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51. 发明授权

KR102098530B1 블록 코폴리머 함유 조성물 및 패턴의 축소 방법 有权
公开(公告)号：KR102098530B1
公开(公告)日：2020-04-07
申请号：KR1020190060157
申请日：2019-05-22
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 센자키다카히로 , 미야기겐 , 미야시타겐이치로
IPC分类号： C08L53/00 , B05D5/00 , C08L25/14 , C08L33/04 , G03F7/004

52. 发明公开

KR1020160132772A 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법, 블록 코폴리머 조성물 및 블록 코폴리머 조성물에 사용하는 유기 용제 审中-实审
标题翻译：生产包含相分离结构嵌段共聚物组合物和用于嵌段共聚物组合物的有机溶剂的结构的方法
公开(公告)号：KR1020160132772A
公开(公告)日：2016-11-21
申请号：KR1020160056547
申请日：2016-05-09
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 야마노히토시 , 마츠미야다스쿠 , 구로사와츠요시 , 히라야마다쿠 , 미야기겐 , 오모리가츠미
IPC分类号： C08J5/18 , C08J11/02 , C08L25/08 , H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , G03F7/0002 , H01L21/0271
摘要： 지지체상에, 폴리스티렌또는폴리스티렌유도체로이루어지는블록과, 다른 1 종류이상의블록이결합된블록코폴리머와, 유기용제성분 (S) 를함유하는블록코폴리머조성물을도포하여, 블록코폴리머를포함하는층을형성하는공정 A 와, 상기블록코폴리머를포함하는층을상 분리시키는공정 B 를포함하고, 상기유기용제성분 (S) 의한센용해도파라미터와상기폴리스티렌또는폴리스티렌유도체의한센용해도파라미터의상호작용간거리 Ra(㎫) 의값이, 이하의식 (1) 을만족하는것을특징으로하는상 분리구조를포함하는구조체의제조방법. [수학식 1]

53. 发明公开

KR1020150035406A 상 분리 구조를 포함하는 구조체의 제조 방법 및 블록 코폴리머 조성물 审中-实审
标题翻译：生产包含相分离结构的结构的方法和嵌段共聚物组合物
公开(公告)号：KR1020150035406A
公开(公告)日：2015-04-06
申请号：KR1020140124776
申请日：2014-09-19
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 미야기겐 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： C09D153/00 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08G77/045 , C08G77/442 , C09D183/10 , G03F7/0002 , H01L21/0271 , C08L53/00
摘要： 기판상에, 중성화막을도포하고, 그중성화막으로이루어지는층을형성하는공정과, 상기중성화막으로이루어지는층 상에, 주기가상이한복수종류의블록코폴리머의혼합물을함유하는층을형성하는공정과, 당해블록코폴리머의혼합물을함유하는층을상 분리시키는공정을갖는것을특징으로하는상 분리구조를포함하는구조체의제조방법.
摘要翻译：一种制备含有相分离结构的结构的方法和嵌段共聚物组合物。该方法包括在基板上喷涂中和层以形成层的方法，在该层上形成包含不同种类的嵌段共聚物组合物的层的方法以及使包含嵌段共聚物组合物的层相分离的方法。

54. 发明公开

KR1020140104374A 하지제 및 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译： UNDERCOAT代理和形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020140104374A
公开(公告)日：2014-08-28
申请号：KR1020140019037
申请日：2014-02-19
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 구로사와츠요시 , 시오노다이주 , 미야기겐 , 마츠미야다스쿠 , 미야시타겐이치로 , 오모리가츠미
IPC分类号： C09D4/00 , C09D4/02
CPC分类号： C09D201/02 , B05D3/0254 , B05D7/24
摘要： Provided are: an undercoat agent capable of manufacturing a substrate provided with a nanostructure of which position and orientation are designed more freely on the surface of the substrate by using the phase separation of a block copolymer, and simply and differentially used by block copolymer species used; and a method of forming a pattern of a layer including a block copolymer using the undercoat agent. For such, an undercoat agent is used for the phase separation of a layer including a block copolymer combined with various kinds of blocks formed on a substrate. The undercoat agent includes a resin component, and the resin component includes at least 90 mol% of a composing unit derived from a monomer containing an aromatic ring and at most 5 mol% of a composing unit derived from methacrylic acid or methacrylic acid ester.
摘要翻译：提供：能够制造具有纳米结构的基材的底涂剂，其通过使用嵌段共聚物的相分离在基材的表面上更自由地设计位置和取向，并且通过使用的嵌段共聚物种类简单且差异地使用 ; 以及使用该底涂层形成包含嵌段共聚物的层的图案的方法。为此，使用底涂剂进行相分离，该层包括与形成在基材上的各种嵌段结合的嵌段共聚物。底涂剂包括树脂组分，并且树脂组分包含衍生自含有芳环的单体和至多5mol％由甲基丙烯酸或甲基丙烯酸酯衍生的组成单元的组成单元的至少90mol％。

55. 发明公开

KR1020140007797A 가이드 패턴 형성용 네거티브형 현상용 레지스트 조성물, 가이드 패턴 형성 방법, 블록 코폴리머를 포함하는 층의 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：用于形成指南图案，指南图案形成方法和形成含有嵌段共聚物层的图案的方法的负面发展的抗蚀组合物
公开(公告)号：KR1020140007797A
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：KR1020137009201
申请日：2011-10-05
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 , 고쿠리쓰 겐큐 가이하쓰 호징 리가가쿠 겐큐소
发明人： 센자키다카히로 , 다자이다카히로 , 미야기겐 , 후지카와시게노리 , 고이즈미마리 , 하야카와하루미
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/038 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/165 , G03F7/325 , G03F7/40 , G03F7/422 , G03F7/0047 , G03F7/0382
摘要： 기재 성분 (A) 및 산 발생제 성분 (B) 를 함유하고, 상기 기재 성분 (A) 는 락톤 함유 고리형기를 포함하는 아크릴산에스테르로부터 유도되는 구성 단위, 에테르 함유 고리형기를 포함하는 아크릴산에스테르로부터 유도되는 구성 단위, 및 카보네이트 함유 고리형기를 포함하는 아크릴산에스테르로부터 유도되는 구성 단위로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 구성 단위 (a2) 와, 산 해리성기를 포함하는 아크릴산에스테르로부터 유도되는 구성 단위 (a1) 을 갖는 수지 성분 (A1) 을 함유하고, 상기 산 발생제 성분 (B) 는 하기 일반식 (b1) 또는 (b2) 중 어느 것으로 나타내는 적어도 1 종의 화합물로 이루어지는 산 발생제 (B1) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 가이드 패턴 형성용 네거티브형 현상용 레지스트 조성물.

56. 发明公开

KR1020090055487A 층간 절연막용 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：中间层绝缘膜的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020090055487A
公开(公告)日：2009-06-02
申请号：KR1020080117869
申请日：2008-11-26
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 나카오다쿠 , 미야기겐 , 스기모토야스아키
IPC分类号： G03F7/075
CPC分类号： G03F7/075 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0758
摘要： A photosensitive resin composition for an interlayer insulation film is provided to increase the insulation of an interlayer insulating film by using a specific structure of an alkali soluble resin component. A photosensitive resin composition for an interlayer insulation film comprises an alkali soluble resin component; a sensitizer; and a copolymer containing an acidic group-containing component, a crosslinking group-containing component and an alkoxysilyl group-containing component. The alkoxysilyl group-containing component is represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, R4 is hydrogen atom or methyl; R5 is C1-5 alkylene group; R6, R7 and R8 which are identical or different represent C1-5 alkoxy or alkyl group; and at least one of R6, R7 and R8 is an alkoxy group.
摘要翻译：提供了一种用于层间绝缘膜的光敏树脂组合物，通过使用碱溶性树脂组分的特定结构来增加层间绝缘膜的绝缘。用于层间绝缘膜的感光性树脂组合物包含碱溶性树脂成分; 敏化剂和含有酸性基团的组分，含交联基团的组分和含烷氧基甲硅烷基的组分的共聚物。含有烷氧基甲硅烷基的组分由化学式1表示。在化学式1中，R 4为氢原子或甲基; R5是C1-5亚烷基; R6，R7和R8相同或不同，表示C1-5烷氧基或烷基; 且R 6，R 7和R 8中的至少一个为烷氧基。

57. 发明公开

KR1020090010898A 액정 소자 제조용 포지티브형 포토 레지스트 조성물 및레지스트 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：用于生产液晶元件和电阻图案形成方法的正极性组合物
公开(公告)号：KR1020090010898A
公开(公告)日：2009-01-30
申请号：KR1020080069982
申请日：2008-07-18
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 가세유미코 , 스즈키시게루 , 미야기겐
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/004 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392
摘要： A positive photoresist composition for a liquid crystal device, and a method for forming a resist pattern by using the composition are provided to improve the uniformity of the thickness of a resist film. A positive photoresist composition for a liquid crystal device comprises an alkali-soluble novolac resin; a compound having a naphthoquinone diazide group; an organic solvent; and a fluorine-based surfactant having an alkylene oxide chain containing a group represented by the formula 1, wherein Ef is a C1-C6 fluoroalkyl group; and R11 is a C1-C5 alkylene group or a single bond.
摘要翻译：提供一种用于液晶装置的正性光致抗蚀剂组合物，以及通过使用该组合物形成抗蚀剂图案的方法，以提高抗蚀剂膜的厚度的均匀性。用于液晶装置的正性光致抗蚀剂组合物包括碱溶性酚醛清漆树脂; 具有萘醌二叠氮基的化合物; 有机溶剂; 和含有式1所示基团的烯化氧链的氟系表面活性剂，其中Ef为C1-C6氟代烷基; R11为C1-C5亚烷基或单键。

58. 发明授权

KR100808427B1 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：化学放大型积极光电组合物
公开(公告)号：KR100808427B1
公开(公告)日：2008-02-29
申请号：KR1020050084764
申请日：2005-09-12
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 다치도시아키 , 미야기겐 , 스즈키다카코
IPC分类号： G03F7/004
摘要： 이 포토레지스트 조성물은 1 개의 기판 상에 집적 회로와 액정 디스플레이 부분이 형성된 기판 제조용의 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물로서, 전체 페놀성 수산기의 적어도 일부가 산해리성 용해 억제기로 보호된 노볼락 수지 (A-1), 전체 페놀성 수산기의 적어도 일부가 산해리성 용해 억제기로 보호된 폴리히드록시스티렌 수지 (A-2), 및 방사선 조사에 의해 산을 발생하는 산발생제 (B) 를 유기 용제에 용해하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물이다.

59. 发明公开

KR1020060045809A 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물 有权
标题翻译：化学放大的正型光刻胶组合物
公开(公告)号：KR1020060045809A
公开(公告)日：2006-05-17
申请号：KR1020050031848
申请日：2005-04-18
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 미야기겐 , 다치도시아키 , 니이쿠라사토시
IPC分类号： G03F7/038
摘要： 고온 가열 처리시에 레지스트 패턴 형상이 변형되지 않고, 승화물의 발생도 적은, 내열성이 우수한 포토레지스트 조성물이 제공된다. 이 조성물은, (A) 수지 성분과, (C) 방사선의 조사에 의해 산 성분을 발생하는 화합물과, 유기 용제를 함유하고, 상기 (C) 성분으로부터 발생되는 산 성분의 작용에 의해, 알칼리 수용액에 대한 용해성이 증대되는 성질을 갖는 화학 증폭형 포지티브형 포토레지스트 조성물로서, 상기 (A) 성분이, 알칼리 가용성 노볼락 수지의, 전체 페놀성 수산기의 일부를 산해리성 용해 억제기로 보호하여 이루어지는 알칼리 난용성 또는 불용성 수지에, 저분자량체를 분별 제거하는 처리를 실시하여 얻어지는 수지 성분 (a1) 을 포함한다.
摘要翻译：抗蚀剂图案形状没有在高温热处理的时间而变形，产生水升华的，还提供优异的耐热性小，光致抗蚀剂组合物。组合物中，（A）的树脂组分，和（C）通过酸的作用，其生成由与放射线照射的酸成分，和含有有机溶剂，这是从组分（C）中产生的化合物，碱性水溶液在作为用于化学放大型正光刻胶组合物，其具有的溶解度增加的特性，其中组分（a）中，碱溶性酚醛清漆树脂，通过保护总酚性羟基的一部分用酸解离性溶解抑制基我所形成的碱（A1）是通过将可溶或不可溶树脂进行分级除去低分子量物质的处理而获得的。

60. 发明授权

KR100490763B1 노볼락 수지, 그 제조방법 및 이것을 사용한 포지티브형포토레지스트 조성물 失效
标题翻译： NOVOLAK树脂，其生产工艺及使用NOVOLAK树脂的正极光电组合物
公开(公告)号：KR100490763B1
公开(公告)日：2005-05-19
申请号：KR1020020025353
申请日：2002-05-08
申请人： 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤
发明人： 가따노아끼라 , 하기하라미쯔오 , 미야기겐 , 다찌도시아끼
IPC分类号： G03F7/023
CPC分类号： C08L61/14 , C08G8/04 , C08G8/28 , C08L61/06
摘要： (과제) 하프미크론 이하의 초미세한 레지스트 패턴을 형성하는 경우에도 감도, 해상성, 쇼트 마진 및 패턴형상의, 모든 특성을 만족시키는 포지티브형 포토레지스트 조성물을 제공하는 것. 또, 상기 조성물에 적합한 노볼락 수지 및, 그 제조방법을 제공하는 것.
(해결수단) (Ⅰ) 산촉매의 존재하에, m-크레졸과 프로피온알데히드를 배합하고, 1 차 반응을 실시하여, Mw 가 200 내지 500 이고, 분산도 (Mw/Mn) 가 1.7 이하인 중합체를 합성하고, (Ⅱ) 상기 중합체에 3,4-자일레놀 및 포름알데히드를 배합하고, 2 차 반응을 실시하여, Mw 가 1,000 내지 20,000 의 노볼락 수지를 합성한다. 이 노볼락 수지와 특정 감광성분을 배합하여 조성물을 얻는다.

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