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1. 发明授权

KR102020912B1 다층 구조의 레이저 패터닝 有权
公开(公告)号：KR102020912B1
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：KR1020157025814
申请日：2014-02-21
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 디틀리,아담 , 마르틴센,로버트,제이.
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/3213 , B82Y40/00

2. 发明授权

KR101707889B1 다중 광선 재료 프로세싱을 위한 영상 회전 보정 有权
标题翻译：多光束材料加工图像旋转补偿
公开(公告)号：KR101707889B1
公开(公告)日：2017-02-17
申请号：KR1020140070756
申请日：2014-06-11
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 스코트알.칼센
IPC分类号： H01S3/10
CPC分类号： G02B26/101
摘要： 다중광선영상보정시스템은입력광속(light beam, 光束)을수신하며, 상기입력광속을다수의프로세싱광속들로분할하도록구성된광선분배기, 상기다수의프로세싱광속들을수신하며, 대상에서의광선을스캔하도록구성된광선스캐닝광학부및 대상에서다수의프로세싱광속들의영상의회전을선택적으로조절하도록구성된영상보정시스템을포함한다. 다중광선영상보정방법은광선분배기에서하나의입력광속을다수의프로세싱광속들로분배하는단계, 광선스캐닝광학부에서대상전체에상기다수의프로세싱광속들을스캐닝하는단계및 상기대상에상기다수의프로세싱광속들의영상의회전을선택적으로조절하는단계를포함할수 있다.
摘要翻译：图像补偿多光束系统包括分束器，其被配置为接收输入光束并将输入光束分成多个处理光束，光束扫描光学器件被配置为接收多个处理光束并且在目标和图像补偿子系统，被配置为选择性地调整目标处的多个处理光束的图像的旋转。用于补偿多光束图像的方法包括：通过分束器将输入光束分成多个处理光束，用光束扫描光学元件扫描跨过目标的多个处理光束，并且选择性地调整图像的旋转的多个处理光束。

3. 发明授权

KR102107159B1 개선된 패키지 휘도를 위한 수동 정렬된 단일 요소 텔레스코프 有权
公开(公告)号：KR102107159B1
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：KR1020187026257
申请日：2017-02-16
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 헤멘웨이데이비드마틴 , 도슨데이비드씨. , 얼바넥울프람
IPC分类号： G02B27/09 , G02B19/00 , G02B27/12 , G02B27/30 , G02B27/32 , G02B6/42 , H01S5/40 , H01S5/00

4. 发明公开

KR1020150134340A 비침습적 레이저 패터닝 审中-实审
标题翻译：非激光激光图案
公开(公告)号：KR1020150134340A
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：KR1020157025813
申请日：2013-09-18
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 디틀리,아담 , 마르틴센,로버트,제이. , 그로스,켄
IPC分类号： H01L31/18 , H05K3/02
CPC分类号： H01L31/1884 , G06F3/041 , G06F2203/04102 , G06F2203/04103 , G06F2203/04112 , H05K3/02 , H05K2201/0108 , H05K2201/026 , H05K2203/107 , H05K2203/1142 , Y02E10/50
摘要： 투명기판상에배치된전도성층을비전도성특성으로비침습적으로변화시키기위해선택된레이저파라미터들을갖는적어도하나의레이저펄스를생성하는단계및 상기펄스를상기전도성층을향하게하는단계를포함하는투명기판처리방법. 보호필름은상기투명기판의표면에부착될수 있고, 상기기판의프로세싱동안에제거될필요가없다. 프로세싱이후에, 프로세싱된영역들은프로세싱안된영역들과시각적으로구별되지않을수 있다.

5. 发明公开

KR1020150117251A LTPS 크리스탈화를 위한 짧은 펄스 섬유 레이저 审中-实审
标题翻译：短脉冲光纤激光器用于LTPS结晶
公开(公告)号：KR1020150117251A
公开(公告)日：2015-10-19
申请号：KR1020157017295
申请日：2013-12-19
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 마르틴센,로버트,지. , 칼슨,스캇,알. , 그로스,켄
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/02 , B23K26/00 , B23K26/062
CPC分类号： H01L21/268 , B23K26/0006 , B23K26/0624 , B23K2203/56 , H01L21/02532 , H01L21/02686
摘要： 펄스된섬유레이저(pulsed fiber lasers)로부터레이저펄스는녹기및 재크리스탈화를반복하여크리스탈(crystalline) 부위의무질서한배열을포함하는폴리실리콘층을생성하기위하여무정형(amorphous) 실리콘층에지정된다. 10 kHz 내지 10 MHz의반복비율에서, 약 500 nm와 1000 nm 사이의파장범위에서약 0.5 내지 5 ns의레이저펄스기간이사용될수 있다. 직선빔(line beam) 강도균일성은빔 일관성을감소시키기위하여다모드섬유에있는라만스캐터링또는레이저펄스로형성된빔의다른부분네단계지연을다양화하는것을적용하여레이저펄스를스펙트럼적으로넓게하여개선될수 있다.

6. 发明公开

KR1020150092720A 단일-이미터 라인 빔 시스템 审中-实审
标题翻译：单发射线束系统
公开(公告)号：KR1020150092720A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：KR1020150017455
申请日：2015-02-04
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 칼센,스캇알. , 센더스,데이비드씨.
IPC分类号： H01S5/065 , H01S5/00 , G02B6/42 , G02B27/09
CPC分类号： G02B27/0905 , G02B5/04 , G02B5/08 , G02B5/1861 , G02B6/262 , G02B6/4296 , G02B27/0927 , G02B27/0944 , G02B27/0994 , G02B27/108 , G02B27/283 , G02B27/48
摘要： 라인 빔 시스템은 복수의 개별적으로 이격된 단일 이미터 다이오드 레이저를 포함하는 단일 이미터 광 엔진을 포함하고, 각각의 이미터는 다이오드 레이저 빔을 방출하도록 구성된다. 빔 이격 광학 기기는 단일 이미터 광 엔진과 광학적으로 결합되고, 조밀한 평행 구성으로 다이오드 레이저 빔의 전달축을 제공하기 위해 위치된다. 길이방향 축을 갖는 광 파이프는 조밀 결합된 빔을 수용하고, 광 파이프 내에 빔을 반사함으로써 하나 이상의 축을 통해 균질화된 강도 프로파일을 갖는 출력 빔을 제공하도록 위치된다. 간섭성 감소는 조밀 결합된 빔의 회절 또는 광 파이프의 전달에 의해 생성된다.
摘要翻译：线束系统包括单发射器光引擎，其包括单独分离的多个单发射极二极管激光器。每个发射器发射二极管激光束。光束间隔光学器件光学耦合到单发射器光引擎并且被定位成以紧密平行的配置提供二极管激光束的传播轴。定位具有纵向轴线的光管，以通过接收紧密组合的光束并将光束反射在光管中来提供具有通过一个或多个轴的均匀强度分布的输出光束。通过紧密组合光束的衍射或光管中的传播产生相干性降低。

7. 发明公开

KR1020150029597A 정밀 특징점 마킹을 위한 고해상도 디지털 암호화된 레이저 스캐너의 최적화 방법 审中-实审
标题翻译：高分辨率数字激光扫描仪优化精细特征标记
公开(公告)号：KR1020150029597A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：KR1020140120247
申请日：2014-09-11
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 그로스,켄
IPC分类号： H01C17/242 , H01C17/26 , B23K26/00
CPC分类号： H01C17/242 , B23K26/006 , H01C17/26
摘要： 본 명세서에서는 레이저 스캐닝 시스템 및 이를 이용한 방법이 개시된다. 몇몇 실시예들에서, 레이저 스캐닝 시스템은 물질의 표면을 침습적 또는 비침습적으로 스캔하기 위해 사용될 수 있다. 몇몇 실시예들은 다층 구조물을 스캐닝하는 방법들을 포함한다. 몇몇 실시예들은 레이저 빔 직경을 변화시키기 위해 초점 조정 광학 시스템을 변환하는 단계를 포함한다. 몇몇 실시예들은 20-비트 레이저 스캐닝 시스템을 사용한다.
摘要翻译：在本发明中公开了一种激光扫描系统及其使用方法。在一些实施例中，可以使用激光扫描系统来侵入或非侵入地扫描材料的表面。一些实施例包括多层结构的扫描方法，并且包括转换焦点调整光学系统以改变激光束的直径的步骤。一些实施例使用20位激光扫描系统。

8. 发明公开

KR1020140113878A 라인 빔들을 이용한 향상된 열처리 방법 无效
标题翻译：改进的热处理与线束
公开(公告)号：KR1020140113878A
公开(公告)日：2014-09-25
申请号：KR1020140029473
申请日：2014-03-13
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 칼센,스코티알. , 케네디,키이스,더블유 , 마틴센,로버트,제이
IPC分类号： B23K26/06 , H01L21/268 , C21D1/09
CPC分类号： B23K26/0081 , B23K26/0608 , B23K26/0613 , B23K26/0622 , B23K26/0732 , B23K26/0738 , B23K26/211 , B23K26/36 , B23K26/60
摘要： A multi-beam and multi-wavelength processing system comprises at least two lasers formed to provide each beam for a substrate. The beams comprise wavelengths, pulse duration times, beam areas, beam strengths, pulse energies, polarized lights, a repetition rate, and independently selectable other beam properties. In a process requiring local heating, deformation of a substrate can be reduced as the substrate is heated in advance by using a beam of a large area in a first wavelength, and exposed to a focused beam in a second wavelength for heating a local area at a desired processing temperature. For other processing steps, multi-wavelengths are selected to acquire the desired energy deposition inside the substrate.
摘要翻译：多光束和多波长处理系统包括至少两个形成的激光器，以提供用于衬底的每个光束。光束包括波长，脉冲持续时间，光束面积，光束强度，脉冲能量，偏振光，重复率和独立选择的其它光束特性。在需要局部加热的过程中，通过使用大面积的第一波长的光束预先加热衬底，并且暴露于第二波长的聚焦光束以加热局部区域，可以降低衬底的变形，所需的加工温度。对于其他处理步骤，选择多波长以获得衬底内所需的能量沉积。

9. 发明授权

KR102099722B1 단일-이미터 라인 빔 시스템 有权
公开(公告)号：KR102099722B1
公开(公告)日：2020-05-18
申请号：KR1020150017455
申请日：2015-02-04
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 칼센,스캇알. , 센더스,데이비드씨.
IPC分类号： G02B27/09 , G02B27/10 , G02B27/28 , G02B27/48 , G02B5/08 , G02B5/18 , G02B6/26 , G02B6/42 , G02B5/04

10. 发明授权

KR101989560B1 LTPS 크리스탈화를 위한 짧은 펄스 섬유 레이저 有权
公开(公告)号：KR101989560B1
公开(公告)日：2019-06-14
申请号：KR1020157017295
申请日：2013-12-19
申请人： 엔라이트 인크.
发明人： 마르틴센,로버트,지. , 칼슨,스캇,알. , 그로스,켄
IPC分类号： H01L21/268 , H01L21/02 , B23K26/00 , B23K26/0622 , B23K103/00

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