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    • 50. 发明公开
    • 반도체 장치
    • 半导体器件
    • KR1020140036335A
    • 2014-03-25
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    • H01L21/8238
    • H01L29/7869H01L21/84H01L27/0688H01L27/1207H01L27/1225
    • 본 발명의 목적은 새로운 구조를 갖는 반도체 장치를 제공하는 데 있다. 개시된 내용은, 반도체 재료를 함유하는 기판에 있는 채널 형성 영역, 채널 형성 영역이 그 사이에 개재되도록 형성된 불순물 영역들, 채널 형성 영역 위의 제1 게이트 절연층, 제1 게이트 절연층 위의 제1 게이트 전극, 및 불순물 영역에 전기적으로 접속하는 제1 소스 전극 및 제1 드레인 전극을 포함하는 제1 트랜지스터; 및 반도체 재료를 함유하는 기판 위의 제2 게이트 전극, 제2 게이트 전극 위의 제2 게이트 절연층, 제2 게이트 절연층 위의 산화물 반도체층, 및 산화물 반도체층에 전기적으로 접속하는 제2 소스 전극 및 제2 드레인 전극을 포함하는 제2 트랜지스터를 포함하는 반도체 장치이다.
    • 本发明的一个目的是提供一种具有新结构的半导体器件。 公开是,沟道形成区域,在包含形成杂质区域的半导体材料的衬底中的沟道形成区域被插入其间的上方,在沟道形成区域上的第一绝缘栅极层,上述权利要求1的第一栅极绝缘层, 第一晶体管,包括栅电极,电连接到所述杂质区的第一源电极以及第一漏电极; 和第二源极电极电连接到第二栅电极,第二栅绝缘层上面的第二栅电极,上述氧化物半导体层的第二栅绝缘层,和包含半导体材料的衬底上的氧化物半导体层, 以及包括第二漏电极的第二晶体管。