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1. 发明公开

KR1020140016716A ＰＭＡ 정제방법 有权
标题翻译：丙二醇单乙醚的处理方法
公开(公告)号：KR1020140016716A
公开(公告)日：2014-02-10
申请号：KR1020120083864
申请日：2012-07-31
申请人： 덕산실업(주) , 엘티씨에이엠 주식회사
发明人： 이우용 , 이승용 , 김용욱
IPC分类号： C07C67/62 , C07C67/54 , C07C69/708
摘要： The present invention relates to a method of recycling propyleneglycol monomethylether acetate (PMA) used in a photoresist process which comprises the following steps: a preparation step for preparing a waste organic solvent with PGEMA and impurities used in the photoresist process; a first reaction step for inserting a polymerization preventing agent into the waste organic solvent for reaction; a second reaction step for inserting an additive into the waste organic solvent for reaction; and a removal step for removing the impurities from the waste organic solvent by fractional distillation. The method enables users to purify the waste organic solvent and obtain high purity PMA.
摘要翻译：本发明涉及在光致抗蚀剂工艺中使用的丙二醇单甲醚乙酸酯（PMA）的再循环方法，其包括以下步骤：用PGEMA制备废有机溶剂和在光致抗蚀剂工艺中使用的杂质的制备步骤; 将聚合防止剂插入废有机溶剂进行反应的第一反应步骤; 将添加剂插入废有机溶剂进行反应的第二反应步骤; 以及通过分馏从废有机溶剂中除去杂质的去除步骤。该方法使用户能够净化废有机溶剂并获得高纯度PMA。

2. 发明授权

KR101967224B1 포토레지스트 세정용 신너 조성물 有权
公开(公告)号：KR101967224B1
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：KR1020180083769
申请日：2018-07-19
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이우용 , 이승용
IPC分类号： G03F7/42 , C11D11/00 , C11D7/26

3. 发明授权

KR101686081B1 전자재료용 고순도 피리딘의 생산방법 有权
标题翻译：电子材料制备高纯度吡啶的方法
公开(公告)号：KR101686081B1
公开(公告)日：2016-12-13
申请号：KR1020160030912
申请日：2016-03-15
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이범진 , 이우용 , 이승용
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02
摘要： 본발명은고순도의피리딘을생산하는방법에대한것으로, 더욱상세하게는피라진과피리딘을포함하는피리딘혼합물에알칼리금속을포함하는아미드화합물을첨가하여반응시키는전처리단계와상기전처리단계이후피리딘혼합물을증류시키는증류단계를포함하여, 전자재료에사용하기위한고순도의피리딘을얻을수 있는전자재료용고순도피리딘의생산방법에대한것이다.

4. 发明授权

KR101384810B1 포토레지스트 린스용 씬너 조성물 및 그 정제방법 有权
标题翻译：用于研磨光刻胶的薄膜和净化薄膜的方法
公开(公告)号：KR101384810B1
公开(公告)日：2014-04-15
申请号：KR1020130096860
申请日：2013-08-14
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이범진 , 이우용 , 이승용
IPC分类号： G03F7/42 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50 , C07C7/04 , G03F7/422
摘要： The present invention relates to a thinner composition for rinsing photoresist and a purifying method thereof, and more specifically, to a thinner composition for rinsing photoresist and a purifying method thereof, wherein an existing thinner with a single component can be substituted with a mixed thinner. The thinner composition improves economical efficiency and user convenience by improving yield and processing convenience.
摘要翻译：本发明涉及一种用于冲洗光致抗蚀剂的较薄组合物及其纯化方法，更具体地说，涉及一种较薄的用于冲洗光致抗蚀剂的组合物及其纯化方法，其中具有单一成分的现有稀释剂可以用混合稀释剂代替。更薄的组合物通过提高产量和加工便利性提高了经济效率和用户便利性。

5. 发明授权

KR101371209B1 ＰＭＡ 재생 방법 有权
标题翻译： PMA回收方法
公开(公告)号：KR101371209B1
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020120083865
申请日：2012-07-31
申请人： 덕산실업(주) , 엘티씨에이엠 주식회사
发明人： 이우용 , 이승용 , 김용욱
IPC分类号： C07C67/62 , C07C67/48 , C07C69/708
摘要： 포토레지스트 공정에 사용된 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 아세테이트(Propyleneglycol monomethylether acetate; PMA, 이하 'PMA'라 한다.)를 재생하기 위한 PMA 재생 방법이 제공된다. 본 발명의 일실시예에 따른 PMA 재생 방법은, 상기 PMA 및 불순물을 포함하고, 상기 포토레지스트 공정에 사용된 유기용제를 준비하는 단계와, 상기 유기용제에 2-에틸헥사놀 및/또는 아민화합물을 첨가하여 상기 불순물을 비점이 상이한 유기화합물로 변환하는 단계를 포함한다.

6. 发明授权

KR101232334B1 유기용제의 정제 방법 有权
标题翻译：有机溶剂精制方法
公开(公告)号：KR101232334B1
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：KR1020120063303
申请日：2012-06-13
申请人： 덕산실업(주) , 엘티씨에이엠 주식회사
发明人： 이우용 , 이승용 , 김용욱
IPC分类号： C07C249/14 , C07C251/44 , B01D3/14
摘要： PURPOSE: A refining method of an organic solvent is provided to purify and separate propylene glycol monomethyl ether acetate from a waste organic solvent and to improve production yield and treatment amount. CONSTITUTION: A refining method of an organic solvent comprises: a step of preparing a waste organic solvent which comprises a first organic compound and a second organic compound and is used in a photoresist process; a step of putting an amine compound into the waste organic solvent and forming a second organic compound into a third organic compound which has a different boiling point than the first organic compound; and a step of obtaining a first organic compound by fractional distilling of the waste organic solvent. The amine compound is hydroxylamine, hydroxylamine sulfate, or hydroxylamine hydrochloride.
摘要翻译：目的：提供有机溶剂的精制方法，从废有机溶剂中纯化和分离丙二醇单甲醚乙酸酯，提高产量和处理量。构成：有机溶剂的精制方法包括：制备包含第一有机化合物和第二有机化合物的废有机溶剂并用于光致抗蚀剂工艺的步骤; 将胺化合物置于废有机溶剂中并将第二有机化合物形成第三有机化合物的步骤，其具有与第一有机化合物不同的沸点; 以及通过分级蒸馏废有机溶剂获得第一有机化合物的步骤。胺化合物是羟胺，硫酸羟胺或盐酸羟胺。

7. 发明授权

KR101501097B1 벤조일클로라이드를 이용한 포토레지스트 린스용 신너 폐액의 정제방법 有权
标题翻译：使用氯化苯甲酸洗涤光亮剂的稀释剂的纯化方法
公开(公告)号：KR101501097B1
公开(公告)日：2015-03-12
申请号：KR1020140142646
申请日：2014-10-21
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이범진 , 이우용 , 이승용
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/26 , G03F7/004 , G03F7/063 , G03F7/168 , G03F7/42
摘要： 본 발명은 포토레지스트 린스용 신너의 폐액을 정제하는 방법에 대한 것으로, 더욱 상세하게는 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 및 알킬락테이트를 포함하는 신너 폐액에 벤조일클로라이드를 첨가하여 알킬락테이트를 분해시키는 벤조일클로라이드처리단계를 포함하는 전처리단계와 상기 전처리단계 이후 신너 폐액을 증류시키는 증류단계를 포함하여, 신너 폐액에서 신너 성분을 효과적으로 회수할 수 있는 벤조일클로라이드를 이용한 포토레지스트 린스용 신너 폐액의 정제방법에 대한 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于精制用于光致抗蚀剂调理剂的较薄废液的方法。更具体地说，可以通过包括以下步骤来有效地从较稀的废液中收集较薄的组分：预处理步骤，包括通过在较稀的废液中加入苯甲酰氯来分解乳酸烷基酯的酰氯处理步骤，包括丙二醇单甲醚乙酸酯和乳酸烷基酯; 以及在预处理步骤之后蒸馏较薄废液的蒸馏步骤。

8. 发明授权

KR101384811B1 포토레지스트 린스용 씬너 조성물 有权
标题翻译：用于冲洗光刻胶的薄膜
公开(公告)号：KR101384811B1
公开(公告)日：2014-04-14
申请号：KR1020130096977
申请日：2013-08-16
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이범진 , 이우용 , 이승용
IPC分类号： G03F7/42 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/426 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： The present invention relates to a photoresist rinsing thinner composition, and more specifically, to a thinner composition replacing an existing thinner of one-component with a thinner of mixed solvents, and improving the yield and the convenience of a work process at the same time during recycling to maximize the economic feasibility and the convenience in industrial aspects.
摘要翻译：本发明涉及一种光致抗蚀剂漂洗稀释剂组合物，更具体地说，涉及一种较薄的组合物，用较薄的混合溶剂代替了现有的单组分稀释剂，同时提高了工作过程的产率和便利性循环利用最大化经济可行性和便利性在工业方面。

9. 发明授权

KR101282799B1 ＰＭＡ를 재생하기 위한 유기용제의 정제 방법 有权
标题翻译：有机溶剂回收PMA的精制方法
公开(公告)号：KR101282799B1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：KR1020120061472
申请日：2012-06-08
申请人： 덕산실업(주) , 엘티씨에이엠 주식회사
发明人： 이우용 , 이승용 , 김용욱
IPC分类号： C07C67/48 , C07C69/16 , G03F7/004 , C07B63/00
CPC分类号： C07C67/48 , C07B63/00 , C07C69/16 , G03F7/004 , G03F7/0045
摘要： PURPOSE: A purifying method of an organic solvent is provided to purify propyleneglycol monomethylether acetate with high purity and high quality, by effectively removing cyclohexanone and methyl 3-methoxypropionate. CONSTITUTION: A purifying method of propyleneglycol monomethylether acetate used for a photoresist process comprises: a step of preparing a waste organic solvent used for the photoresist process; a step of preparing a waste organic solvent including the propyleneglycol monomethylether acetate and impurities; and a step of removing first impurities by adding a polymerization preventer into the waste organic solvent. The impurities include methyl 3-methoxypropionate and cyclohexanone.
摘要翻译：目的：提供有机溶剂的纯化方法，通过有效去除环己酮和3-甲氧基丙酸甲酯，纯化高品质的丙二醇单甲醚乙酸酯。构成：用于光刻胶工艺的丙二醇单甲醚乙酸酯的纯化方法包括：制备用于光刻胶工艺的废有机溶剂的步骤; 制备包含丙二醇单甲醚乙酸酯和杂质的废有机溶剂的步骤; 以及通过向废有机溶剂中加入聚合防止剂来除去第一杂质的步骤。杂质包括3-甲氧基丙酸甲酯和环己酮。

10. 发明授权

KR101939811B1 신너 폐액의 정제방법 및 그로부터 수득되는 신너 조성물 有权
公开(公告)号：KR101939811B1
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：KR1020180083707
申请日：2018-07-18
申请人： 덕산실업(주)
发明人： 이우용 , 이승용
IPC分类号： G03F7/30 , C02F1/04 , G03F1/82 , H01L21/02 , G03F7/42 , C11D11/00 , C11D7/26

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