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    • 24. 发明授权
    • 마이크로 구조체의 제조 방법 및 광 패턴 형성성 희생막 형성용 조성물
    • 制造用于形成光图案的微结构和组合物的方法 -
    • KR101773492B1
    • 2017-08-31
    • KR1020110056227
    • 2011-06-10
    • 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
    • 가토히데토간바라히로시후리하타도모요시히라노요시노리
    • G03F7/00B81B7/00
    • C09D163/04B81C1/00619B81C2201/0108G03F7/0226G03F7/0236G03F7/30G03F7/40G03F7/70466
    • 본발명은마이크로구조체의제조방법및 광패턴형성성희생막형성용조성물에관한것으로서, 본발명의마이크로구조체의제조방법은, (i) 기판상에희생막패턴을형성하는단계, (ii) 희생막패턴상에무기재료막을형성하는단계, (iii) 희생막패턴의형상을가지는공간을형성하는단계를포함하는마이크로구조체의제조방법에있어서, (i) 단계는, (A) (A-1) 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산에스테르에의해페놀성수산기가에스테르화된크레졸노볼락수지, 또는상기크레졸노볼락수지와페놀성수산기가에스테르화되어있지않은크레졸노볼락수지, (A-2) (A-1)의노볼락수지와 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산에스테르화합물, (A-3) 페놀성수산기가에스테르화되어있지않은크레졸노볼락수지와 1,2-나프토퀴논디아지드설폰산에스테르화합물중 어느하나와, 가교제를포함하는광 패턴형성성희생막형성용조성물로희생막을성막하는공정; (B) 상기광 패턴형성성희생막에제1 고에너지선에의한패턴조사를행하는공정; (C) 현상(現像)에의해포지티브형의희생막패턴을형성하는공정; 및 (D) 상기희생막패턴에제2 고에너지선조사를행하는조작및 가열하는조작을포함하고, 크레졸노볼락수지사이에가교를형성하는공정을포함하는것을특징으로한다.
    • 本发明涉及一种制造微结构,并且光学图案形成牺牲膜形成组合物的方法,本发明的微结构的制造方法包括:形成于(i)基板的图案牺牲层的步骤,(ⅱ)牺牲 (iii)形成具有牺牲膜图案形状的空间,其中步骤(i)包括以下步骤: )用苯酚seongsusan屏幕1,2-萘醌重氮磺酸通过酯基团是酯 - 甲酚酚醛清漆树脂,或其中所述甲酚酚醛清漆树脂和甲酚酚醛清漆树脂的酚seongsusan组未酯化的,(A-2 (A-1)其中酚羟基未被酯化的甲酚酚醛清漆树脂与1,2-萘醌二 两性离子酯化合物和光图案型 牺牲膜的步骤中形成作为用于性别形成组合物一牺牲层; (B)使所述可光致图案化的牺牲膜经受第一高能束的图案照射; (C)通过显影(本图像)形成正型牺牲膜图案; (D)对牺牲膜图案进行第二高能量束照射并加热,并在甲酚酚醛清漆树脂之间形成桥的操作。
    • 25. 发明授权
    • MEMS 패키지
    • MEMS封装
    • KR101752056B1
    • 2017-06-28
    • KR1020150105006
    • 2015-07-24
    • 주식회사 스탠딩에그
    • 홍태선한종호서평보이종성김광진
    • B81B7/02B81B7/00H01L23/48
    • B81B7/00B81B7/02H01L23/48
    • 본발명에따르면, 부품실장및 회로패턴을위한스택공간(111)이일측면에마련된베이스부(110); 신호선(121)과전원선(122)을포함하며상기베이스부(110)의일측면에회로패턴된회로라인부(120); 및상기베이스부(110)의일측에실장되어소정의 MEMS 기능을구현하는 MEMS 구조물(130)을포함하고, 상기베이스부(110)의스택공간(111)은, 상기회로패턴을위한패턴영역(112)과부품실장을위한비패턴영역(113)으로구분되어일측에마련되고, 상기 MEMS 구조물(130)은, 상기베이스부(110)의일측면상에서상기비패턴영역(113) 내에배치되어상기베이스부(110)와전기적으로접속하면서상기 MEMS 기능을구현하며, 상기회로라인부(120)의신호선(121)은상기베이스부(110)의일측면상에서상기 MEMS 구조물(130)과상하로대향하지않도록상기패턴영역(112)에회로패턴되는 MEMS 패키지를개시한다.
    • 根据本发明,设置在用于部件安装和电路图案的堆叠空间111的一侧上的基座部分110; 包括信号线121和电力线122并且在基部110的侧表面上图案化的电路线部分120; 和堆栈区域111,对于基座部分110的电路图案的图案区域被安装在uiil侧包括MEMS结构130用于实现预定的MEMS功能,和基部110( 图案区域113位于基部110的一侧。MEMS结构130设置在基部110的一侧的非图案区域113中, 并且MEMS结构130电连接到MEMS结构130,使得电路线单元120的信号线121不面向MEMS结构130 如图所示,
    • 28. 发明授权
    • 마이크로스케일 열 또는 열 및 물질 전달 시스템
    • 微型热量或热量和质量传递系统
    • KR101727890B1
    • 2017-04-18
    • KR1020167037001
    • 2009-07-31
    • 조지아 테크 리서치 코포레이션
    • 갈리멜라,스리니바스데터만,매튜,데로스
    • F28D15/00F25B30/00B81B7/00B81B1/00B01J19/00F25B33/00
    • F25B15/00F25B37/00F25B2400/15F25B2500/01F28D9/005F28D9/0093F28D21/0015F28F3/12F28F2260/02Y02A30/277Y02B30/62
    • 마이크로스케일, 모놀리식열 또는열 및물질전달시스템: 두외측플레이트들(110, 111) 사이에조립되는복수의심들(102, 104)이, 결합되었을때, 마이크로스케일, 모놀리식흡수식냉각및/또는가열시스템, 또는다른열 또는열 및물질전달시스템을구성하는(make up) 개별적이되(discrete) 일체화된열 및물질전달시스템구성요소들을형성한다. 심들은일반적으로복수의마이크로채널들(702), 공동들, 유체통로들, 및유체들을전달하기위한다른피처들로서가열및 냉각소오스들및 필요하다면씽크들에/로부터시스템내로및 시스템밖으로그리고시스템여기저기에형성된구성요소들간에유체들을전달하기위한다른피처들을포함한다. 일반적으로, 각각의심 쌍에서마이크로채널들내에서흐르는유체들간의열적접촉을가능하게하기위한복수의심 쌍들로서두 개의개별적인심 유형들이사용되고함께결합되는데, 각각의심 쌍에서의각각의심은서로비교할때 다소상이한마이크로채널및 유체통로배치를포함한다.
    • 微尺度,单片sikyeol或热与质量传递系统:多个疑(102,104)被组装在两个外部板110和111,当组合时,微尺度,单片吸收冷却之间和/ 或者,以形成加热系统,或其它热或热与质量传递来配置系统(组成)的背面(离散的)单独一体的热与质量传递系统部件。 SIMS通常多个微通道(702),腔和流体通道,并且所述流体被加热作为进一步的特征用于递送和冷却源和如果必要的话,进入从水槽到/系统和出和这里的系统 以及用于在其上形成的部件之间输送流体的其他特征。 通常,每个联接怀疑对用作多个可疑一对用于使在所述微通道与流结合的流体之间的热接触的两个独立的慷慨类型,每个问题对eseoui当相互比较各问题是稍微不同的 微通道和流体通道安排。
    • 29. 发明公开
    • 마이크로스케일 열 또는 열 및 물질 전달 시스템
    • 微观加热或热转移系统
    • KR1020170005164A
    • 2017-01-11
    • KR1020167037001
    • 2009-07-31
    • 조지아 테크 리서치 코포레이션
    • 갈리멜라,스리니바스데터만,매튜,데로스
    • F28D15/00F25B30/00B81B7/00B81B1/00B01J19/00F25B33/00
    • F25B15/00F25B37/00F25B2400/15F25B2500/01F28D9/005F28D9/0093F28D21/0015F28F3/12F28F2260/02Y02A30/277Y02B30/62
    • 마이크로스케일, 모놀리식열 또는열 및물질전달시스템: 두외측플레이트들(110, 111) 사이에조립되는복수의심들(102, 104)이, 결합되었을때, 마이크로스케일, 모놀리식흡수식냉각및/또는가열시스템, 또는다른열 또는열 및물질전달시스템을구성하는(make up) 개별적이되(discrete) 일체화된열 및물질전달시스템구성요소들을형성한다. 심들은일반적으로복수의마이크로채널들(702), 공동들, 유체통로들, 및유체들을전달하기위한다른피처들로서가열및 냉각소오스들및 필요하다면씽크들에/로부터시스템내로및 시스템밖으로그리고시스템여기저기에형성된구성요소들간에유체들을전달하기위한다른피처들을포함한다. 일반적으로, 각각의심 쌍에서마이크로채널들내에서흐르는유체들간의열적접촉을가능하게하기위한복수의심 쌍들로서두 개의개별적인심 유형들이사용되고함께결합되는데, 각각의심 쌍에서의각각의심은서로비교할때 다소상이한마이크로채널및 유체통로배치를포함한다.
    • 微型整体式热或热和质量传递系统:组合在两个外板(110,111)之间的多个垫片(102,104),当组合时形成离散的但是集成的热和质量传递系统部件,其构成微尺度 单片吸收式冷却和/或加热系统,或其他热或热和质量传递系统。 垫片通常包括多个微通道(702),空隙,流体通道和用于在整个系统中的限定部件之间传送流体的其它特征,以及根据需要进入和离开加热和冷却源和汇的系统。 通常,使用两种不同的垫片类型并将其组合在一起作为多个垫片对,以实现在每个垫片对内在微通道内流动的流体之间的热接触,每个垫片对中的每个垫片包括稍微不同的微通道和流体通道布置,与 彼此。
    • 30. 发明授权
    • MEMS 장치 제조 방법
    • 制造MEMS器件的方法
    • KR101688724B1
    • 2016-12-21
    • KR1020150049790
    • 2015-04-08
    • 주식회사 스탠딩에그
    • 문상희이종성
    • B81C1/00B81B7/00
    • B81B7/00B81C1/00
    • 본발명은, MEMS 장치가형성되어있는 MEMS 장치층(MEMS device layer); MEMS 핸들층(handle layer); 및상기 MEMS 장치층및 MEMS 핸들층의사이에형성된절연층;을포함하는 MEMS 장치를준비하는단계; 밀봉라인(sealline)을따라복수개의에치홀(etch hole)을그리는 MEMS 장치층패터닝단계; 상기그려진복수개의에치홀에대해서에칭공정을실행하여, MEMS 핸들층을노출시키는단계; 및 MEMS 장치제조시사용되는 Au-Si 공융본딩(eutectic bonding)을이용하여, 상기 MEMS 장치층및 상기 MEMS 핸들층이전기적으로연결되도록, 상기복수개의에칭홀에대해서도 Au-Si 액체합금이들어가서냉각되도록하는 Au-Si 본딩단계;를포함하는, MEMS 장치제조방법를제공한다.
    • 本发明涉及一种用于制备MEMS器件的方法,所述方法包括:制备包括MEMS器件层的MEMS器件层的MEMS器件的步骤,MEMS器件层和形成的绝缘层 在MEMS器件层和MEMS手柄层之间; 用于沿着密封线拉制多个蚀刻孔的MEMS器件层图案化步骤; 用于对已经被拉伸的多个蚀刻孔执行蚀刻并因此暴露MEMS手柄层的步骤; 以及用于进行用于MEMS器件制备的Au-Si共晶接合的Au-Si键合步骤,并且使液体Au-Si合金进入多个蚀刻孔并冷却,使得MEMS器件层和MEMS手柄层电连接 。