 가스를 성막면에 공급하는 플라즈마 전처리 유닛과, 외부 공기로부터 차단시키면서 성막 가스를 가두는 수단과, 성막 가스에 레이저 빔을 조사하는 수단을 포함하고, 여기서 기판의 성막면 상에 성막이 행해진다.
성막, 플라즈마, 아크 방전, 결손 개소
摘要翻译：提供一种激光CVD装置，其中通过激光CVD形成的膜与基板的膜形成表面彼此紧密接触以防止膜本身出现裂纹。该装置通过电弧放电来改变预处理气体成等离子体状态，激光束是等离子体预处理单元向等离子体状态供给气体到成膜面，它意味着用于捕集成膜气体而从外部空气和成膜气体切断其中，在基板的成膜面上进行成膜。

6. 发明公开

KR1020020033438A 반도체 기판 상의 패턴막을 수정하기 위한 방법 및 디바이스 失效
标题翻译：用于图案校正的方法和装置
公开(公告)号：KR1020020033438A
公开(公告)日：2002-05-06
申请号：KR1020010064579
申请日：2001-10-19
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 모리시게유끼오 , 오오미야마꼬또
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： C23C16/483 , C23C16/047 , G03F1/72
摘要： PURPOSE: To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect. CONSTITUTION: A holding means holds a processed surface of a substrate downward, a film is formed by spraying a gas supplied from a gas supplying means through a gas introduction means on the laser irradiation point with radiating the laser beam on the processed surface downward from the substrate, and corrects the clear defect of the pattern film on the substrate.
摘要翻译：目的：为了防止在激光CVD中产生的细小颗粒中的成膜作为CVD核并且膜边缘在普通的精细清晰缺陷的校正方法中在激光照射图案之外膨胀。构成：保持装置向下保持基板的加工表面，通过在激光照射点上通过气体引入装置喷射从气体供给装置供给的气体，从处理表面向下方喷射激光，形成膜衬底，并校正衬底上图案膜的明显缺陷。

7. 发明公开

KR1020090006793A 포토마스크의 백 결함 수정 방법 失效
标题翻译：修改白光缺陷的方法
公开(公告)号：KR1020090006793A
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：KR1020080067565
申请日：2008-07-11
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 구스미유스케
IPC分类号： G03F1/72 , H01L21/027 , C23C14/00
CPC分类号： G03F1/72 , G03F1/84
摘要： A method for modifying white defect of photomask is provided to repair white defect even in case of complicated correction process conditions while maintaining high accuracy efficiently. A method for modifying white defect of photomask is comprised of the steps: obtaining the permeable image of the reference pattern having no white defect(S11); obtaining the permeable image of the part of defect correction after string of a correction processing opening(S13); calculating the brightness of each pixel of the permeable image(S14); calculating an evaluation value more than one from the operation result(S15); determining whether the correction processing is terminated or not based on the evaluation value(S16).
摘要翻译：提供了修改光掩模的白色缺陷的方法，以便在复杂的校正过程条件的情况下修复白色缺陷，同时有效地保持高精度。一种用于修改光掩模的白色缺陷的方法包括以下步骤：获得没有白色缺陷的参考图案的可渗透图像（S11）; 在校正处理开口的串之后获得缺陷校正部分的可渗透图像（S13）; 计算可渗透图像的每个像素的亮度（S14）; 从运算结果计算多于一个的评估值（S15）; 基于评估值来确定校正处理是否终止（S16）。

8. 发明授权

KR100868471B1 수리 디바이스 및 수리 방법 失效
标题翻译：维修设备和维修方法
公开(公告)号：KR100868471B1
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：KR1020070011746
申请日：2007-02-05
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 오카노아키히코
IPC分类号： G01R31/28 , G02F1/13
摘要： 가이드를 따라 Y축 방향으로 이동할 수 있는 메인 갠트리 및 서브 갠트리는 표면판 상에 제공되고, 수리를 수행하고 X축 방향으로 이동할 수 있는 광 시스템은 메인 갠트리에 탑재된다. 테스트 받는 유닛인 LCD 기판은 이동 홀더상에 배치된다. X축 방향으로 이동할 수 있고 XY평면 내에서 회전할 수 있는 프로브 센서 헤드는 메인 갠트리 및 서브 갠트리에 탑재된다. 프로브 센서 헤드는 전극에 전류를 공급하기 위한 프로브 유닛, 및 배선에 공급된 전류를 검출하고 오픈/쇼트 결함의 존재를 결정하기 위한 센서 유닛으로 구성되며, 프로브 유닛 및 센서 유닛은 서로 통합된다. 이와 같이 구성된 수리 디바이스는 LCD 기판상의 전체 전기 배선 영역을 효율적으로 액세스하고, 결함을 검출하며, 기판의 제거 및 재탑재 없이 결함을 수리할 수 있다.
프로브 유닛, 센서 유닛, 메인 갠트리, 서브 갠트리

9. 发明公开

KR1020070080231A 수리 디바이스 및 수리 방법 失效
标题翻译：维修设备和维修方法
公开(公告)号：KR1020070080231A
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：KR1020070011746
申请日：2007-02-05
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 오카노아키히코
IPC分类号： G01R31/28 , G02F1/13
CPC分类号： G01R31/302 , B23K26/0066 , C23C16/06 , H05K13/04
摘要： A repair device and a repair method are provided to access an electrode pad of a unit to be tested regardless of the direction of an FPD(Flat Panel Display) substrate, and to effectively detect defects and repair the defective part. A repair device is composed of a stage equipped with a substrate(6); first and second gantries(3,9) moving in a first direction along the surface of the stage; first and second probe sensor units installed at the first and second gantries respectively and moved in a second direction for the gantries across the first direction; and a repairing unit installed at the first gantry and moved in the second direction to repair a unit to be tested. The first and second probe sensor units comprise a platform part moving in the second direction; a probe unit applying voltage to the unit to be tested and a sensor unit detecting the electric current flowing in the unit to be tested, which are placed side by side at the platform part; and a platform driving unit rotating the platform part along the direction crossing the surface of the stage.
摘要翻译：提供修复装置和修复方法，以访问待测单元的电极焊盘，而不管FPD（平板显示器）基板的方向如何，并且有效地检测缺陷并修复缺陷部件。修复装置由装备有基板（6）的台架构成。第一和第二台架（3,9）沿着台面的第一方向移动; 第一和第二探针传感器单元分别安装在第一和第二台架上，并沿着第一方向在机架的第二方向上移动; 以及修理单元，安装在第一台架并沿第二方向移动以修理要测试的单元。第一和第二探针传感器单元包括沿第二方向移动的平台部分; 向待测试单元施加电压的探针单元和检测在被测试单元中流动的电流的传感器单元并排放置在平台部分; 以及平台驱动单元，其沿着与台的表面交叉的方向旋转平台部。

10. 发明授权

KR100510419B1 액정표시장치용 래스터 결함 수정 방법 및 이를 위한래스터 결함 수정 장치 失效
标题翻译：用于液晶显示装置的RASTER DEFECT CORRECTION METHOD AND RASTER DEFECT CORRECTION DEVICE FOR THE SAME
公开(公告)号：KR100510419B1
公开(公告)日：2005-08-26
申请号：KR1020020058018
申请日：2002-09-25
申请人： 오므론 레이저프론트 가부시키가이샤
发明人： 와카바야시고지
IPC分类号： G02F1/13
摘要： 본 발명은 액정표시장치의 래스터(raster) 결함을 수정할 때 배향층의 배향 특성을 효과적으로 또한 고속으로 소거할 수 있는 래스터 결함 수정 방법을 제공한다. 빔(beam) 형상의 길이 방향이 배향층의 홈(groove) 방향과 직교하는 레이저빔으로 배향층을 스캐닝함으로써, 배향층의 홈의 규칙성이 파괴된다. 배향층 중 하나의 홈 방향이 45°로 형성되고 다른 하나의 홈 방향이 135°로 형성된 경우에, 래스터 빔의 스캔 진행에 따라 빔 형상 및 빔 에너지가 제어된다. 또한, 레이저빔은 컬러 필터측 및 이에 대향하는 어레이 기판측(TFT측)의 양측으로부터 액정층을 통하여 배향층에 조사된다.

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