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61. 发明公开

KR1020160098165A 구배 박막 필름 审中-实审
标题翻译：梯度薄膜
公开(公告)号：KR1020160098165A
公开(公告)日：2016-08-18
申请号：KR1020167009588
申请日：2014-09-19
申请人： 더 보잉 컴파니
发明人： 래너드,알파나 , 마토스,마비에이.
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/453 , C23C16/50 , C23C16/503 , C23C16/505 , C23C16/52
CPC分类号： C23C16/50 , C23C16/453 , C23C16/45523 , C23C16/503 , C23C16/505 , C23C16/52
摘要： 물품의표면으로부터일정한두께의제1 필름을포함하는물품으로서, 상기제1 필름은상기물품의표면에대해수직방향및/또는수평방향으로상기제1 필름의일정한두께의최소한한 부위내에서구배화학적조성을가지며, 상기물건을제조하는방법과시스템을제공한다.

62. 发明公开

KR1020160052858A 통전성형용 프레스 금형 有权
标题翻译：用于电气辅助制造的压力机
公开(公告)号：KR1020160052858A
公开(公告)日：2016-05-13
申请号：KR1020140147944
申请日：2014-10-29
申请人： 주식회사 엠에스 오토텍 , 울산대학교 산학협력단
发明人： 김장수 , 양대호 , 이현우 , 김우영 , 홍성태 , 박기동 , 정용하
IPC分类号： B21D37/10 , C23C16/50 , B21D22/20
CPC分类号： B21D22/208 , B21D24/16 , B21D37/10 , B21D37/16 , C23C16/26 , C23C16/448 , C23C16/50
摘要： 본발명은소재에전류를인가하여성형하는통전성형용프레스금형에관한것으로, 전원공급장치의양극과전기적으로연결되고전도성재질로이루어진제 1 틀부재, 및제 1 틀부재와형합되어소재를성형하고전원공급장치의음극과전기적으로연결되며전도성재질로이루어진제 2 틀부재를포함함으로써, 틀부재를전극으로활용하여별도의전극을설치할필요가없는이점을가진다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于电辅助形成的压模，通过向该材料施加电流来形成材料。压模包括电连接到电源装置的正电极并由导电材料制成的第一框架构件; 以及第二框架构件，通过与第一框架构件组合形成材料，电连接到电源装置的负极并由导电材料制成，从而不需要通过使用框架构件来安装额外的电极电极。

63. 发明公开

KR1020150138666A 플라즈마 화학기상증착 장치용 배플 구조물 및 이의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：应用等离子体化学蒸气沉积装置的烧结结构及其制造方法
公开(公告)号：KR1020150138666A
公开(公告)日：2015-12-10
申请号：KR1020140066874
申请日：2014-06-02
申请人： 주식회사 미코
发明人： 김성수 , 박명하 , 이복형
IPC分类号： H01L21/205 , C23C16/50
摘要： 기판에플라즈마를이용하여반도체층을형성하기위한반응공간을갖는반응챔버에설치되며상기플라즈마로여기되어서상기반도체층을형성하는반응가스를상기반응공간으로균일하게분사하는플라즈마화학기상증착장치용배플구조물은잔류산소가 1% 미만인질화알루미늄(AlN) 소결체로이루어진다.
摘要翻译：用于等离子体化学气相沉积设备的挡板结构安装在具有反应空间的反应室中，以通过使用等离子体在基板上形成半导体层，并且均匀地喷射被激发到等离子体以形成半导体层的反应气体，进入反应空间。用于等离子体化学气相沉积装置的挡板结构由具有1％或更小的残余氧的氮化铝（AlN）颗粒制成。

64. 发明公开

KR1020150137882A 플라즈마 유기 중합체 박막 및 그 제조방법 无效
标题翻译：等离子体有机聚合物及其制备方法
公开(公告)号：KR1020150137882A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：KR1020140066509
申请日：2014-05-30
申请人： 주식회사제4기한국
发明人： 백태일 , 박남선 , 박현화
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/32
CPC分类号： C23C16/32 , C23C16/50
摘要： 본발명은플라즈마유기중합체박막및 그제조방법에관한것으로, 보다상세하게는탄화수소, 또는탄화수소및 할로-탄화수소혼합가스와같은유기물질을전구체로이용하여플라즈마장치를통해기판표면등에증착함으로써접합강도및 내부식성등의물성이현저히향상된플라즈마유기중합체박막및 그제조방법에관한것이다.
摘要翻译：等离子体有机聚合物膜及其制造方法技术领域本发明涉及等离子体有机聚合物膜及其制造方法，更具体地，涉及一种等离子体有机聚合物膜及其制造方法，其通过沉积来显着改善诸如结合强度，耐腐蚀性等性能通过使用诸如烃或烃和卤代烃的混合气体的有机材料作为前体，通过等离子体装置在基板表面上的等离子体有机聚合物膜。

65. 发明授权

KR101538874B1 대형 기판상에 원자층 증착을 수행하기 위한 다중 섹션을 구비한 연장된 반응기 조립체 有权
标题翻译：扩展的反应堆组件，用于在大型基板上执行原子层沉积的多个部分
公开(公告)号：KR101538874B1
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：KR1020137015637
申请日：2011-11-11
申请人： 비코 에이엘디 인코포레이티드
发明人： 이상인
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/50
CPC分类号： C23C16/45551 , C23C16/45536 , H01J37/32376 , H01J37/32449 , H01J37/32568 , H01J37/32752 , H01J37/32807
摘要： 실시예들은대형기판상에원자층증착(ALD)를수행하기위한중착장치내의길쭉한반응기조립체와관련된다. 길쭉한반응기조립체는하나이상의주입기들또는라디칼반응기들을포함한다. ALD 공정의일부로서기판이주입기또는라디칼반응기를통과할때, 각각의주입기또는라디칼반응기는기판상에기체또는라디칼들을주입한다. 각각의주입기또는라디칼반응기는적어도두 개의섹션들이상이한단면구성을갖는복수의섹션들을포함한다. 주입기또는라디칼반응기내에상이한섹션들을제공함으로써, 주입기또는라디칼반응기는기판전체에걸쳐더욱균일하게기체및 라디칼들을주입할수 있다. 각각의주입기또는라디칼반응기들은증착장치외부로과잉기체또는라디칼들을방출하기위한하나이상의배출구를포함할수 있다.

66. 发明授权

KR101529788B1 금속 칼코게나이드 박막 및 그 제조방법 有权
标题翻译： CHACOGENIDE金属薄膜及其制造方法
公开(公告)号：KR101529788B1
公开(公告)日：2015-06-29
申请号：KR1020130152849
申请日：2013-12-10
申请人： 성균관대학교산학협력단
发明人： 김태성 , 안치성 , 이창구 , 김형우 , 이진환 , 그리쉬아라베일
IPC分类号： C23C28/00 , C23C16/50 , C23C16/455
CPC分类号： C23C14/542 , C01B17/20 , C01B19/007 , C01G1/12 , C01G39/06 , C01P2004/24 , C23C14/14 , C23C14/5866
摘要： 본발명은금속칼코게나이드박막및 그제조방법에관한것으로서, 본발명에따른금속칼코게나이드박막의제조방법은기판상에금속층을형성하는금속층형성단계; 저온기상증착용챔버내에상기기판을투입하고, 상기챔버내에서칼코겐원자-함유기체와아르곤가스를주입한후, 플라스마를발생시켜상기플라스마에의해분해된칼코겐원자가상기금속층을구성하는금속원자와화학적으로결합되어금속칼코게나이드박막으로형성되도록하는금속칼코게나이드박막형성단계;를포함하는것을특징으로한다. 이에의하여, 저온기상증착방법(PECVD)을이용하여해당기판에 in-situ방식으로플라스틱등의낮은용융점을가지는기판에직접금속칼코게나이드박막을형성할수 있고, 이를통해별도의건조공정이불필요하고, 별도의전사공정을거치지않아도박막형성이가능하여전기적/물리적특성을극대화하고, 높은균일도와신뢰도를담보할수 있는금속칼코게나이드박막및 그제조방법이제공된다.
摘要翻译：本发明涉及一种硫族化物金属薄膜及其制造方法。制造硫族化物金属薄膜的方法包括：在基板上形成金属层的金属层形成步骤; 以及硫化物金属薄膜形成工序，在低温蒸镀室内输入基板，在室内注入含硫属原子的气体和氩气，然后产生等离子体，并化学地将由等离子体分解的硫属原子与构成要形成的金属层的金属原子作为硫族化物金属薄膜。因此，提供了硫族化物金属薄膜及其制造方法，通过该硫化物金属薄膜可以将硫族化物金属薄膜直接在相应的基板上以原位形式在塑料或线路的熔点低的基板上形成，使用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）方法，通过该方法不需要单独的干燥过程，并且可以不经过单独的转移过程而形成薄膜，以使电/物理特征最大化，并且具有高均匀性和可靠性可以安全。

67. 发明公开

KR1020150065405A 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 无效
标题翻译：化学蒸气沉积装置用于平板显示
公开(公告)号：KR1020150065405A
公开(公告)日：2015-06-15
申请号：KR1020130150687
申请日：2013-12-05
申请人： 주식회사 에스에프에이
发明人： 고희진 , 김영태
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/50 , C23C16/455
摘要： 평면디스플레이용화학기상증착장치가개시된다. 본발명의일 실시예에따른평면디스플레이용화학기상증착장치는, 평면디스플레이용기판에증착물질을공급함과동시에증착물질이기판의표면에서반응후 생성된반응물을상부로배기하는가스공급/배기판; 가스공급/배기판의상부에배치되되, 가스공급/배기판과사이에버퍼공간을형성하는백킹플레이트; 및백킹플레이트를관통하여버퍼공간에연통되는반응물배기포트와, 반응물배기포트의하단부에밀착되며가스공급/배기판을통해버퍼공간으로유입되는반응물에가해지는배기압력을균일하게조절하도록반응물배기포트와연통되는복수의관통공이형성된배기배플을구비한반응물배기유닛을포함하며, 가스공급/배기판은, 몸체부; 및몸체부의하면에마련되되, 기판과몸체부사이의플라즈마밀도를상승시키는플라즈마밀도상승부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于平板显示器的化学气相沉积设备。根据本发明的一个实施例，用于平板显示器的化学气相沉积装置包括：供给/供给平板显示器的基板的沉积材料的气体供给/排出板，以及在沉积材料反应之后产生的反应物衬底的表面到顶部; 布置在气体供应/排气板的顶部上的背板，在气体供应/排气板之间形成缓冲空间; 以及反应物排出单元，其具有通过背板连接到缓冲空间的反应物排出口，以及形成多个贯穿孔的排气挡板，其粘附到反应物排气口的下端部并与反应物排气口连接端口，以均匀地控制施加到通过气体供应/排出板供应到缓冲空间的反应物的排气压力，其中气体供应/排出板包括：主体单元; 以及设置在身体单元的下表面上的等离子体密度增加单元，增加基底和身体单元之间的等离子体密度。

68. 发明公开

KR1020150065403A 평면디스플레이용 화학 기상 증착장치 无效
标题翻译：化学蒸气沉积装置用于平板显示
公开(公告)号：KR1020150065403A
公开(公告)日：2015-06-15
申请号：KR1020130150685
申请日：2013-12-05
申请人： 주식회사 에스에프에이
发明人： 고희진 , 권상교 , 김영태 , 이은녕
IPC分类号： C23C16/50 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/5096 , C23C16/45565 , H01L51/56
摘要： 평면디스플레이용화학기상증착장치가개시된다. 본발명의일 실시예에따른평면디스플레이용화학기상증착장치는, 평면디스플레이용기판에증착물질을공급함과동시에증착물질이기판의표면에서반응후 생성된반응물을상부로배기하는가스공급/배기판; 가스공급/배기판의상부에배치되되, 가스공급/배기판과사이에버퍼공간을형성하는백킹플레이트; 버퍼공간에연통되되, 가스공급/배기판을통해버퍼공간으로유입된반응물을배기하는반응물배기유닛; 및가스공급/배기판에연결되되, 가스공급/배기판에고주파전원을공급하는고주파전원공급유닛을포함하며, 고주파전원공급유닛은, 고주파발생부에연결되되, 백킹플레이트를관통하여가스공급/배기판에결합되며가스공급/배기판에고주파전원을공급하는고주파전원피더(feeder)를포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于平板显示器的化学气相沉积设备。根据本发明的一个实施例，用于平板显示器的化学气相沉积设备包括：供给/供给平板显示器的基板的沉积材料的气体供给/排出板，以及在沉积材料反应之后产生的反应物在顶部的基底的表面; 布置在气体供应/排气板的顶部的背板，与气体供应/排出板形成缓冲空间; 与所述缓冲空间连接的反应物排出单元，通过所述气体供给/排出板发射供应到所述缓冲空间的反应物; 以及连接到所述气体供给/排出板并向所述气体供给/排出板供给高频电力的高频电源单元，其中所述气体供给/排出板包括：连接到高频发生单元的高频电力馈送器，通过背板组合到供气/排气板; 并向气体供给/排出板提供高频电力。

69. 发明公开

KR1020150060860A 기판 프로세싱 시스템들에서의 온도 제어 审中-实审
标题翻译：控制衬底加工系统的温度
公开(公告)号：KR1020150060860A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020157010486
申请日：2013-09-24
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 로카-알바레즈,주안카를로스 , 반살,아미트쿠마르 , 발라수브라마니안,가네쉬 , 저우,지안후아 , 산카라크리쉬난,람프라카쉬
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/324 , H01J37/32 , C23C16/50
CPC分类号： C23C16/50 , H01J37/32091 , H01J37/3244 , H01J37/32522 , H01L21/6719
摘要： 기판을플라즈마프로세싱하기위한장치가제공된다. 장치는프로세싱챔버, 프로세싱챔버에배치된기판지지부, 및프로세싱챔버에커플링된덮개조립체를포함한다. 덮개조립체는전력소스에커플링된, 페이스플레이트와같은전도성가스분배기, 및전도성가스분배기에커플링된히터를포함한다. 구획된블록커플레이트는전도성가스분배기에커플링되고, 냉각식가스캡은구획된블록커플레이트에커플링된다. 튜닝전극은, 플라즈마의접지경로를조정하기위해서, 전도성가스분배기와챔버본체사이에배치될수 있다. 제 2 튜닝전극이기판지지부에커플링될수 있고, 또한바이어스전극이기판지지부에커플링될수 있다.

70. 发明公开

KR1020150057677A 샤워헤드 어셈블리 및 이를 포함하는 화학기상 증착장치 审中-实审
标题翻译：淋浴组件和化学气相沉积装置，包括它们
公开(公告)号：KR1020150057677A
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：KR1020130141342
申请日：2013-11-20
申请人： 엘지디스플레이 주식회사 , 주식회사 선익시스템
发明人： 김종석 , 이정형 , 함윤혜 , 이영종 , 성기현 , 최창식 , 윤종갑 , 이재호
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/50
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/4405 , C23C16/452 , C23C16/4557 , C23C16/45574 , C23C16/46 , C23C16/463
摘要： 본발명은샤워헤드어셈블리및 이를포함하는화학기상증착장치에관한것이다. 본발명은챔버의상부에설치되어상기챔버내부로반응가스를분출시키는샤워헤드어셈블리에있어서, 제1 반응가스가유입되는제1 반응가스유입플레이트; 상기제1 반응가스유입플레이트의상부에적층되고, 제2 반응가스가유입되는제2 반응가스유입플레이트; 및상기제2 반응가스유입플레이트의상부에적층되고, 상기제1 및제2 반응가스가반응을일으키도록개시제가유입되는개시제유입플레이트를포함할수 있다. 이와같은본 발명에의하면, 샤워헤드어셈블리를 3단구조로구성하고반응가스를중앙부로안내하는가스유로가형성함으로써반응가스가챔버내부로균일하게분출될수 있다.
摘要翻译：喷淋头组件及包括该喷淋头组件的化学气相沉积设备技术领域本发明涉及一种喷淋头组件及包括该喷淋头组件的化学气相沉积设备。安装在室的上部并将反应气体注入到室中的喷淋头组件包括：第一反应气体引入板，第一反应气体引入到其中; 第二反应气体导入板，其叠置在第一反应气体导入板的顶部，并且引入第二反应气体; 以及引发剂引入板，其堆叠在第二反应气体导入板的顶部，并且引入引发剂以引发第一和第二反应气体之间的反应。根据如上所述的本发明，由于喷淋头组件由三级结构构成，反应气体可以均匀地注入到室中，并且形成用于将反应气体引导到中心部分的气体流路。

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