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61. 发明授权

KR101342521B1 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101342521B1
公开(公告)日：2013-12-17
申请号：KR1020060000054
申请日：2006-01-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/027
摘要： 본발명에따른감광성수지조성물은감도, 내열성, 해상도등의성능이우수할뿐만아니라, 특히상온저장안정성및 투과율을현저히향상시켜 LCD 제조공정의층간절연막을형성하기에적합하다.

62. 发明授权

KR101221450B1 유무기 복합 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：包含有机和无机化合物的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101221450B1
公开(公告)日：2013-01-11
申请号：KR1020050065510
申请日：2005-07-19
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 김병욱 , 윤주표 , 구기혁 , 여태훈 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/004
摘要： 본 발명은 유무기 복합 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 A) 주기율표 내 3,4,5,13족 금속산화물로 이루어진 군 또는 유사 이원소 금속 산화물로 이루어진 군으로부터 선택된 금속 산화물; B)a) 아크릴계 공중합체; 및 b) 광개시제; 및 c) 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 다관능성 모노머; 및 d) 에폭시기 또는 아민기를 포함하는 실리콘계 화합물; 및 e) 용매를 포함하는 유무기 복합 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 유무기 복합 감광성 수지 조성물은 접착력, 내열성, 절연성, 평탄성, 내화학성 등의 성능이 우수하여 액정표시소자의 화상 형성용 재료로 적합하고, 특히 액정표시소자의 유기절연막 형성시 유전율, 평탄성, 감도, 잔막율, UV 투과율이 우수하기 때문에 게이트용 유기절연막으로 사용하기 적합할 뿐만 아니라, 동시에 오버코트용 레지스트 수지, 블랙매트릭스용 레지스트 수지, 컬럼 스페이서용 레지스트 수지, 또는 컬러 필터용 레지스트 수지로 사용되어 감도 및 잔막율을 향상시키는데 적합하다.
게이트. 감광성 수지, 유기절연막, 액정표시소자, 레지스트 수지,

63. 发明授权

KR101206780B1 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101206780B1
公开(公告)日：2012-11-30
申请号：KR1020050017892
申请日：2005-03-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 조용연 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 정의철 , 김동명 , 이호진 , 최상각 , 신홍대 , 이동혁
IPC分类号： G03F7/022
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅱ) 화학식 1 내지 8 중 어느 하나로 표시되는 에폭시기 함유 불포화 화합물, 및 ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시킨 후, 미반응 단량체를 제거하여 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 감도, 절연성, 내화학성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 투과도 및 저장안정성을 현저히 향상시켜 LCD 제조공정의 층간절연막을 형성하기에 적합하다.
층간절연막, 감광성 수지, 감도, 절연성, 내화학성, 투과도, 저장안정성, PAC, 바인더, 용매

64. 发明公开

KR1020120021488A 네가티브 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：负性光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120021488A
公开(公告)日：2012-03-09
申请号：KR1020100075050
申请日：2010-08-03
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 김동명 , 신홍대 , 김진선 , 이상훈 , 우창민
IPC分类号： G03F7/037 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/075 , G03F7/038 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/032 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/037 , G03F7/0757 , G03F7/0382
摘要： PURPOSE: A negative photo-sensitive resin composition, a display device pattern forming method using the same, and a display device including the pattern are provided to improve resolution, permeation, heat-resistance discoloration, and adhesive. CONSTITUTION: A negative photo-sensitive resin composition includes the following: 100 parts by weight of acryl-based copolymer, polyimide-based copolymer, siloxane-based copolymer, or the copolymer of the same; 0.1-30 parts by weight of a photo-initiator; and 0.1-30 parts by weight of a photo-sensitizer represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, the n is the integer of 1 to 10. The acryl-based copolymer is obtained by radical-polymerizing acryl monomers under an azo-initiator. The polyimide-based copolymer is obtained from diamine and dianhydride. The siloxane copolymer is obtained by hydrolyzing and condensating silane monomers under acid or base.
摘要翻译：目的：提供负光敏树脂组合物，使用其的显示装置图案形成方法和包括该图案的显示装置，以提高分辨率，渗透性，耐热变色性和粘合剂。构成：负型感光树脂组合物包括：100重量份的丙烯酸类共聚物，聚酰亚胺系共聚物，硅氧烷系共聚物或其共聚物; 0.1-30重量份的光引发剂; 和0.1-30重量份的由化学式1表示的光敏剂。在化学式1中，n为1至10的整数。丙烯酰基共聚物通过在偶氮 - 引发剂。聚酰亚胺基共聚物由二胺和二酐得到。硅氧烷共聚物通过在酸或碱下水解和缩合硅烷单体得到。

65. 发明授权

KR101068111B1 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101068111B1
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：KR1020050007725
申请日：2005-01-27
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 정의철 , 김병욱 , 김동민 , 윤혁민 , 여태훈 , 김동명 , 이호진 , 구기혁 , 윤주표 , 최상각
IPC分类号： G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅱ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, ⅲ) 올레핀계 불포화 화합물, 및 ⅳ) 실란계 단량체를 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 감도, 투과율, 절연성, 내화학성, 평탄성, 코팅성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 무기질 재료와의 접착성이 현저히 향상되어 LCD 제조공정의 층간절연막을 형성하기에 적합하다.
감광성 수지, 실란계 단량체, 접착성, 층간절연막

66. 发明公开

KR1020100062282A 전자종이 격벽형성용 조성물 审中-实审
标题翻译：电纸裱纸组合物
公开(公告)号：KR1020100062282A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080120842
申请日：2008-12-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤주표 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최상각 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G02F1/1339 , H01B3/18
CPC分类号： G02F1/167 , G02F2001/1672
摘要： PURPOSE: A composition for a partition wall for improving insulating characteristic, chemical resistive characteristic, and adhesion is provided to form an electronic paper partition wall by realizing a vertical pattern formation. CONSTITUTION: A composite for electronic paper partition wall includes an alkali fusible novolak resin, a photo-acid generator, a cross linking agent, and solvent. The alkali solubility novolak resin is 100 weight. The photo-acid generator is 0.5-10 weight. The crosslinking agent is 1-20 weight. According to the rate of the photo-acid generator, the photo-acid generator has the big influence about the sensitivity. The heat-proof characteristic of the barrier pattern is improved.
摘要翻译：目的：提供一种用于提高绝缘特性，耐化学电阻特性和粘附性的隔墙用组合物，通过实现垂直图案形成形成电子纸分隔壁。构成：用于电子纸分隔壁的复合材料包括碱溶性酚醛清漆树脂，光酸发生剂，交联剂和溶剂。碱溶性酚醛清漆树脂为100重量份。光酸发生器为0.5-10重量。交联剂为1-20重量份。根据光酸发生器的比例，光酸发生器对灵敏度影响很大。阻挡图案的耐热特性得到改善。

67. 发明公开

KR1020080105746A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020080105746A
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：KR1020070053737
申请日：2007-06-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 최상각 , 최수연 , 구기혁 , 윤주표 , 김동명 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁 , 김성탁 , 정대중
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： A photosensitive resin composition, a method for forming a display pattern by using the composition, and a display using the composition are provided to improve the productivity by reducing the processing time and toenhance impact resistanceby increasing the flexibility of film. A photosensitive resin composition comprises 0.1-10 wt% of at least one compound selected from dioctyl phthalate, diisononyl phthalate, dioctyl adipate, tricresyl phosphate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate as a sensitizer. Preferably the composition comprises 10-30 wt% of an acrylic copolymer; 1-20 wt% of 1,2-quinonediazide 5-sulfonic acid ester compound; 0.1-10 wt% of the sensitizer; and the balance of a solvent.
摘要翻译：提供一种光敏树脂组合物，通过使用该组合物形成显示图案的方法和使用该组合物的显示器，以通过减少处理时间并通过增加膜的柔性来提高抗冲击性来提高生产率。感光性树脂组合物包含0.1-10重量％的至少一种选自邻苯二甲酸二辛酯，邻苯二甲酸二异壬酯，己二酸二辛酯，磷酸三甲苯酯和作为增感剂的2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯的化合物。优选地，组合物包含10-30重量％的丙烯酸共聚物; 1-20重量％的1,2-醌二叠氮化物5-磺酸酯化合物; 0.1-10重量％的敏化剂; 和余量的溶剂。

68. 发明公开

KR1020080102838A 유기보호막 조성물 有权
标题翻译：有机钝化组合物
公开(公告)号：KR1020080102838A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：KR1020070049808
申请日：2007-05-22
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 구기혁 , 김동명 , 이동혁 , 여태훈 , 최상각 , 최수연 , 윤주표 , 신홍대 , 김성탁 , 이호진 , 정대중
IPC分类号： C09D123/00 , C09D133/08
CPC分类号： C09D133/04 , C09D5/00 , G02F1/13
摘要： An organic passivation composition is provided to ensure excellent adhesive force, insulating property and flatness at a low temperature curing step and to improve heat resistance and chemical resistance against solvent, acid or alkali in post-processing. An organic passivation composition comprises (a) 100 parts by weight of acrylic copolymer copolymerized with (i) 5 - 95 weight% of a compound and (ii) 5 or 95 weight% of olefin-based unsaturated compound capable of polymerizing with a compound of the chemical formula 1; (b) (i) 0.001-5 parts by weight of thermal initiator or (ii) 0.001-30 parts by weight of photoinitiator; (c) 1-80 parts by weight of acid anhydride compound; (d) 0.001-1 parts by weight of imidazole-based tertiary amine compound; and (e) an organic solvent to become 50 weight% of (a)~(d) based on an organic passivation composition. In the chemical formula 1, X is hydrogen or methyl radical.
摘要翻译：提供有机钝化组合物以确保在低温固化步骤中优异的粘合力，绝缘性能和平整度，并且在后处理中提高耐溶剂，酸或碱的耐热性和耐化学性。有机钝化组合物包含（a）100重量份与（i）5-95重量％的化合物共聚的丙烯酸共聚物和（ii）5或95重量％的能够与化合物化学式1; （b）（i）0.001-5重量份的热引发剂或（ii）0.001-30重量份的光引发剂; （c）1-80重量份的酸酐化合物; （d）0.001-1重量份的咪唑类叔胺化合物; 和（e）基于有机钝化组合物成为（a）〜（d）的50重量％的有机溶剂。在化学式1中，X是氢或甲基。

69. 发明公开

KR1020070091987A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020070091987A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：KR1020060021843
申请日：2006-03-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 윤혁민 , 이호진 , 윤주표 , 구기혁 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 신홍대 , 이동혁 , 김병욱 , 김성탁 , 최수연 , 조동호 , 정대중
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
摘要： A photosensitive resin composition is provided to show excellence in several performances including sensitivity, insulation and heat resistance, to improve the reliability and life at post-processing, to form patterns of two types of an insulator and a separator simultaneously, thereby reducing the time in processing. A photosensitive resin composition comprises (a) a polyhydroxy styrenic resin represented by the formula(1), wherein a and b represent a mole ratio between each monomers, a is 1 to 10, b is 0 to 9, and a+b=10, (b) a 1,2-quinonediazide compound (c) a photoacid generator (d) a melamine cross-linking agent represented by the formula(2), wherein each of R1 to R3 is independently an alkyl group having 1-4 carbon atoms, and each of R4 to R6 is independently a hydrogen group or an alkyl group having 1-4 carbon atoms; and (e) a solvent.
摘要翻译：提供感光性树脂组合物以显示灵敏度，绝缘和耐热性等几个性能的优异性，以提高后处理时的可靠性和寿命，同时形成两种类型的绝缘体和隔膜的图案，从而减少处理。感光性树脂组合物包含（a）由式（1）表示的多羟基苯乙烯类树脂，其中a和b表示各单体之间的摩尔比，a为1〜10，b为0〜9，a + b = 10 ，（b）1,2-醌二叠氮化合物（c）光致酸产生剂（d）由式（2）表示的三聚氰胺交联剂，其中R 1至R 3各自独立地为具有1-4个碳原子的烷基原子，R4〜R6各自独立地为氢或具有1-4个碳原子的烷基; 和（e）溶剂。

70. 发明公开

KR1020070044913A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：光敏树脂组合物
公开(公告)号：KR1020070044913A
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：KR1020050101224
申请日：2005-10-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 윤주표 , 정의철 , 김동명 , 최상각 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/022 , G03F7/027
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a)ⅰ) POSS (Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane) 함유 불포화 화합물, ⅱ) 불포화 카르본산, 불포화 카르본산 무수물, 또는 이들의 혼합물, ⅲ) 에폭시기 함유 불포화 화합물, 및 ⅳ) 올레핀계 불포화 화합물을 공중합시켜 얻어진 아크릴계 공중합체; b) 1,2-퀴논디아지드 화합물; 및 c) 용매를 포함하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 따른 감광성 수지 조성물은 현상 후 평탄도, 감도, 해상도, 내열성, 투명성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 상기 감광성 수지 조성물로 유기절연막을 제조할 경우 저 유전률 유기절연막을 가능하게 함으로써 소비전력을 낮출 수 있으며, Crosstalk을 줄여줄 수 있어, 다양한 Display 공정의 유기절연막에 적합하다.
POSS (Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane), Crosstalk, 소비전력, 저 유전율, Display
摘要翻译：本发明涉及一种感光性树脂组合物，特别是）ⅰ）POSS（多面体低聚倍半硅氧烷）包含不饱和化合物，ⅱ）不饱和羧酸，不饱和羧酸酐，或它们的混合物，ⅲ）的不饱和化合物，含有环氧基的和ⅳ ）通过共聚烯属不饱和化合物获得的丙烯酸类共聚物; b）1,2-醌二叠氮化合物; 和c）溶剂。

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