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1. 发明公开

KR1020130071101A 전사용 다층 금속 패턴 및 이에 적합한 금속 패턴 제조 방법 有权
标题翻译：可转移的多层金属图案及其制造金属图案的方法
公开(公告)号：KR1020130071101A
公开(公告)日：2013-06-28
申请号：KR1020110138435
申请日：2011-12-20
申请人： (주)이모트
发明人： 이경열 , 이경욱 , 이종철 , 정준상
IPC分类号： H01Q1/24 , H01Q13/08
CPC分类号： H01Q1/24 , C25D1/16 , C25D5/12 , H01Q1/38 , H01Q7/00
摘要： PURPOSE: A multi-layered metal pattern for transfer and a manufacturing method of a metal pattern suitable for the same are provided to facilitate stress control by controlling the thicknesses of a first and a second metal layer. CONSTITUTION: A first metal layer is formed by first electro-forming plating(s804). The first metal layer has a first internal stress. A second metal layer is formed on the upper part of the first metal layer by second electro-forming(s806). The second metal layer has a second internal stress which is different from the first internal stress. The stress of a metal pattern is controlled by controlling the thicknesses of the first metal layer and the second metal layer. [Reference numerals] (s802) Master preparation; (s804) First electro-forming plating(lower metal layer, t1_1); (s806) Second electro-forming plating(upper metal layer, t1_2)
摘要翻译：目的：提供用于转印的多层金属图案和适于其的金属图案的制造方法，以通过控制第一和第二金属层的厚度来促进应力控制。构成：通过第一电镀法形成第一金属层（s804）。第一金属层具有第一内部应力。通过第二次电成形在第一金属层的上部形成第二金属层（s806）。第二金属层具有与第一内应力不同的第二内应力。通过控制第一金属层和第二金属层的厚度来控制金属图案的应力。（附图标记）（s802）主准备; （s804）第一电镀（下金属层，t1_1）; （s806）第二电镀（上金属层，t1_2）

2. 发明公开

KR1020120128931A 패턴 복제 금속 패널 有权
标题翻译：图案复制金属面板
公开(公告)号：KR1020120128931A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：KR1020110046879
申请日：2011-05-18
申请人： (주)이모트
发明人： 이경열 , 이경욱 , 김수한
IPC分类号： E04C2/08 , B41M1/28
摘要： PURPOSE: A patterned reproduction metal panel is provided to improve added value and availability. CONSTITUTION: A patterned reproduction metal panel comprises minute patterns or minute design. The minute patterns or the minute design are formed on the surface of a metal panel. The roughness of the minute patterns or the minute design is 1 to 40 micron. The minute patterns or the minute design have optical reflectivity in 10000 to 45000.
摘要翻译：目的：提供图案复制金属面板，以提高附加值和可用性。构成：图案复制金属面板包括微小的图案或细微的设计。在金属面板的表面上形成微小图案或微小的设计。微小图案或分钟设计的粗糙度为1至40微米。微小图案或分钟设计的光学反射率在10000到45000之间。

3. 发明公开

KR1020120105237A 루프 안테나, 그에 적합한 루프 안테나 제조 방법 그리고 알에프아이디 카드 제조 방법 有权
标题翻译：环形天线，制造环形天线的方法和使用环形天线制造RFID卡的方法
公开(公告)号：KR1020120105237A
公开(公告)日：2012-09-25
申请号：KR1020110022931
申请日：2011-03-15
申请人： (주)이모트
发明人： 이경열 , 이경욱 , 정연우 , 정전우
IPC分类号： H01Q7/00 , G06K19/07 , H01Q1/24
摘要： PURPOSE: A loop antenna, a manufacturing method thereof, and a manufacturing method for an RFID card are provided to improve productivity by manufacturing the loop antenna mounted on a card and the loop antenna mounted on a mobile communication terminal using the same process. CONSTITUTION: A first metal pattern(104) is for running a first output terminal(120a) for connection between a loop pattern and an external electronic circuit. A second metal pattern(106) is for running a second output terminal(120b) for connection with a external electronic circuit. The first metal pattern and the second metal pattern are transferred on a middle film(102) with hot pressing. A top cover film(112) covers a surface of the middle film and the first metal pattern. A lower cover film(114) covers a rear side of the middle film and the second metal pattern.
摘要翻译：目的：提供一种环形天线及其制造方法以及RFID卡的制造方法，以通过使用相同的工艺制造安装在卡上的环形天线和安装在移动通信终端上的环形天线来提高生产率。构成：第一金属图案（104）用于运行用于在环形图案和外部电子电路之间连接的第一输出端子（120a）。第二金属图案（106）用于运行用于与外部电子电路连接的第二输出端子（120b）。第一金属图案和第二金属图案通过热压转印在中间膜（102）上。顶盖膜（112）覆盖中间膜和第一金属图案的表面。下覆盖膜（114）覆盖中间膜和第二金属图案的后侧。

4. 发明公开

KR1020110132937A 드럼 압연 몰드 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：鼓模及其制造方法
公开(公告)号：KR1020110132937A
公开(公告)日：2011-12-09
申请号：KR1020100052548
申请日：2010-06-03
申请人： (주)이모트
发明人： 이경열 , 이경욱 , 김수한
IPC分类号： C25D1/10 , C25D1/20 , C25D5/34
CPC分类号： C25D1/10 , C25D5/34 , C25D5/48
摘要： PURPOSE: A drum milling mold and a manufacturing method thereof are provided to expand copying of fine patterns to a variety of fields since fine patterns are copied using artificial or natural objects as stamps in a pre-processing way. CONSTITUTION: A method of manufacturing a drum milling mold comprises next steps. Targets are pre-processed(S110). The pre-processed targets are nano-imprinted onto a polymer sheet(S120). The surface of the nano-imprinted polymer sheet is metalized(S130). The surface metalized polymer sheet is coated to manufacture a primitive mold(S140). The inner circumferential surface of the coated primitive mold becomes flat(S150). The targets are metal. The pre-processing step comprises next steps. Immersion degreasing is made at a temperature of 25~50°C using a metallic degreasing agent.
摘要翻译：目的：提供鼓式研磨模具及其制造方法，以将精细图案的复制扩大到各种领域，因为使用人造或天然物体作为邮票以预处理方式复制精细图案。构成：制造鼓式研磨模具的方法包括以下步骤。目标已被预处理（S110）。将预处理的靶材纳米压印在聚合物片材上（S120）。纳米压印聚合物片的表面被金属化（S130）。表面金属化聚合物片材被涂覆以制造原始模具（S140）。涂覆的原始模具的内周面变得平坦（S150）。目标是金属。预处理步骤包括以下步骤。使用金属脱脂剂在25〜50℃的温度下进行浸渍脱脂。

5. 发明授权

KR101061552B1 디자인 소재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 디자인 소재 有权
标题翻译：设计材料的制造方法和使用其制造的设计材料
公开(公告)号：KR101061552B1
公开(公告)日：2011-09-01
申请号：KR1020100010892
申请日：2010-02-05
申请人： (주)이모트
发明人： 이경열 , 이경욱 , 정연우
IPC分类号： B41M1/24
摘要： 미세패턴 및 대면적 광학 효과 구현이 가능한 디자인 소재의 제조방법 및 이를 이용하여 제조된 디자인 소재를 제공한다. 상기 제조방법에 의해 제조된 디자인 소재를 이용하여 고유의 질감을 갖는 가죽, 나무, 실크, 패브릭 등 천연계 디자인 소재의 표면 구조 및 패턴을 서브마이크로 수준의 정밀도로 플라스틱 필름이나 엠보싱 락카 코팅면 위의 소재 표면에 전사시켜 천연계 디자인 소재와 동일한 질감을 부여할 수 있다.
摘要翻译：一种能够实现精细图案和大面积光学效果的设计材料的制造方法以及使用该设计材料制造的设计材料。皮革使用由制造，木材，丝绸，织物，如自然设计面结构和塑料膜或压花漆涂层的表面上的材料的图案的亚微米级材料的准确度的方法制备的设计材料独特的质感它可以被转移到表面以赋予与天然设计材料相同的质感。

6. 发明授权

KR101001166B1 패턴 구조물 제작 방법 有权
标题翻译：图案结构的制造方法
公开(公告)号：KR101001166B1
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：KR1020080069002
申请日：2008-07-16
申请人： 삼원에프에이 (주) , (주)이모트
发明人： 이종기 , 나경록
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 패턴 구조물 제작 방법이 개시된다. 본 방법은, 수지로 채워진 수지 영역을 구비한 마스터 표면에서, 비 수지 영역에, 흑화 처리된 패턴부를 형성하는 단계 및 패턴부가 형성된 마스터 측에 소정의 물질층(material layer)을 결합하고, 물질층을 분리하면서 패턴부를 물질층 측으로 전사시키는 단계를 포함한다. 이에 따라, 원하는 패턴의 패턴 구조물을 용이하게 제작할 수 있게 된다.
패턴 구조물, 마스터, 패턴부, 수지

7. 发明授权

KR101001165B1 전주가공물의 균일성장 현상을 이용한 초정밀금형를제작하는 방법 및 그 방법에 의하여 제작되어진 초정밀금형 有权
公开(公告)号：KR101001165B1
公开(公告)日：2010-12-15
申请号：KR1020050002687
申请日：2005-01-11
申请人： 삼원에프에이 (주) , (주)이모트
发明人： 이종기
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 전주가공물의 균일성장 현상을 이용한 초정밀금형를 제작하는 방법과 그 방법에 의하여 제작되어진 초정밀금형에 관한 것이다.
본 발명은 전도체인 기초전극베이스와 상기 기초전극베이스에 비전도체인 기초절연부로 구성되는 기초마스타를 구성하되, 상기 기초절연부는 타겟폭보다 큰 사이즈로 설정되는 것을 특징으로 하는 기초마스타를 제조하는 제1 공정과; 상기 기초마스타에 전주가공을 실시하여, 상기 기초전극베이스의 노출 표면부에 석출금속층을 형성하는 제2 공정과; 상기 석출금속층의 수평성장을 통하여, 석출금속층이 상기 기초절연부의 노출되어진 상부 표면을 점차적으로 줄여나가는 제3 공정과; 상기 기초절연부의 노출되어진 표면폭이 타겟폭(b)으로 줄어 들게 되었을때 전주가공을 즉시 중지하여 제1차전주가공물을 구성하는 제4 공정과; 상기 제1차전주가공물에 보강부를 형성하는 제5 공정을 거쳐서 성장형 초정밀금형을 제작하는 것을 특징으로 한다.
기초전극베이스, 기초절연부, 제1차전주가공물, 초정밀금형, 격벽홈부

8. 发明授权

KR100995313B1 나노 구조물을 이용한 발색체 몰드의 제조 방법 失效
标题翻译：使用纳米结构的着色体模具的制造方法
公开(公告)号：KR100995313B1
公开(公告)日：2010-11-19
申请号：KR1020080018544
申请日：2008-02-28
申请人： (주)이모트 , 재단법인서울대학교산학협력재단
发明人： 권성훈 , 김준회 , 이승아 , 이경욱 , 이경열
IPC分类号： B82B3/00 , B82Y40/00
摘要： 본 발명은 (a) 기판 위에 적어도 하나의 제1 포토레지스트 및 적어도 하나의 제2 포토레지스트-상기 제1 포토레지스트와 상기 제2 포토레지스트 중 어느 하나는 다른 하나보다 높은 감도를 가짐-를 교대로 적층하는 단계; (b) 상기 적층된 제1 및 제2 포토레지스트를 광 또는 전자 빔에 선택적으로 노출함으로써 상기 노출된 영역을 중심으로 하여 상기 제1 및 제2 포토레지스트 중 감도가 높은 것은 더 넓은 영역에서 반응되는 동시에, 감도가 낮은 것은 더 좁은 영역에서 반응되도록 하는 단계; 및 (c) 현상을 수행함으로써, 상기 제1 및 제2 포토레지스트가 자기 정렬된(self-aligned) 상태로 단일 또는 다중의 T형 적층구조체를 형성하는 단계를 포함하는 나노 구조물의 제조 방법과 나노 구조물, 및 이를 이용하여 제조되는 발색체 몰드를 제공한다. 본 발명에 따르면 금속과 같은 단단한 재질로 반영구적으로 반복적 사용이 가능한 발색체 몰드를 제조할 수 있고, 이로부터 대량으로 간편하게 발색체를 생산할 수 있어 생산 단가를 낮출 수 있다는 장점이 있다. 또한 이러한 발색체 몰드에 다양한 종류의 재료를 주입하여 원하는 재질의 발색체를 만들어낼 수 있으므로 이러한 발색체를 다양한 소재에 적용할 수 있다. 더욱이, 몰드 제조용 나노 구조물의 구조를 원하는 대로 변경할 수 있으므로 최종 발색체의 광학적 특성을 다양하게 조절할 수 있다.
몰포나비, 광결정, 나노 구조물, 발색체 몰드, 발색체

9. 发明授权

KR100794648B1 무전극 조명기기의 공진기 및 그 제조방법 失效
标题翻译：等离子照明系统的谐振器及其制造方法
公开(公告)号：KR100794648B1
公开(公告)日：2008-01-14
申请号：KR1020060039931
申请日：2006-05-03
申请人： 전자부품연구원 , (주)이모트
发明人： 양우석 , 이경렬 , 이경욱 , 김인곤
IPC分类号： H01J65/04 , H01J23/18 , H01J9/24
摘要： 본 발명에 따른 무전극 조명기기의 공진기 제조방법은 메쉬 패턴이 형성된 필름 마스크상에 감광막을 형성하는 단계, 감광막이 형성된 상기 필름 마스크를 마스터 바디에 라미네이팅하는 단계, 상기 마스터 바디에 감광막으로 이루어진 메쉬 패턴을 형성하는 단계, 상기 마스터 바디를 도금하여 공진기를 형성하는 단계 및 형성된 상기 공진기를 상기 마스터로부터 분리하는 단계를 포함한다.
따라서, 본 발명을 통하여 공진기는 용접 부위가 존재하지 않아 공진기의 전자파 집속 대칭성을 유지할 수 있어 램프의 최적 설계가 용이하고, 그림자의 발생을 방지할 수 있으며, 열전도성 및 전기전도성이 우수하며, 내화학성, 내식성 및 내열성이 향상된다. 또한, 다양한 금속 소재를 이용한 공진기의 제작이 용이하여, 저가의 공정비용으로 양산화에 유리한 이점이 있다.
무전극 조명기기, 공진기, 라미네이팅, 도금

10. 发明公开

KR1020070107899A 광결정 구조 보유체 및 그 제조방법 有权
标题翻译：光电晶体结构及其制造方法
公开(公告)号：KR1020070107899A
公开(公告)日：2007-11-08
申请号：KR1020060040458
申请日：2006-05-04
申请人： (주)이모트 , 이경열 , 이경욱
发明人： 이경열 , 이경욱
IPC分类号： C25D1/10 , C25D1/14
CPC分类号： C25D1/10 , C23C4/06 , C25D3/12
摘要： A photonic crystal structure holder is provided to be utilized as a design workpiece showing beautiful and high quality colors and textures by coping photonic crystal structure surface of a natural object on metal through electroless-plating or electroplating. A manufacturing method of a photonic crystal structure holder comprises the steps of: covering a coping material(30) on a surface of a natural object(10) with photonic crystal structure; imparting conductivity to the separated coping material after separating the covered coping material; forming a plating layer on a surface(31) of the conductivity-imparted coping material; and separating the formed plating layer from the surface of the coping material to obtain a photonic crystal structure holder. The coping material comprises silicone rubber or polydimethylsiloxane. The manufacturing method further comprises the step of hardening the covered coping material after covering the coping material. The manufacturing method comprises the step of placing a prepared natural object on an inner part of an operation container such that a photonic crystal structure surface(11) of the natural object is directed upward.
摘要翻译：提供了一种光子晶体结构保持器，用作设计工件，通过化学镀或电镀处理金属上的天然物体的光子晶体结构表面，从而显示出美丽高品质的颜色和纹理。光子晶体结构保持器的制造方法包括以下步骤：用光子晶体结构覆盖天体（10）的表面上的应付材料（30）; 在分离覆盖的覆盖材料之后，对分离的应付材料赋予导电性; 在导电性赋予材料的表面（31）上形成镀层; 并且将所形成的镀层从应付材料的表面分离以获得光子晶体结构保持器。应对材料包括硅橡胶或聚二甲基硅氧烷。制造方法还包括在覆盖应对材料之后硬化被覆盖的覆盖材料的步骤。该制造方法包括以下步骤：将准备的天然物体放置在操作容器的内部，使得天然物体的光子晶体结构表面（11）向上。

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