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1. 发明授权

KR102242988B1 플라즈마 처리장치 有权
公开(公告)号：KR102242988B1
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：KR1020187037702
申请日：2017-06-16
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 나카무라후미오 , 다마루요시히사 , 야지마타카히로 , 카토유코 , 진보요스케 , 우에요시노부 , 오카노슈이치 , 오카야마사토히로
IPC分类号： C23C16/505 , C23C16/458 , H01J37/32
摘要： 리턴전류경로의단축화와대칭성의확보를도모할수 있는플라즈마처리장치를제공한다. 본발명에 1형태에따른플라즈마처리장치는챔버본체와, 스테이지와, 고주파전극과, 복수의접지부재와, 가동유닛을구비한다. 상기챔버본체는기판이통과가능한개구부를일부에포함하는측벽을갖는다. 상기복수의접지부재는상기스테이지의주위에배치되고, 상기측벽과상기스테이지사이를전기적으로접속한다. 상기가동유닛은상기복수의접지부재일부인제1 접지부재를지지하는지지체를갖다. 상기가동유닛은상기제1 접지부재가상기개구부를사이에두고상기개구부의내주면에대향하는제1 위치와, 상기제1 접지부재가상기내주면에전기적으로접속되는제2 위치사이에서상기지지체를이동시키는것이가능하도록구성된다.

2. 发明授权

KR102223849B1 스퍼터링 장치 有权
公开(公告)号：KR102223849B1
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：KR1020197022549
申请日：2018-10-04
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 요시다다이스케 , 시미즈츠요시 , 다카하시마코토 , 유야마아키라 , 사토유스케
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/34 , C23C14/56
摘要： 본발명의스퍼터링장치는, 챔버내에서스퍼터링에의해성막하는기판에대해서, 대략수직유지된마스크프레임을교환가능하게하는마스크교환수단을갖는다. 마스크교환수단은, 복수의마스크프레임을면 평행상태로복수스톡가능하게하는밀폐가능한스톡실과, 복수스톡된마스크프레임을챔버내의성막위치가되는마스크실까지반송하는반송수단을갖는다. 스톡실에는, 마스크프레임의마스크면과대략직교방향으로전후이동가능하게하는스톡지지부와, 스톡지지부에스톡된마스크프레임으로부터선택하여면 방향으로구동가능하게하는구동지지부와, 구동지지부에의해마스크프레임이이동될때에마스크프레임상단을기울지않게지지가능하게하는반송상지지부가설치된다.

3. 发明授权

KR102149172B1 재료 공급 장치 및 증착 장치 有权
公开(公告)号：KR102149172B1
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：KR1020187009291
申请日：2016-10-05
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 세키네,겐키 , 미카미,슌 , 고이즈미,카즈히코 , 야마다,신에츠 , 야나기사와,신지 , 코시미즈,다카하루 , 히구치,준
IPC分类号： C23C14/30 , C23C14/24 , C23C14/56

4. 发明授权

KR102137716B1 전자 부품의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102137716B1
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：KR1020197001287
申请日：2018-03-22
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 히로니와,다이스케 , 쿠리모토,다카시 , 우에다,마사히사
IPC分类号： H01L21/768 , H01L21/3205 , H01L21/3065 , H01L21/288 , H01L23/12 , C23F1/12 , C25D5/34

5. 发明授权

KR102106366B1 박막 트랜지스터, 산화물 반도체막 및 스퍼터링 타겟 有权
公开(公告)号：KR102106366B1
公开(公告)日：2020-05-04
申请号：KR1020187011239
申请日：2016-11-22
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 우에노,미츠루 , 키요타,준야 , 고바야시,모토시 , 타케이,마사키 , 다카하시,카즈토시 , 히다카,코지 , 카와고에,유우 , 다케스에,켄타로 , 와다,마사루
IPC分类号： H01L29/786 , C23C14/08 , C23C14/34

6. 发明授权

KR102035146B1 성막 장치, 유기막의 막후 측정 방법 및 유기막용 막후 센서 有权
公开(公告)号：KR102035146B1
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：KR1020167026478
申请日：2015-05-22
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 이토,아츠시 , 후카오,마사토 , 코바야시,요시카즈
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/12 , C23C14/50 , C23C14/24 , H01L51/00 , H01L51/56 , G01B7/06 , H05B33/10

7. 发明授权

KR101967516B1 터치 패널, 터치 패널의 제조 방법 및 광학 박막 有权
公开(公告)号：KR101967516B1
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：KR1020167029866
申请日：2015-04-28
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 하라다마나부 , 야나지쯔부히데노리 , 아이호리아츠히토 , 스즈키토시히로 , 마츠모토마사히로 , 타니노리아키 , 쿠보마사히
IPC分类号： G06F3/041 , B32B27/06 , B32B17/06 , F21V8/00

8. 外观设计

KR3009530810000S 有权
公开(公告)号：KR3009530810000S
公开(公告)日：2018-04-19
申请号：KR3020170016690
申请日：2017-04-11
申请人： 가부시키가이샤 아루박
设计人： 타야, 카즈미

9. 外观设计

KR3009530790000S 有权
公开(公告)号：KR3009530790000S
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：KR3020170016674
申请日：2017-04-11
申请人： 가부시키가이샤 아루박
设计人： 타야, 카즈미

10. 发明公开

KR1020170122830A 기판 보지 장치, 성막 장치 및 기판 보지 방법 审中-实审
标题翻译：基板保持装置，成膜装置和基板保持方法
公开(公告)号：KR1020170122830A
公开(公告)日：2017-11-06
申请号：KR1020177028877
申请日：2016-06-07
申请人： 가부시키가이샤 아루박
发明人： 오리베,아유미 , 하기와라,무네모토 , 우메무라,히로후미 , 카스야,노리아키 , 코이케,준이치로 , 코이즈미,카즈히코 , 후지노,에이지
IPC分类号： H01L21/683 , C23C14/04
CPC分类号： C23C14/04 , H01L21/683
摘要： 마스크와기판과의밀착성을확보할수 있는기판보지장치를제공한다. 기판보지장치(30)는, 마스크플레이트(311)와, 중간플레이트(32)와, 보지플레이트(33)와, 압압기구(34)를구비한다. 마스크플레이트(311)는, 자성재료로구성된다. 중간플레이트(32)는, 마스크플레이트(311)에대향하는제1 면과, 상기제1 면과는반대측의제2 면을가지고, 상기제1 면이마스크플레이트(311) 상에배치된기판(W)에접촉가능하게구성된다. 보지플레이트(33)는, 중간플레이트(32)를마스크플레이트(311)와직교하는축 방향으로상대이동가능하게지지하고, 중간플레이트(32) 및기판(W)을통해마스크플레이트(311)를자기흡착하는것이가능하게구성된마그넷(331)을가진다. 압압기구(34)는, 상기제2 면에대향해서배치되고, 상기제2 면의적어도일부를상기축 방향을따라압압하는것이가능하게구성된다.
摘要翻译：提供一种能够确保掩模与基板的密合性的基板保持装置。基板保持装置30具有掩模板311，中间板32，保持板33以及按压机构34。掩模板311由磁性材料制成。中间板32具有与掩模板311相对的第一表面和与第一表面相对的第二表面，并且第一表面是设置在掩模板311上的衬底（未示出）被配置为与所述W接触）。保持板33将中间板32支撑为能够在与掩模板311正交的轴向上移动，并且使掩模板311移动通过中间板32和衬底W 并且具有构造成能够吸附的磁体331。按压机构34与第二面相对配置，能够沿轴向按压第二面的至少一部分。

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