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61. 发明公开

KR1020130084666A 중합성 함불소 술폰산염류, 함불소 술폰산염 수지, 레지스트 조성물 및 그것을 사용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：可聚合的含氟磺酸盐，含氟磺酸盐树脂，耐蚀组合物和使用其的形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020130084666A
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：KR1020137012134
申请日：2011-10-05
申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
发明人： 다키하나료조 , 나리즈카사토루
IPC分类号： C08F20/38 , C07C309/10 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： C08F28/02 , C07C309/10 , C07C381/12 , C07C2601/14 , C08F20/38 , C08F220/26 , C08F232/04 , G03F7/00 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2039 , G03F7/2041 , G03F7/039 , G03F7/426
摘要： 본 발명에 의하면, 하기 일반식 (3)으로 나타내어지는 반복 단위를 가지는 술폰산염 수지가 제공된다.
[화학식 147]

(식 중, X는 수소 원자 또는 불소 원자, n은 1∼10의 정수. R
1 은 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기 또는 함불소 알킬기를 나타낸다. R
2 는, R
A O, R
B R
C N 중 어느 하나를 나타낸다. M
+ 는, 1가의 카티온을 나타낸다.)
당해 술폰산염 수지는, 측쇄에 술폰산 오늄염을 구비하고 아니온이 수지 측에 고정되며, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트로의 용해도가 높은 레지스트 수지로서 바람직하게 사용된다.
摘要翻译：具有以下通式（3）的重复单元的磺酸树脂：其中X各自独立地表示氢原子或氟原子; n表示1〜10的整数， R1表示氢原子，卤素原子，C1-C3烷基或C1-C3含氟烷基; R2代表RAO或RBRCN; M +表示一价阳离子。磺酸酯树脂在其侧链中具有磺酸盐，其中磺酸盐的阴离子部分固定在树脂上，并且可以适当地用作在丙二醇单甲醚乙酸酯中具有高溶解度的抗蚀剂树脂。

62. 发明授权

KR101195922B1 피리돈아조 화합물 및 이 호변이성체, 착색제함유 경화성조성물, 컬러 필터 및 그 제조 방법 有权
标题翻译：吡咯烷酮偶氮化合物及其衍生物，含有可固化组合物的着色剂，颜料过滤器及其生产方法
公开(公告)号：KR101195922B1
公开(公告)日：2012-10-31
申请号：KR1020077024577
申请日：2006-03-24
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 아라키카츠미
IPC分类号： C09B69/10 , C08F20/38 , C09B29/42 , G02B5/20
CPC分类号： G03F7/0007 , C08F220/34 , C09B29/363 , C09B69/106
摘要： 내열성 및 내광성이 뛰어나고, 또한 물이나 유기 용제로의 용해성이 뛰어난 피리돈아조 화합물, 및 염료의 몰 흡광 계수나 색가, 내광성, 내열성, 및 패턴 형성성(현상성), 제작 프로세스 상의 혼색/색 빠짐 방지가 뛰어난 착색제함유 경화성 조성물, 및 컬러 필터 및 그 제조 방법을 제공한다.
하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지는 구조 단위를 함유하는 피리돈아조 화합물 및 이 호변이성체, 및 상기 피리돈아조 화합물 및 이 호변이성체를 착색제로서 함유해서 이루어지는 착색제함유 경화성 조성물로서, 상기 착색제가 하기 일반식(Ⅰ)으로 나타내어지는 구조 단위를 함유하는 화합물 및/또는 이 호변이성체를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색제함유 경화성 조성물이다.

(일반식(Ⅰ) 중, R
5 는 치환기를 갖고 있어도 되는 2가의 연결기를 나타낸다. R
6 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. R
7 은 피리돈아조 구조를 함유하는 기를 나타낸다.)
피리돈아조 화합물, 호변이성체, 착색제, 경화성 조성물, 컬러 필터

63. 发明授权

KR101153593B1 중합성 음이온을 갖는 술포늄염 및 고분자 화합물,레지스트 재료, 및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：具有可聚合阴离子的锍盐，具有可聚合阴离子的聚合物锍盐，聚合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺，抗蚀剂组合物和图案化过程
公开(公告)号：KR101153593B1
公开(公告)日：2012-06-12
申请号：KR1020070108118
申请日：2007-10-26
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 오사와,요우이찌 , 오아시,마사끼 , 다찌바나,세이이찌로 , 하따께야마,준 , 와따나베,다께루
IPC分类号： C08F20/10 , C08F20/38 , C08F20/22 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C08F20/22 , C08F20/38 , G03F7/0046 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/124 , Y10S430/126 , Y10S430/143
摘要： 본 발명은 고에너지선 또는 열에 감응하여, 하기 화학식 1a로 표시되는 반복 단위의 술폰산을 발생하는 고분자 화합물에 관한 것이다.

(식 중, R
1 은 수소 원자, 불소 원자, 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.)
본 발명의 중합성 음이온을 갖는 술포늄염은 고에너지선 조사에 의해 산을 발생한 경우에 매우 강한 술폰산을 발생하기 때문에, 화학 증폭형 레지스트 재료 중의 산불안정기를 효율적으로 절단할 수 있어, 감방사선 레지스트 재료의 기재 수지를 제조하기 위한 단량체로서 매우 유용하다. 또한, 본 발명의 고분자 화합물을 감방사선 레지스트 재료의 기재 수지로서 이용한 경우, 고해상성이면서 또한 조밀 의존성 및 노광 마진이 우수하여, 이 고분자 화합물은 레지스트 재료로서 정밀한 미세 가공에 매우 효과적이다.
레지스트 재료, 중합성 음이온, 술포늄염, 술폰산, 고해상성

64. 发明授权

KR100823471B1 플루오로알킬술폰늄염의 광산발생기가 측쇄에 도입된 호모폴리머 제조용 화합물의 제조방법 失效
标题翻译：含新光聚合物光合发电机的合成
公开(公告)号：KR100823471B1
公开(公告)日：2008-04-21
申请号：KR1020060107424
申请日：2006-11-01
申请人： 한양대학교 산학협력단
发明人： 이해원 , 장유진 , 권기진
IPC分类号： C08F20/04 , C08F20/38 , C08F14/18 , C07C309/78
CPC分类号： C08F120/38 , C08F8/38 , C08F120/18
摘要： A method for preparing a monomer for the preparation of a homopolymer is provided to reduce the step of synthesis, to improve purity and production yield and to obtain a homopolymer where a fluoroalkyl sulfonium photoacid generator is introduced. A method for preparing a monomer for the preparation of a homopolymer comprises the steps of mixing an acryloylphenyl compound represented by the formula 3, a diphenyl sulfoxide compound represented by the formula 4, and the compound represented by ((CF2)nCF3SO2)2O at a temperature of -90 to -60 deg.C; and reacting the mixture at a temperature of 10-35 deg.C to prepare a monomer represented by the formula 2, wherein R1 and R2 are a C1-C6 alkylcarbonyl group, an aldehyde group, a cyano group, a nitro group, or a phenyl group; R3 is H, or a C1-C6 linear, branched or cyclic alkyl group; and n is an integer of 0-20.
摘要翻译：提供制备用于制备均聚物的单体的方法，以减少合成步骤，提高纯度和产率，并获得其中引入氟代烷基锍光致酸产生剂的均聚物。制备均聚物制备单体的方法包括以下步骤：将由式3表示的丙烯酰基苯基化合物，由式4表示的二苯基亚砜化合物与（（CF 2）n CF 3 SO 2）2 O表示的化合物在温度为-90〜-60℃; 在10-35℃的温度下使混合物反应，制备由式2表示的单体，其中R1和R2是C1-C6烷基羰基，醛基，氰基，硝基或苯基; R3是H或C1-C6直链，支链或环状的烷基; n为0〜20的整数。

65. 发明公开

KR1020070063506A 표면 처리제, 표면 처리 분체 및 이를 함유하는 화장료 有权
标题翻译：表面处理剂，表面处理粉末和含有其的化妆品制剂
公开(公告)号：KR1020070063506A
公开(公告)日：2007-06-19
申请号：KR1020077004876
申请日：2005-10-06
申请人： 가부시키가이샤 시세이도
发明人： 니시하마슈지 , 가네다이사무 , 소가베아츠시 , 오사와도모 , 유사신이치
IPC分类号： C08F20/16 , C08F20/00 , C08F20/38 , A61K8/72
CPC分类号： C09C3/10 , A61K8/11 , A61K8/8158 , A61K2800/412 , A61Q1/02 , A61Q1/04 , A61Q1/10 , A61Q1/12 , A61Q17/04 , C01P2004/10 , C01P2004/20 , C08F220/28 , C09C1/027 , C09C1/28 , C09C1/3676 , C09C1/405 , C09C3/12
摘要： Disclosed is a surface-treating agent which provides a powder with excellent hydrophobic properties while improving wash-off properties of the powder. Also disclosed are a surface-treated powder which is treated with such a surface-treating agent, and a cosmetic preparation containing such a surface-treated powder. Specifically disclosed is a surface-treating agent characterized by being composed of a polymer which contains a monomer (A) represented by the general formula (1) below as a constituent polymer. (In the formula, R1 represents hydrogen or an alkyl group having 1-3 carbon atoms; R2 represents an alkylene group having 4-22 carbon atoms; X1 represents an -NH- group or an oxygen atom; and M1 represents hydrogen or a monovalent inorganic or organic cation.)
摘要翻译：公开了一种表面处理剂，其提供具有优异疏水性能的粉末，同时改善粉末的洗脱性能。还公开了用这种表面处理剂处理的表面处理粉末和含有这种表面处理粉末的化妆品。具体公开的是表面处理剂，其特征在于，由含有下述通式（1）表示的单体（A）的聚合物构成为构成聚合物。（式中，R1表示氢或碳原子数1〜3的烷基，R2表示碳原子数为4〜22的亚烷基，X1表示-NH-基或氧原子，M1表示氢或1价无机或有机阳离子）

66. 发明公开

KR1020050030206A 무기 초미립자를 함유하는 수지 조성물 有权
标题翻译：含有超声无机颗粒的树脂组合物
公开(公告)号：KR1020050030206A
公开(公告)日：2005-03-29
申请号：KR1020057001129
申请日：2003-07-17
申请人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
发明人： 나카야마노리오 , 이이지마도모노리 , 하야시도요하루
IPC分类号： C08F20/38 , G02B1/04
CPC分类号： C09D4/00 , Y10T428/31533 , Y10T428/31551 , C08F220/38 , C08F228/02
摘要： A composition in which refractive index control is possible and which, when applied to a substrate such as a resin and cured, gives a film excellent in marring resistance and adhesion (especially to resins having thiourethane bonds or epithiosulfide bonds). The composition is characterized by containing: a thio(meth)acrylate compound and ultrafine inorganic particles. (1) (In the formula, connecting group R represents an aliphatic residue, aromatic residue, alicyclic residue, or heterocyclic residue or an aliphatic residue having in the chain an oxygen atom, sulfur atom, aromatic ring, aliphatic ring, or heterocycle; Rm's each independently represents hydrogen or methyl; and n is an integer of 1 to 4.)
摘要翻译：可以进行折射率控制的组合物，并且当施加到诸如树脂的基底上并固化时，得到耐损伤性和粘合性优异的膜（特别是具有硫代氨基甲酸酯键或硫代硫键的树脂）。该组合物的特征在于含有硫代（甲基）丙烯酸酯化合物和超细无机颗粒。（1）（式中，连接基团R表示脂肪族残基，芳香族残基，脂环式残基或杂环残基或在链中具有氧原子，硫原子，芳香环，脂肪族环或杂环的脂肪族残基; Rm 各自独立地表示氢或甲基; n为1〜4的整数。）

67. 发明授权

KR100253879B1 광학용 수지 및 그 용도 有权
标题翻译：光学树脂及其用途
公开(公告)号：KR100253879B1
公开(公告)日：2000-04-15
申请号：KR1019990041417
申请日：1999-09-27
申请人： 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤
发明人： 코바야시세이이찌 , 카와우치노부야 , 스즈키토시유키 , 이마이마사오 , 후지이켕이치
IPC分类号： C08F20/38
CPC分类号： C08F20/38 , G02B1/041
摘要： PURPOSE: Provided is an optical resin obtained from an optical resin composition, which has a good handling property and gives an optical resin having excellent optical properties, particularly a high refractive index and excellent impact resistance. CONSTITUTION: The optical resin is obtained by polymerization of the optical resin composition comprising a sulfur-containing O-(meth)acrylate compound selected from the group consisting of compounds represented by formula (1-a), (1-b) and (1-c), wherein R is H or CH3; l is an integer of 2-3; m is 1 or 2; n is 2 or 3; and each of A, B and D is a specific organic group. The optical resin composition optionally further comprises a monomer copolymerizable with the sulfur-containing O-(meth)acrylate compound or a polythiol compound.
摘要翻译：目的：提供一种由光学树脂组合物获得的光学树脂，该光学树脂组合物具有良好的处理性能，并提供具有优异的光学性能，特别是高折射率和优异的耐冲击性的光学树脂。构成：光学树脂通过聚合含有选自由式（1-a），（1-b）和（1-b）表示的化合物组成的组的含硫O-（甲基）丙烯酸酯化合物的光学树脂组合物 -c），其中R是H或CH 3; l为2-3的整数; m为1或2; n为2或3; A，B和D各自为特定的有机基团。光学树脂组合物任选地还包含可与含硫O-（甲基）丙烯酸酯化合物或多硫醇化合物共聚的单体。

69. 发明授权

KR102365803B1 불소 함유 중합체 有权
公开(公告)号：KR102365803B1
公开(公告)日：2022-02-21
申请号：KR1020197001692
申请日：2017-06-14
IPC分类号： C08F220/24 , C08F120/24 , C08F20/24 , C08F220/20 , C08F265/04 , C09D133/16 , C09D133/06 , C09D4/06 , C03C17/32 , D06M15/277 , C08F220/38 , C08F220/18 , C08F220/32 , C08F230/08 , C09D5/16 , C08F20/28 , C08F20/38 , C09D5/00 , C09D163/00 , D06M101/06 , D06M101/32
摘要： 본발명은신규한불소함유중합체, 상기중합체를포함하는조성물, 코팅에서의, 특히발수성및 방오성코팅에서의상기중합체의용도, 및중합체함유코팅으로코팅된제품에관한것이다.

70. 发明授权

KR102315630B1 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체 有权
公开(公告)号：KR102315630B1
公开(公告)日：2021-10-20
申请号：KR1020167012704
申请日：2014-10-30
IPC分类号： C08F222/10 , C08F222/22 , C08F20/36 , C08F20/38 , G02B5/30 , C08J3/28 , C07C251/82 , C07C251/86 , C07D277/62 , C07D277/82 , C09K19/38 , G02B1/111
摘要： 본발명은식 (I) 로나타내는중합성화합물, 그중합성화합물및 중합개시제를함유하는중합성조성물, 상기중합성화합물또는중합성조성물을중합하여얻어지는고분자, 그리고그 고분자를구성재료로하는광학이방체이다. 식 (I) 중, Y1 ∼ Y9 는 -O-, -S-, -O-C(=O)-, -C(=O)-O- 등을, G1, G2 는탄소수 1 ∼ 20 의 2 가의사슬형지방족기등을, Z1 ∼ Z3 은탄소수 2 ∼ 10 의알케닐기등을, Ax 는하기식 (II) 로나타내는기 (X 는산소원자, 황원자등을나타낸다) 를, D 는탄소수 1 ∼ 20 의알킬렌기등을, A1 은 3 가의방향족기등을, A2, A3 은탄소수 3 ∼ 30 의 2 가의지환식탄화수소기등을, A4, A5 는탄소수 4 ∼ 30 의 2 가의방향족기등을, Q1 은탄소수 1 ∼ 6 의알킬기등을, m, n 은 0 또는 1 을나타낸다. [화학식 1] TIFF112016045925095-pct00045.tif39157 [화학식 2] TIFF112016045925095-pct00046.tif2882

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