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    • 22. 发明授权
    • 표본화를 이용한 임피던스 크기 및 위상 측정 회로
    • 使用采样的阻抗幅度和相位测量电路
    • KR101810067B1
    • 2017-12-18
    • KR1020150140696
    • 2015-10-07
    • 한국과학기술원
    • 유형준권순재박정호신성헌
    • G01R27/02G01R23/16G01R23/06
    • 표본화를이용한임피던스크기및 위상측정회로가개시된다. 일실시예에따르면, 기준저항과측정대상물질에각각나타나는기준신호및 물질신호로부터두 비교기를이용하여두 가지클락신호를얻고, 그클락신호들을 XOR 또는 XNOR 연산을하여임피던스의위상을측정함과더불어, 그두 클락신호를이용하여기준신호와물질신호의표본화를수행한다. 다른실시예에따르면, 소정주파수미만의신호가인가되는경우에는두 비교기를이용하여얻은두 클락신호를통해표본화를수행하는반면, 소정주파수이상의신호가인가되었을경우, 두미분기를이용하여얻은클락신호를통해표본화를수행하여임피던스의크기를측정한다. 비교기를이용한표본화는기존회로들의재이용을가능케하여, 저전력소모및 회로소형화를가능하게해준다. 미분기를이용한표본화는소정주파수이상의신호인가시 측정의정확도를향상시킨다. 또한, 회로소형화및 불필요한전력모소의방지를가능하게해준다.
    • 公开了使用采样的阻抗幅度和相位测量电路。 根据一个实施方案,还参考电阻和使用测得的用于从所述参考信号中的物质两个比较器和出现每两个的物质信号以获得一个时钟信号,并以时钟信号XOR或XNOR操作测量阻抗的相位,和 另外,使用时钟信号对参考信号和素材信号进行采样。 根据另一实施例,当施加小于预定频率的信号时,通过使用两个比较器获得的两个时钟信号来执行采样;另一方面,当施加超过预定频率的信号时,时钟信号 测量阻抗的大小。 采用比较器进行采样可以重复使用现有电路,实现低功耗和电路小型化。 使用微分器进行采样可以提高测量的准确性,当信号超过特定频率时应用。 另外,它可以使电路小型化并防止不必要的电弧放电。
    • 26. 发明公开
    • 레이저 간섭 리소그래피를 이용한 광결정 구조가 결합된 표면 플라즈모닉 컬러 필터의 제조 방법
    • 使用激光干涉光刻制造光子晶体结构的表面等离子体彩色滤光片的制造方法
    • KR1020140033596A
    • 2014-03-19
    • KR1020120099270
    • 2012-09-07
    • 한국과학기술원고려대학교 산학협력단
    • 최경철도윤선주병권박정호황보연
    • G02B5/20
    • G02B5/201B29D11/00634B82Y40/00G02B1/005G02B5/207H01L21/0275
    • A manufacturing method of a surface plasmonic color filter includes: a step (a) of forming a photonic crystal structure on a substrate; a step (b) of forming a first dielectric layer on the photonic crystal structure; a step (c) of forming a metal film on the first dielectric layer; a step (d) of forming a photosensitive layer on the metal film; a step (e) of forming a nano-hole array having periodicity on the photosensitive layer by irradiating laser interference patterns on the photosensitive layer; a step (f) of forming a nano-hole array on the metal film by etching the metal film using the nano-hole array of the photosensitive layer; and a step (g) of removing the photosensitive layer having the nano-hole array from the metal film on which the nano-hole array is formed and forming a second dielectric layer including the same dielectric substance as the dielectric substance included in the first dielectric layer on the metal film on which the nano-hole array is formed. The cutoff wavelength band of the photonic crystal structure is different from the pass wavelength band of the nano-hole array.
    • 表面等离子体激元彩色滤光片的制造方法包括:在基板上形成光子晶体结构的工序(a) 在所述光子晶体结构上形成第一介电层的步骤(b); 在所述第一电介质层上形成金属膜的步骤(c); 在所述金属膜上形成感光层的步骤(d); 通过在感光层上照射激光干涉图案来形成具有周期性的纳米孔阵列的步骤(e); 通过使用感光层的纳米孔阵列蚀刻金属膜,在金属膜上形成纳米孔阵列的步骤(f); 以及从形成有纳米孔阵列的金属膜除去具有纳米孔阵列的感光层的步骤(g),形成包含与包含在第一电介质中的电介质物质相同的电介质的第二介电层 在其上形成纳米孔阵列的金属膜上。 光子晶体结构的截止波长带与纳米孔阵列的通过波长带不同。