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51. 发明授权

KR100965549B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正性感光树脂组合物
公开(公告)号：KR100965549B1
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：KR1020080104871
申请日：2008-10-24
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 정두영 , 조현용 , 이종화 , 정지영 , 정민국 , 차명환 , 유용식 , 이길성
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 이 포지티브형 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 가지며, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 열중합성 관능기를 갖는 폴리벤조옥사졸 전구체(polybenzoxazole precursor); (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; (E) 하기 화학식 3으로 표현되는 반복단위를 포함하는 카도계 수지; 및 (F) 용매를 포함한다.
[화학식 1]

[화학식 3]

(상기 화학식 1 및 3에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)
포지티브형, 감광성 폴리벤조옥사졸 전구체 조성물, 용해조절제, 열중합 가교제, 알칼리 수용액, 반도체 장치

52. 发明公开

KR1020100045772A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正性感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020100045772A
公开(公告)日：2010-05-04
申请号：KR1020080104870
申请日：2008-10-24
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 정두영 , 정지영 , 정민국 , 유용식 , 이길성
IPC分类号： G03F7/039 , B82B3/00
CPC分类号： G03F7/039 , C08L79/08 , G03C1/61 , G03F7/0045 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0392 , G03F7/105
摘要： PURPOSE: A positive photosensitive resin composition is provided to improve the resolution, the residue elimination property, the pattern layout, the film uniformity, and the mechanical property including tensile strength and the elongation. CONSTITUTION: A positive photosensitive resin composition contains a polybenzoxazole precursor including a recurring unit marked as chemical formula 1, a photosensitive diazoquinone compound, a silane compound, a phenolic compound, a solvent and an inorganic material. The polybenzoxazole precursor includes the average molecular weight of 3,000~300,000. The inorganic material exists in a formed of a complex compounded with the polybenzoxazole precursor.
摘要翻译：目的：提供正型感光性树脂组合物以提高分辨率，残留物消除性，图案布局，膜均匀性以及包括拉伸强度和伸长率在内的机械性能。构成：正型感光性树脂组合物含有聚苯并恶唑前体，其包含标记为化学式1的重复单元，感光性重氮醌化合物，硅烷化合物，酚类化合物，溶剂和无机材料。聚苯并恶唑前体的平均分子量为3000〜30万。无机材料以与聚苯并恶唑前体复合的络合物形成。

53. 发明公开

KR1020100036110A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020100036110A
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：KR1020080095569
申请日：2008-09-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 정두영 , 유용식 , 정지영 , 이종화 , 정민국 , 이길성 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0751 , Y10S430/107
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive resin composition is provided to ensure high-sensitivity, high definition, excellent residue elimination, and good patterns and to maintain the balance of solid content and viscosity even with a small amount of polybenzoxazole precursor. CONSTITUTION: A positive type photosensitive resin composition comprises (A) 100.0 parts by weight of a polybenzoxazole precursor having a repeating unit represented by chemical formula 1, (B) 5 -100.0 parts by weight of photosensitive diazoquinone compound, (C) 0.1-30 parts by weight of a silane compound, (D) 10-100.0 parts by weight of polyamic acid ester compound, and (E) a solvent.
摘要翻译：目的：提供正型感光性树脂组合物，以确保高灵敏度，高分辨率，优异的残留物消除和良好的图案，并且即使使用少量的聚苯并恶唑前体也能保持固体含量和粘度的平衡。构成：正型感光性树脂组合物含有（A）100.0重量份具有化学式1所示重复单元的聚苯并恶唑前体，（B）5〜100.0重量份光敏重氮醌化合物，（C）0.1-30 重量份的硅烷化合物，（D）10-100.0重量份的聚酰胺酸酯化合物和（E）溶剂。

54. 发明授权

KR101400190B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
公开(公告)号：KR101400190B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100136757
申请日：2010-12-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 임미라 , 정민국 , 정지영 , 차명환 , 김정현 , 전환승
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
摘要： (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 랜덤공중합체 형태로 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
X
1 은 하기 화학식 30의 디아민 화합물로부터 유도된 것이고,
X
2 는 방향족 유기기 또는 2가의 지방족 유기기이고,
Y
1 및 Y
2 는 각각 독립적으로 방향족 유기기 또는 2가의 지방족 유기기이고,
m 및 n은 각각의 몰비율로서, m+n은 100몰%이고,
m은 1 내지 99몰%이고,
n은 1 내지 99몰%이다.
[화학식 30]

55. 发明授权

KR101400188B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：阳离子型感光性树脂组合物，使用阳离子型感光树脂组合物的感光性树脂层，以及包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR101400188B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100137875
申请日：2010-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 임미라 , 전환승 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
摘要： (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 랜덤공중합체 형태로 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
X
1 은 하기 화학식 30의 디아민 화합물로부터 유도된 것이고,
X
2 는 방향족 유기기 또는 4 내지 6가의 지방족 유기기이고,
Y
1 및 Y
2 는 각각 독립적으로 방향족 유기기 또는 2 내지 6가의 지방족 유기기이고,
m 및 n은 각각의 몰비율로서, m+n은 100몰%이고,
m은 1 내지 99몰%이고,
n은 1 내지 99몰%이다.
[화학식 30]

56. 发明授权

KR101400187B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：阳离子敏感性树脂组合物，使用其制备的感光树脂层和包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR101400187B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100139447
申请日：2010-12-30
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 정지영 , 정민국 , 이종화 , 임미라 , 조현용 , 차명환 , 전환승
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0751 , G03F7/40
摘要： (A) 화학식 1로 표시되는 반복단위 및 화학식 2로 표시되는 반복단위를 포함하고, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 열중합성 관능기를 갖는 제1 폴리벤조옥사졸 전구체를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.

57. 发明公开

KR1020130077466A 감광성 노볼락 수지, 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막 및 이를 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：光敏酚醛树脂，含有它们的正性感光树脂组合物，使用它们的感光树脂层和包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR1020130077466A
公开(公告)日：2013-07-09
申请号：KR1020110146190
申请日：2011-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이종화 , 조현용 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08G61/00
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G8/28 , C08G73/22 , C08L61/14 , C08L79/04 , G03F7/023 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , G03F7/0392 , C08G61/00 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/039 , H01L2924/00
摘要： PURPOSE: A photosensitivity novolak resin is provided to apply to a positive photosensitive resin composition as highly efficient photoresist to produce positive photosensitive resin composition with excellent sensitivity and high residual film rate. CONSTITUTION: A photosensitivity novolak resin comprises a structure unit of the following chemical formula 1 and a structure unit of the following chemical formula 2. The R^11 and the R^12 are independently hydrogen or a quinone diazide sulfonyl group. Fifty or more percent of the R^11 and the R^12 in the photosensitivity novolak resin is quinone diazide sulfonyl groups. The R^13 and the R^14 are Independently C1-7 alkyl groups. When the number of structure unit in the photosensitivity novolak resin is x and the number of structure unit in the chemical formula 2 is y, x+y is within the range of 2-30 and x / (x+y) is within the range of 0.6-0.95.
摘要翻译：目的：提供光敏性酚醛清漆树脂，以将正型感光性树脂组合物用作高效光刻胶，以产生具有优异的灵敏度和高残留膜率的正型感光性树脂组合物。构成：光敏酚醛清漆树脂包含以下化学式1的结构单元和下列化学式2的结构单元.R 11和R 12独立地为氢或醌二叠氮基磺酰基。光敏酚醛清漆树脂中R ^ 11和R ^ 12的百分之五十五是醌二叠氮基磺酰基。 R 13和R 14独立地是C 1-7烷基。当光敏酚醛清漆树脂中的结构单元数为x，化学式2中的结构单元数为y时，x + y在2-30范围内，x /（x + y）在范围内为0.6-0.95。

58. 发明授权

KR101182249B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101182249B1
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：KR1020080138912
申请日：2008-12-31
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이종화 , 유용식 , 조현용 , 정두영 , 정지영 , 정민국 , 이길성
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/075 , G03F7/004
摘要： 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 이 포지티브형 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1A로 표시되는 반복단위를 포함하거나 또는 하기 화학식 1A 및 1B의 반복단위를 포함하며, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 알케닐계 또는 (메타)아크릴계 관능기를 포함하는 유기기를 갖는 폴리벤조옥사졸 전구체(polybenzoxazole precursor); (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란계 화합물; (D) 용해 조절제; (E) 하기 화학식 2 또는 3으로 표시되는 화합물 또는 이들의 혼합물; 및 (F) 용제를 포함한다.
[화학식 1A]

[화학식 1B]

[화학식 2]

[화학식 3]

(상기 화학식 1A, 1B, 2, 및 3에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)
본 발명의 포지티브형 감광성 수지 조성물은 열경화시 가교 효과가 향상되어 반도체 보호막으로서 열적, 기계적, 전기적 특성이 우수하며, 동시에 고감도 및 고해상도를 나타내며, 패턴 형상이 양호하고, 우수한 잔여물 제거성을 얻을 수 있다.
포지티브형, 감광성 폴리벤조옥사졸 전구체 조성물, 용해조절제, 열중합 가교제, 알칼리 수용액, 반도체 장치

59. 发明公开

KR1020120074811A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：阳离子型感光性树脂组合物，使用阳离子型感光树脂组合物的感光树脂层，以及包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR1020120074811A
公开(公告)日：2012-07-06
申请号：KR1020100136758
申请日：2010-12-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 임미라 , 전환승 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0163 , G03F7/0166 , G03F7/0397 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition, a photo-sensitive resin film using the same, and a semiconductor device including the photo-sensitive resin film are provided to secure low development shrinkage rate and low curing shrinkage rate. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes a polybenzoxazole precursor with a repeating unit in the form of random copolymer, a photo-sensitive diazoquinone compound, a silane compound, a phenol compound, and a solvent. The repeating unit is represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, X1 and X2 are respectively aromatic organic groups or tetravalent to hexavalent aliphatic organic groups; Y1 is an aromatic organic group or a divalent to hexavalent aliphatic organic group; Y2 is represented by chemical formula 7; m and n are molar ratios, and the sum of m and n is 100 mol%; m is 0 to 99 mol%; and n is 1 to 100 mol%. In chemical formula 7, A3 is a phenylene group, a naphthalene group, or an anthracenylene group; and both bonding parts are bonded in chemical formula 1 to the forward direction from A3 to indoline or to the reverse direction from indoline to A3.
摘要翻译：目的：提供正型感光树脂组合物，使用其的感光树脂膜和包含感光树脂膜的半导体装置，以确保低显影收缩率和低固化收缩率。构成：正型感光树脂组合物包括具有无规共聚物形式的重复单元的聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂。重复单元由化学式1表示。在化学式1中，X 1和X 2分别是芳族有机基团或四价至六价脂族有机基团; Y1是芳族有机基团或二价至六价脂族有机基团; Y2由化学式7表示; m和n是摩尔比，m和n的总和是100mol％; m为0〜99摩尔％。 n为1〜100摩尔％。在化学式7中，A3是亚苯基，萘基或亚蒽基; 并且两个结合部分以化学式1从A3向二氢吲哚或从吲哚啉到A3的相反方向从正向连接。

60. 发明公开

KR1020110076492A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020110076492A
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：KR1020090133229
申请日：2009-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이정우 , 유용식 , 조현용 , 정지영 , 정두영 , 이종화 , 정민국 , 차명환 , 전환승
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0755
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition, a photo-sensitive resin film using the same, a semiconductor device including the same are provided to minimize the thickness reduction of the film by maximizing the dissolution suppressive effect of a non-exposing part. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes a resin precursor, a dissolution controlling agent, an acid generator, a silane-based compound, and a solvent. The resin precursor is selected from a polybenzoxazole precursor, polyamic acid, or the combination of the same. The polarity of the dissolution controlling agent is between 1 and 4D, and the boiling point of the dissolution controlling agent is between 210 and 400 degrees Celsius. The polybenzoxazole precursor includes a repeating unit which is represented by chemical formula 1 or both repeating units represented by the chemical formula 1 and chemical formula 2. In the chemical formula 1 and 2, the X1 is an aromatic organic group or tetravalent to hexavalent aliphatic organic group. The Y1 and the Y2 are identical or different and are respectively aromatic organic groups or bivalent to hexavalent aliphatic organic groups. The X2 is an aromatic organic group, bivalent to hexavalent aliphatic organic group, bivalent to hexavalent alicyclic organic group, or an organic group represented by chemical formula 3.
摘要翻译：目的：提供一种正型感光树脂组合物，使用其的感光树脂膜，包括该光敏树脂膜的半导体器件，以使非曝光部分的溶解抑制效果最大化来最小化膜的厚度减小。构成：正型感光树脂组合物包括树脂前体，溶解控制剂，酸产生剂，硅烷类化合物和溶剂。树脂前体选自聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸或其组合。溶解控制剂的极性在1和4D之间，溶解控制剂的沸点在210-400℃之间。聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元或由化学式1和化学式2表示的两个重复单元。在化学式1和2中，X1是芳族有机基团或四价至六价脂族有机基团组。 Y1和Y2相同或不同，分别为芳族有机基团或二价至六价脂族有机基团。 X 2为芳香族有机基团，二价至六价脂肪族有机基团，二价至六价脂环族有机基团或由化学式3表示的有机基团。

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