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71. 发明授权

KR101043362B1 석영 튜브 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
标题翻译：石英管清洗液及其清洗方法
公开(公告)号：KR101043362B1
公开(公告)日：2011-06-21
申请号：KR1020080109419
申请日：2008-11-05
申请人： 에스케이하이닉스 주식회사 , 영창케미칼 주식회사
发明人： 이근수 , 길명군 , 박동수 , 기영종 , 이병국 , 신동국 , 이승훈
IPC分类号： C11D7/10 , C11D11/00 , C11D7/50 , C11D7/08 , C11D1/66 , C11D1/72
摘要： 본 발명은 석영 튜브 세정액 조성물 및 이를 이용한 석영 튜브 세정 방법에 관한 것으로, 구체적으로 할로겐화 암모늄염 화합물, 극성 유기용매 및 잔량의 산을 포함하며, 선택적으로 계면활성제 및 증류수로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나 이상의 첨가제를 더 포함하는 세정액 조성물을 이용함으로써, 석영 튜브 표면의 이물질을 효과적으로 제거할 수 있는 세정하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법에 의해, 세정 공정을 수행하는 동안 석영 튜브의 표면 손상을 최소화하여, 석영 튜브를 포함하는 각종 제조 장치의 교체 시기를 늦출 수 있으므로, 반도체 소자 생산 비용을 절감할 수 있다.

72. 发明授权

KR101026095B1 세정 헹굼 방법 失效
公开(公告)号：KR101026095B1
公开(公告)日：2011-03-31
申请号：KR1020107024285
申请日：2004-06-25
申请人： 아사히 가라스 가부시키가이샤
发明人： 하나다츠요시 , 오카모토히데카즈 , 츠자키마사아키 , 시게마츠마키
IPC分类号： C11D7/50 , B08B3/08 , C23G5/02 , C23G5/032
CPC分类号： C11D3/2068 , B08B3/08 , C11D3/18 , C11D3/245 , C11D7/24 , C11D7/247 , C11D7/263 , C11D7/28 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D7/5027 , C23G5/02 , C23G5/032
摘要： 세정성 및 헹굼성이 우수한 물품의 세정 헹굼 방법을 제공한다. 오염 물질이 부착된 물품을, 방향족 탄화수소 또는 글리콜에테르류를 함유하는 탄화수소계 용제에 접촉시키는 세정 공정과, 불소 함유 에테르에 접촉시키는 헹굼 공정을 갖는 물품의 세정 헹굼 방법으로서, 불소 함유 에테르가 식 1 로 나타내는 화합물인 것을 특징으로 하는 물품의 세정 헹굼 방법.
R
1 -OR
2 … 식 1
단, R
1 , R
2 는, 각각 독립적으로 불소 함유 알킬기를 나타낸다. R
1 및 R
2
에 함유되는 불소원자의 수는 각각 1 이상이고, 또한 R
1 및 R
2 에 함유되는 탄소원자의 수의 합계는 4∼8 이다.

73. 发明公开

KR1020100071110A 비인화성 세정 조성물 有权
标题翻译：非易燃清洁剂组合物
公开(公告)号：KR1020100071110A
公开(公告)日：2010-06-28
申请号：KR1020107011405
申请日：2008-10-24
申请人： 센주긴조쿠고교 가부시키가이샤 , 무라오카, 신이치
发明人： 무라오카,신이치 , 사토,이사무
IPC分类号： C11D7/30 , C11D7/24 , C11D7/50 , C23G5/028
CPC分类号： C11D11/0047 , B23K1/0016 , B23K1/018 , B23K1/08 , B23K1/206 , B23K35/262 , B23K2201/42 , C11D7/244 , C11D7/28 , C11D7/5027 , C23G5/02858
摘要： A bromine-containing solvent, which has been used as an alternative solvent to a chlorofluorocarbon solvent or a chlorine-containing solvent, is characterized in that it is likely to degrade compared with a chlorofluorocarbon solvent or a chlorine-containing solvent. In the conventional bromine-containing cleaner compositions, the degradation of the compositions are prevented by using a corrosion-protecting agent or a stabilizing agent (e.g., nitroethane). However, when the cleaner compositions are used as cleaners for print circuit boards, the reduction in insulation resistance or leak failure is often caused. Thus, provided is a non-flammable cleaner composition comprising a mixture of a bromide selected from n-propylbromide, methylenebromide, bromochloromethane, n-butylbromide, isobutylbromide, sec-butylbromide and ter-butylbromide as a stabilizer for a bromine-containing solvent and an alkene-or alkyne-type hydrocarbon having 4 to 10 carbon atoms.
摘要翻译：已经用作氯氟烃溶剂或含氯溶剂的替代溶剂的含溴溶剂的特征在于与氯氟烃溶剂或含氯溶剂相比可能劣化。在常规的含溴清洁剂组合物中，通过使用腐蚀保护剂或稳定剂（例如硝基乙烷）来防止组合物的降解。然而，当清洁剂组合物用作印刷电路板的清洁剂时，常常引起绝缘电阻降低或泄漏故障。因此，提供了一种不燃性清洁剂组合物，其包含选自正丙基溴，二溴甲烷，溴氯甲烷，正丁基溴，异丁基溴，仲丁基溴和叔丁基溴的溴化物作为溴含量溶剂的稳定剂的混合物，和具有4-10个碳原子的烯烃或炔烃。

74. 发明公开

KR1020080045616A 세정제 조성물 有权
标题翻译：洗涤剂组合物
公开(公告)号：KR1020080045616A
公开(公告)日：2008-05-23
申请号：KR1020070113232
申请日：2007-11-07
申请人： 케이피엑스 라이프사이언스 주식회사
发明人： 오상봉 , 박진영 , 채기병
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/50 , C11D7/30
CPC分类号： C11D7/266 , C11D7/30 , C11D7/5027
摘要： A detergent composition is provided to increase a detergency efficiency for grease and abietic acid, to do less harm to environment, and to produce a detergent with high efficiency and at low cost. A detergent composition includes 50-90vol% of a hydrocarbon solvent and 10-50vol% of an acetate compound represented by the following formula 1, or 20-98vol% of the hydrocarbon solvent, 1-30vol% of the acetate compound, and 1-50vol% of 1-bromopropane. In the formula 1, R^1 is C1-5 alkyl, C1-5 alkoxy, C1-5 hydroalkyl, or the formula (a), wherein R^2 is hydrogen, C1-5 alkyl, or the formula (b), and n is an integer of 1-5.
摘要翻译：提供洗涤剂组合物以增加油脂和松露酸的洗涤效率，对环境的危害较小，并以低成本生产洗涤剂。洗涤剂组合物包括50-90vol％的烃溶剂和10-50vol％的由下式1表示的乙酸酯化合物或20-98vol％的烃溶剂，1-30vol％的乙酸酯化合物和1- 50vol％的1-溴丙烷。在式1中，R 1是C 1-5烷基，C 1-5烷氧基，C 1-5氢烷基或式（a），其中R 2是氢，C 1-5烷基或式（b）， n为1-5的整数。

75. 发明授权

KR100770624B1 탈거 및 세정용 조성물 및 이의 용도 有权
标题翻译：用于剥离和清洁的组合物及其用途
公开(公告)号：KR100770624B1
公开(公告)日：2007-10-29
申请号：KR1020050057729
申请日：2005-06-30
申请人： 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드
发明人： 에그비매튜아이 , 레겐자마이클 , 위더토마스 , 리커제니퍼엠
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/30 , C11D7/32 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/02071 , C11D7/10 , C11D7/263 , C11D7/3209 , C11D11/0047 , C23G1/061 , C23G1/18 , G03F7/425 , H01L21/02063 , H01L21/31133
摘要： 본 발명은 글리콜 에테르를 포함하는 하나 이상의 수용성 유기 용매; 물; 플루오라이드 함유 화합물[단, 플루오라이드 함유 화합물이 플루오르화암모늄이면 추가의 플루오라이드 함유 화합물이 조성물에 첨가되지 않아야 함]; 임의로 4급 암모늄 화합물; 및 임의로 부식 억제제를 포함하는 조성물에 관한 것으로서, 상기 조성물은 포토레지스트 및/또는 에칭 잔류물과 같은 잔류물을 제품으로부터 제거할 수 있다. 또한, 본 명세서에 개시된 조성물을 사용하여 제품으로부터 잔류물을 제거하는 방법도 제공된다.
플루오라이드 함유 화합물, 잔류물 제거, 탈거 및 세정 조성물

76. 发明授权

KR100737877B1 반도체기판 세정용 오존수 기술 有权
标题翻译：用于清洁半导体基板的臭氧水的技术
公开(公告)号：KR100737877B1
公开(公告)日：2007-07-10
申请号：KR1020057002149
申请日：2003-08-11
申请人： 주식회사 사무코 , 에코 기켄 가부시키가이샤 , 티센크루프 우데 크로린 엔지니어스 가부시키가이샤
发明人： 타케무라마코토 , 후쿠다야수오 , 하야타카주아키 , 카토마사아키 , 수하라에이지
IPC分类号： C11D7/26 , H01L21/304 , C11D7/50
CPC分类号： C11D7/5022 , B08B3/02 , B08B3/08 , B08B2203/005 , C02F1/68 , C02F1/78 , C02F2103/04 , C02F2103/346 , C11D3/3942 , C11D11/0047 , H01L21/02052
摘要： 유기용제의 첨가로, 유기탄소가 미량인 초순수는 유기탄소가 증가한 초순도 오존수가 되고, 오존 반감기의 저감을 억제할 수 있다. 그 결과, 초순도 오존수로 반도체기판을 세정하면, 고농도의 오존으로 기판을 세정할 수 있다. 따라서, 오존의 산화작용에 의해, 기판에 부착된 유기불순물, 금속불순물 등의 세정능력, 세정효율이 높아진다.

77. 发明公开

KR1020070042148A 저온에서 오일을 용해시키는 방법 有权
标题翻译：低温溶解油的方法
公开(公告)号：KR1020070042148A
公开(公告)日：2007-04-20
申请号：KR1020077001140
申请日：2005-07-18
申请人： 아르끄마 프랑스
发明人： 랄리에쟝-피에르
IPC分类号： C11D7/50 , C23G5/028
CPC分类号： C11D7/261 , C07C19/08 , C07C21/04 , C11D7/28 , C11D7/5018 , C11D7/5022 , C11D7/5081 , C11D11/0041 , C23G5/02803 , C23G5/02806 , F26B5/005
摘要： 본 발명은 용매 분야에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 이는 저온에서 오일을 용해시키는 방법에 관한 것이다. 또한 본 발명은 1,1,1,3,3-펜타플루오로부탄(HFC-36mfc) 및 1,1,1,2,3,4,4,5,5,5-데카플루오로펜탄(HFC-43-10mee)의 신규 조성물에 관한 것이다.

78. 发明公开

KR1020070012221A 수지조성물 제거세정제 无效
标题翻译：树脂组合物的去除和洗涤剂
公开(公告)号：KR1020070012221A
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：KR1020060067620
申请日：2006-07-19
申请人： 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤
发明人： 가타노아키라 , 하라다고지
IPC分类号： C11D1/00 , C11D7/24 , G03F7/42 , C11D7/50
CPC分类号： C11D1/00 , C11D7/247 , C11D7/5004 , G03F7/422
摘要： Provided is a cleaning agent for removing a resin composition, which removes a resin composition adhered to a coating apparatus effectively and exhibits a cleaning property effective in removing a pigment-dispersible photosensitive resin composition. The cleaning agent for removing resin composition contains at least one solvent capable of dissolving and removing a resin composition adhered to the surface of an article, and a aromatic compound that disperses pigments contained in the adhered resin composition. The aromatic compound includes alkylbenzene. An alkyl group in the alkyl benzene has 3-5 carbon atoms. The alkylbenzene is contained in an amount of 5-50wt% based on the total weight of the cleaning agent.
摘要翻译：本发明提供一种用于除去树脂组合物的清洁剂，该树脂组合物有效地除去附着在涂布装置上的树脂组合物，并且具有有效去除颜料分散性感光性树脂组合物的清洁性能。用于除去树脂组合物的清洁剂含有至少一种能够溶解和除去附着在制品表面上的树脂组合物的溶剂和分散粘附的树脂组合物中所含颜料的芳族化合物。芳香族化合物包括烷基苯。烷基苯中的烷基具有3-5个碳原子。基于清洁剂的总重量，烷基苯的含量为5-50wt％。

79. 发明授权

KR100670016B1 비수성 산소계 액상 표백제 조성물 有权
标题翻译：含有过氧化合物的非水性液体漂白剂组合物
公开(公告)号：KR100670016B1
公开(公告)日：2007-01-16
申请号：KR1020040075586
申请日：2004-09-21
申请人： 오씨아이 주식회사
发明人： 양세인 , 유경근 , 김용일 , 이영란
IPC分类号： C11D3/395 , C11D17/00 , C11D7/50
摘要： 본 발명은 비수성(non-aqueous) 산소계 액상 표백제 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고체상의 과산화물이, 수분함량이 거의 없는 비극성 유기용매, 비이온성과 음이온성 계면활성제의 함량을 조절하여 구성된 액상 내에 분산되어 점도가 높은 페이스트 또는 겔 형태의 서스펜션(suspension)상으로 형성됨으로써, 유효산소의 손실이 없으며, pH가 알칼리 범위어서 표백력 및 세탁력이 우수하고, 저장중 점도의 변화나 상분리가 없는 등의 화학적, 물리적으로 안정하여 의류의 표백 및 얼룩 제거와 주방 및 욕실 청소 등에 다목적으로 사용 할 수 있는 신개념의 비수성 산소계 액상 표백제 조성물에 관한 것이다.
산소계, 표백제, 다목적, 서스펜션

80. 发明公开

KR1020070003888A 나노전자 및 마이크로전자 세정 조성물 有权
标题翻译：纳米电子和微电子清洁组合物
公开(公告)号：KR1020070003888A
公开(公告)日：2007-01-05
申请号：KR1020067017617
申请日：2005-02-11
申请人： 아반토르 퍼포먼스 머티리얼스, 인크.
发明人： 수,치엔핀셔먼
IPC分类号： C11D11/00 , C11D7/50 , C11D7/34 , B82Y40/00 , G03F7/42
CPC分类号： C11D11/0047 , C11D3/3947 , C11D3/3956 , C11D7/22 , C11D7/261 , C11D7/34 , C11D7/5004 , C11D7/5009 , C11D7/5022 , G03F7/422 , G03F7/425 , G03F7/426 , C11D11/0005 , B82Y40/00 , C11D7/5013 , G03F7/42
摘要： Nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions for cleaning nanoelectronic and microelectronic substrates under supercritical fluid state conditions, and particularly cleaning compositions useful with and having improved compatibility with nanoelectronic and microelectronic substrates characterized by silicon dioxide, sensitive low-kappa or high-kappa dielectrics and copper, tungsten, tantalum, nickel, gold, cobalt, palladium, platinum, chromium, ruthenium, rhodium, iridium, hafnium, titanium, molybdenum, tin and other metallization, as well as substrates of Al or Al(Cu) metallizations and advanced interconnect technologies, are provided by nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions comprising nanoelectronic and microelectronic cleaning compositions of this invention are provided by compositions comprising: (1) a supercritical main fluid reaching a supercritical fluid state at a temperature of 250‹C or less and a pressure of 600 bars or less (592.2 atm, 8702.3 psi), and (2) as a secondary fluid, a modifier formulation selected from the following formulations: a) a formulation comprising: an oxidizing agent; a polar organic solvent selected from the group consisting of amides, sulfones, sulfolenes, selenones and saturated alcohols; and optionally other components; b) a silicate free formulation comprising: a polar organic solvent selected from the group consisting of amides, sulfones, selenones and saturated alcohols; a strong alkaline base; and optionally other components; c) a formulation comprising: from about 0.05% to 30% by weight of one or more non-ammonium producing strong base containing non-nucleophilic, positively charged counter ions; from about 0.5 to about 99.95% by weight of one or more corrosion inhibiting solvent compounds, said corrosion inhibiting solvent compound having at least two sites capable of complexing with metals; and optionally other components; d) a formulation comprising: from about 0.05 to 20% by weight of one or more non-ammonium producing, non-HF producing fluoride salt; from about 5 to about 99.95% by weight of water, organic solvent or both water and organic solvent; and optionally other components; and e) a formulation comprising: from about 0.05% to 30% by weight of one or more non-ammonium producing strong base containing non-nucleophilic, positively charged counter ions; from about 5 to about 99.95% by weight of one or more steric hindered amide solvents; and optionally other components. ® KIPO & WIPO 2007
摘要翻译：用于在超临界流体状态条件下清洁纳米电子和微电子衬底的纳米电子和微电子清洁组合物，特别是与二氧化硅，敏感的低kappa或高kappa电介质以及铜，钨的纳米电子和微电子衬底有用并具有改进的相容性的清洁组合物，钽，镍，金，钴，钯，铂，铬，钌，铑，铱，铪，钛，钼，锡等金属化，以及Al或Al（Cu）金属化和先进互连技术的基板由包括本发明的纳米电子和微电子清洁组合物的纳米电子和微电子清洁组合物提供由以下组合物提供，所述组合物包含：（1）在250℃或更低的温度和600巴的压力下达到超临界流体状态的超临界主流体，少（592.2 atm，8702.3 psi），和（2）作为第二流体，选自以下配方的改性剂制剂：a）制剂，其包含：氧化剂; 选自酰胺，砜，环丁烯砜，硒酮和饱和醇的极性有机溶剂; 和任选的其它组分; b）无硅酸盐制剂，其包含：选自酰胺，砜，硒酮和饱和醇的极性有机溶剂; 强碱性碱; 和任选的其它组分; c）一种制剂，其包含：约0.05％至30％重量的一种或多种含非亲核带正电荷的抗衡离子的产生非铵的强碱; 约0.5-约99.95％（重量）的一种或多种腐蚀抑制溶剂化合物，所述腐蚀抑制溶剂化合物具有至少两个能与金属络合的位点; 和任选的其它组分; d）一种制剂，其包含：约0.05至20重量％的一种或多种非铵生产的非HF产生氟化物盐; 约5至约99.95重量％的水，有机溶剂或水和有机溶剂; 和任选的其它组分; 和e）一种制剂，其包含：约0.05％至30％重量的一种或多种含非亲核带正电荷的抗衡离子的产生非铵的强碱; 约5至约99.95重量％的一种或多种空间位阻酰胺溶剂; 和任选的其它组分。 ®KIPO＆WIPO 2007

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