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41. 发明公开

KR1020110074099A 인라인 스퍼티링 시스템의 스퍼터링 장치 无效
标题翻译：在线式喷雾系统的在线式喷射装置
公开(公告)号：KR1020110074099A
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：KR1020090130967
申请日：2009-12-24
申请人： 주식회사 삼광 , (주)에스아이티
发明人： 김진우 , 김근호 , 박정호 , 최진영 , 오세일 , 김철원 , 김권원 , 서호석
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C23C14/568
摘要： PURPOSE: An in-line sputtering device of an in-line sputtering system is provided to manufacture a target by controlling the rotation number of a sputtering device and depositing it without passing a sputtering process chamber. CONSTITUTION: In an in-line sputtering device of an in-line sputtering system, a bogie(10) is comprised of a base, a pair of rails(14), and a pinion gear(15). The base is supported by the inner bottom of a chamber(11). A gear post(26) includes a rack gear which is formed in the lower part of a roller and a roller shift. A motor(31) gives a driving force to a chain(32). The chain rotates the gear by the rotation force which is transferred from a motor.
摘要翻译：目的：提供在线溅射系统的在线溅射装置，通过控制溅射装置的旋转数量并在不通过溅射处理室的情况下进行沉积来制造目标。构成：在直列溅射系统的在线溅射装置中，转向架（10）由基座，一对轨道（14）和小齿轮（15）组成。底座由腔室（11）的内底部支撑。齿轮柱（26）包括齿轮，其形成在辊的下部和辊移。电动机（31）向链条（32）施加驱动力。链条通过从电动机传递的旋转力来旋转齿轮。

42. 发明公开

KR1020110040894A 자기 저항 소자의 제조 방법, 그 제조 방법에 이용되는 기억 매체 无效
标题翻译：制造磁性元件的方法和制造方法中使用的储存介质
公开(公告)号：KR1020110040894A
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：KR1020117003015
申请日：2009-08-31
申请人： 캐논 아네르바 가부시키가이샤
发明人： 츠네카와고지 , 나가미네요시노리 , 야마가타신지
IPC分类号： H01L43/08 , H01L21/8239
CPC分类号： H01L43/08 , C23C14/081 , C23C14/225 , C23C14/3414 , C23C14/568 , H01L43/12
摘要： 종래보다 높은 MR비를 가진 자기 저항 소자의 제조 방법을 제공한다.
기판 상에, 자화 고정층, 자화 자유층, 및 상기 자화 고정층과 상기 자화 자유층 사이에 위치하는 터널 배리어층을 성막하는 공정을 갖는 자기 저항 소자의 제조 방법에 있어서, 기판의 직경보다 직경이 작고, 산화마그네슘 소결체를 함유한 상대 밀도 90% 이상의 타깃을, 기판의 피성막면을 향해 경사시키고, 기판을 회전시키면서 스퍼터링법에 의해 산화마그네슘층을 성막하여, 터널 배리어층을 형성한다.

43. 发明公开

KR1020110016769A 대량생산 시스템의 줄 가열을 이용한 증착 장치 및 방법 有权
标题翻译：装置和方法通过加热沉淀
公开(公告)号：KR1020110016769A
公开(公告)日：2011-02-18
申请号：KR1020090074437
申请日：2009-08-12
申请人： 주식회사 엔씰텍
发明人： 노재상 , 홍원의
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C23C14/26 , C23C14/568 , H01L21/2855 , H01L21/324
摘要： PURPOSE: A deposition apparatus and a method thereof using the joule heating are provided to be suitable for the mass production by implementing the deposition process in short time by enabling the continuous deposition. CONSTITUTION: A source substrate(10) comprises a conductive layer(21) formed in pattern to be deposited and a deposition target layer(31) to cover the conductive layer. A target substrate(50) is arranged to be faced with the source substrate. A transport unit loads and unloads the source substrate and the target substrate to and from the chamber.
摘要翻译：目的：提供使用焦耳加热的沉积设备及其方法，以通过实现连续沉积在短时间内实施沉积工艺而适合于批量生产。构成：源极衬底（10）包括以待沉积的图案形成的导电层（21）和覆盖导电层的沉积靶层（31）。目标衬底（50）被布置成面对源极衬底。运输单元将源基板和目标基板装载和卸载到室中。

44. 发明公开

KR1020100137723A 스퍼터 장치 有权
标题翻译：装置到喷头
公开(公告)号：KR1020100137723A
公开(公告)日：2010-12-31
申请号：KR1020090055914
申请日：2009-06-23
申请人： 주식회사 에스에프에이
发明人： 전종진 , 김정희 , 정홍기 , 신상호 , 김영민
IPC分类号： H01L21/203
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/566 , C23C14/568 , H01L21/67201 , H01L21/67706
摘要： PURPOSE: A sputtering apparatus is provided to improve the uniformity of heat emitted from a heater to a substrate by arranging a heat radiating plate on the upper side of the heater. CONSTITUTION: Target is combined with an upper region in the internal space of a chamber body(110). The target functions as sputtering source supplying a deposition material to a substrate(G). A heater(130) heats a substrate by being combined with a lower region in the internal space of the chamber body. A substrate transferring unit(140) includes a substrate transferring part(141) supporting both sides of the substrate. A plurality of sagging preventive parts(151) partially supports the rear side of the substrate.
摘要翻译：目的：提供一种溅射装置，通过在加热器的上侧设置散热板来提高从加热器发射到基板的热均匀性。构成：目标与室主体（110）的内部空间中的上部区域结合。该靶作为将沉积材料供给到基板（G）的溅射源。加热器（130）通过与室主体的内部空间中的下部区域结合来加热基板。基板转印单元（140）包括支撑基板两侧的基板转印部（141）。多个下垂防止部（151）部分地支撑基板的后侧。

45. 发明授权

KR100995109B1 제조장치 有权
标题翻译：制造设备
公开(公告)号：KR100995109B1
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：KR1020030050827
申请日：2003-07-24
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이 , 무라카미마사카즈
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： H01L21/67253 , C23C14/042 , C23C14/243 , C23C14/568 , H01L21/67161 , H01L21/67167 , H01L21/67184 , H01L21/67236 , H01L21/67745 , H01L51/0004 , H01L51/001 , H01L51/56
摘要： 본 발명은, EL 재료의 이용효율을 높이고, 또한, EL층 막형성의 균일성과 스루풋이 뛰어난 막형성장치의 하나인 증착장치 및 증착방법을 제공한다. 본 발명은, 증착 동안에, 증착재료가 봉입된 용기를 설치한 증착원 홀더가, 기판에 대하여 소정 피치로 이동하는 것을 특징으로 한다. 또한, 막두께 모니터도 증착원 홀더와 일체화되어 이동한다. 또한, 막두께 모니터로 측정된 값에 따라서 증착원 홀더의 이동속도도 조절함으로써, 막두께를 균일하게 한다.

제조장치, 막형성장치, 막두께 모니터, 증착원 홀더, 용기

46. 发明授权

KR100991174B1 증착방법, 증착장치 및 발광장치의 제조방법 有权
标题翻译：蒸发方法，蒸发装置和制造发光装置的方法
公开(公告)号：KR100991174B1
公开(公告)日：2010-11-02
申请号：KR1020030031311
申请日：2003-05-16
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이 , 무라카미마사카즈
IPC分类号： H05B33/10
CPC分类号： C23C14/00 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/564 , C23C14/568 , H01L51/001 , H05B33/10
摘要： 본 발명은, EL 재료의 이용효율을 높이고, 또한, EL층 막형성의 균일성이나 스루풋이 뛰어난 막형성장치의 하나인 증착장치 및 증착방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명은, 대면적 기판에 대하여, 효율적으로 EL 재료를 증착하는 방법을 제공하는 것이다. 게다가, 본 발명은, EL 재료에의 불순물 혼입을 피하는 것이 가능한 시스템을 제공한다. 본 발명의 증착장치는, 기판과 증착원이 상대적으로 이동하는 것을 특징으로 한다. 즉, 본 발명은, 증착 내에서, 증착재료가 봉입된 용기를 설치한 증착원 홀더가, 기판에 대하여 특정 피치로 이동하는, 또는 증착원에 대하여 기판이 특정 피치로 이동하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은, 용기에 정제한 증착재료를 봉입하고, 반송 후, 그 용기를 직접 막형성장치인 증착장치에 설치하여, 증착을 행하는 것을 특징으로 한다.

발광장치, 증착장치, EL층, 증착원 홀더, 용기, 전자기기

47. 发明授权

KR100991173B1 증착방법 및 증착장치 有权
标题翻译：蒸发方法和蒸发装置
公开(公告)号：KR100991173B1
公开(公告)日：2010-11-02
申请号：KR1020090122228
申请日：2009-12-10
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이 , 무라카미마사카즈
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/56 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/00 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/564 , C23C14/568 , H01L51/001 , H05B33/10
摘要： 본 발명은, EL 재료의 이용효율을 높이고, 또한, EL층 막형성의 균일성이나 스루풋이 뛰어난 막형성장치의 하나인 증착장치 및 증착방법을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명은, 대면적 기판에 대하여, 효율적으로 EL 재료를 증착하는 방법을 제공하는 것이다. 게다가, 본 발명은, EL 재료에의 불순물 혼입을 피하는 것이 가능한 시스템을 제공한다. 본 발명의 증착장치는, 기판과 증착원이 상대적으로 이동하는 것을 특징으로 한다. 즉, 본 발명은, 증착 내에서, 증착재료가 봉입된 용기를 설치한 증착원 홀더가, 기판에 대하여 특정 피치로 이동하는, 또는 증착원에 대하여 기판이 특정 피치로 이동하는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명은, 용기에 정제한 증착재료를 봉입하고, 반송 후, 그 용기를 직접 막형성장치인 증착장치에 설치하여, 증착을 행하는 것을 특징으로 한다.
발광장치, 증착장치, EL층, 증착원 홀더, 용기, 전자기기

48. 发明授权

KR100984965B1 스퍼터링 장치 및 성막 방법 有权
标题翻译：溅射装置和成膜工艺
公开(公告)号：KR100984965B1
公开(公告)日：2010-10-04
申请号：KR1020077026218
申请日：2006-10-05
申请人： 울박, 인크
发明人： 타카사와,사토루 , 우키시마,사다유키 , 타니,노리아키 , 이시바시,사토루
IPC分类号： C23C14/35 , C23C14/34 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/086 , C23C14/568 , H01J37/3266 , H01J37/32752 , H01J37/34 , H01J37/3408 , H01J37/347
摘要： 타겟의 사용 효율이 높은 스퍼터링 장치를 제공한다. 본 발명의 스퍼터링 장치(1)는 이동 수단(28a, 28b)을 가지고 있으며, 제 1, 제 2 자석 부재(23a, 23b)는 이동 수단(28a, 28b)에 의해 제 1, 제 2 타겟(21a, 21b)의 표면과 평행한 면 내에서 이동 가능하게 구성되어 있다. 제 1, 제 2 자석 부재(23a, 23b)가 이동하면, 자력선도 이동하고, 제 1, 제 2 타겟(21a, 21b) 표면의 고침식(high erosion) 영역도 이동하기 때문에, 제 1, 제 2 타겟(21a, 21b) 표면의 넓은 영역이 스퍼터링된다.
타겟, 스퍼터링, 자석부재, 침식, 이동수단, 진공조

49. 发明公开

KR1020100105473A 조명 장치 제조 장치 및 제조 방법 有权
标题翻译：照明装置的制造装置和制造方法
公开(公告)号：KR1020100105473A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：KR1020100023788
申请日：2010-03-17
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/12 , C23C14/22 , C23C14/24 , C23C14/56 , H01L51/00 , H01L51/50 , B29C65/78 , B29C65/00
CPC分类号： H01L51/001 , B29C65/7844 , B29C65/7879 , B29C66/00145 , B29C66/452 , C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/246 , C23C14/566 , C23C14/568 , H01L51/5036 , H01L51/56
摘要： PURPOSE: An apparatus and a method for manufacturing a light illuminating device are provided to rapidly or continuously deposit films by including a plurality of film deposition chambers in a vacuum chamber. CONSTITUTION: A film deposition chamber(117) deposits a first electrode on a substrate. Film deposition chambers(119A to 119C) deposit a first light emitting unit with a light emitting layer on the first electrode. Film deposition chambers(121A, 121B) deposit an intermediate layer on the first light emitting unit. Film deposition chambers(123A to 123D) deposit a second light emitting unit with a light emitting layer on the intermediate layer. A film deposition chamber(125) deposits a second electrode on the second light emitting unit. A film deposition chamber deposits a sealing film on a substrate with the second electrode.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造光照明装置的装置和方法，以通过在真空室中包括多个成膜室来快速或连续地沉积膜。构成：成膜室（117）将第一电极沉积在基板上。成膜室（119A〜119C）在第一电极上沉积具有发光层的第一发光单元。成膜室（121A，121B）在第一发光单元上沉积中间层。成膜室（123A〜123D）在中间层上沉积有发光层的第二发光单元。成膜室（125）将第二电极沉积在第二发光单元上。成膜室用第二电极在基板上沉积密封膜。

50. 发明公开

KR1020100076067A 플라즈마 소스 기구 및 성막 장치 有权
标题翻译：等离子体源机构和膜形成装置
公开(公告)号：KR1020100076067A
公开(公告)日：2010-07-05
申请号：KR1020107012794
申请日：2008-12-12
申请人： 가부시키가이샤 알박
发明人： 마츠모토다카후미 , 스즈키도시히로 , 나카무타유우 , 마츠모토마사히로 , 구보마사시
IPC分类号： H05H1/46 , C23C14/58
CPC分类号： H05H1/46 , C23C14/568 , C23C14/5826 , H01J37/321 , H01J37/3266
摘要： Provided is a plasma processing technology which makes it possible to generate plasma of a large area with excellent repeatability, is applicable to various purposes and uses a low-cost plasma source. Specifically, a plasma source mechanism (1) is applicable to a vacuum apparatus (21) having a vacuum chamber (20), and the plasma source mechanism is provided with an antenna section (12), which is disposed outside a vacuum tank (20) through a dielectric section (10) and permits high frequency power to be applied; and a magnet section (11) which is disposed in the vicinity of the antenna section (12) outside the vacuum chamber (20) through the dielectric section (10) and has a rectangular shape that corresponds to the antenna section (12). In the antenna section (12), first and second antenna coils (14, 15) are adjacently disposed, and the first and the second antenna coils (14, 15) are connected in parallel to each other.
摘要翻译：提供了能够以优异的重复性产生大面积的等离子体的等离子体处理技术，适用于各种目的，并且使用低成本的等离子体源。具体而言，等离子体源机构（1）适用于具有真空室（20）的真空装置（21），等离子体源机构设置有天线部（12），其设置在真空槽（20）的外侧）通过介电部分（10），并允许施加高频功率; 以及通过介电部分（10）设置在真空室（20）外部的天线部分（12）附近的磁体部分（11），并且具有对应于天线部分（12）的矩形形状。在天线部分（12）中，相邻地布置第一和第二天线线圈（14,15），并且第一和第二天线线圈（14,15）彼此并联连接。

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