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21. 发明公开

KR20210011532A 아크 코팅공정에서의 파티클 감소방법 및 이에 의한 코팅층을 갖는 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치 有权
公开(公告)号：KR20210011532A
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：KR20190088246
申请日：2019-07-22
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수
IPC分类号： C23C4/18 , C23C4/131 , C23C14/34 , C23C14/56 , C23F3/00 , C23F3/03 , C23F3/06 , H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/67
摘要： 본발명은아크코팅공정에서의파티클감소방법및 이에의한코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치에관한것으로서, 알루미늄와이어를사용하여아크코팅을수행함으로써알루미늄또는스테인리스소재의모재에알루미늄아크코팅층을형성시킨제품에대해이를화학적폴리싱처리액에침지시킴으로써알루미늄아크코팅층의표면부를용해시켜폴리싱처리하되 60~100℃의온도에서 15초내지 3분동안처리하는화학적폴리싱단계;를포함하고, 상기화학적폴리싱처리액은인산류, 질산류또는황산류, 아세트산류를용매인물에첨가하여혼합한조성으로이루어지며; 상기인산류는인산(H3PO4) 또는인산염이고, 상기질산류는질산(HNO3) 또는질산염이고, 상기황산류는황산(H2SO4) 또는황산염이고, 상기아세트산류는아세트산(CH3COOH) 또는아세트산에과산화수소를혼합한조성을갖게하는아크코팅공정에서의파티클감소방법및 이에의한코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치를특징으로한다. 본발명에따르면, 화학적폴리싱처리액을이용한화학적폴리싱처리를통해아크코팅공정시알루미늄아크코팅층상에발생하는아크분진및 파티클을용이하게제거할수 있고, 알루미늄아크코팅층이갖는표면거칠기를감소시키면서표면평활도를갖게할 수있으며, 모재및 이에형성시킨알루미늄아크코팅층측 물성에는표면처리전후간에변화가발생되지않게처리할수 있으며, 스퍼터링시증착효율을향상시킬수 있는반도체제조공정의스퍼터링장치를제공할수 있다.

22. 发明授权

KR102080153B1 습식 코팅재 조성물, 플라즈마 내성 코팅층의 제조방법, 플라즈마 공정챔버 부품 및 그 제조방법 有权
公开(公告)号：KR102080153B1
公开(公告)日：2020-02-24
申请号：KR1020170161813
申请日：2017-11-29
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수
IPC分类号： C09D5/03 , C09D7/45 , C09D1/00 , B05D1/00 , B05D7/24 , H01L21/3065

23. 发明授权

KR102007950B1 내성코팅층 제거방법 有权
公开(公告)号：KR102007950B1
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：KR1020170142519
申请日：2017-10-30
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： H01L21/3105 , H01L21/768

24. 发明公开

KR1020170021609A 세정장치 无效
标题翻译：清洁设备
公开(公告)号：KR1020170021609A
公开(公告)日：2017-02-28
申请号：KR1020150116214
申请日：2015-08-18
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/67
摘要： 세정장치를개시한다. 이러한세정장치는, 홀부들이형성된샤워헤드가놓여지는세정대와, 상기세정대측에놓여진샤워헤드를향하여세정용스팀을분사하기위한노즐을구비한스팀분사부그리고, 상기세정대또는상기샤워헤드측에착,탈가능하게설치되면서상기스팀분사부의노즐을상기샤워헤드와대응하는세정위치에셋팅할수 있도록형성된노즐어댑터를구비한어댑터부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种清洁装置。这种清洁装置包括蒸汽喷射部分，该蒸汽喷射部分具有其上放置了具有孔的喷头的喷头以及用于朝向放置在清洁喷射侧上的喷头喷射清洁蒸汽的喷嘴，以及喷嘴适配器，其可拆卸地附接到喷头，并被构造成将蒸汽喷射部的喷嘴设置到与喷头对应的清洁位置。

25. 发明授权

KR101623966B1 세정장치 有权
标题翻译：洗衣机
公开(公告)号：KR101623966B1
公开(公告)日：2016-06-07
申请号：KR1020140149527
申请日：2014-10-30
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김선옥 , 도민기
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/205
摘要： 세정장치를개시한다.이러한세정장치는, 윗면이개방된내부공간을구비한저장조와, 상기저장조상부에배치되며홀부들이형성된샤워헤드의둘레부를시일접촉상태로받쳐줄수 있는시일받침면을구비한세정받침대와, 상기저장조의내부공간에세정용액체를공급할수 있도록형성된세정용액체공급부그리고, 상기저장조측에담겨진세정용액체가기체압력에의해미스트형태로상기샤워헤드의홀부들을통과할수 있도록상기저장조측에세정용기체를공급하는세정용기체공급부를포함한다.

26. 发明公开

KR1020160041386A 세정용 작업대 有权
标题翻译：洗手台
公开(公告)号：KR1020160041386A
公开(公告)日：2016-04-18
申请号：KR1020140135138
申请日：2014-10-07
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/203 , H01L21/02
CPC分类号： H01L21/67057
摘要： 세정용작업대를개시한다. 이러한세정용작업대는, 내부가관통된상태의챔버를구비한챔버하우징이놓여지는작업대본체와, 상기챔버하우징의챔버측에세정액이담겨질수 있는상태로상기챔버하우징을받쳐줄수 있도록상기작업대본체측에형성되는받침부와, 상기받침부와상기챔버하우징의접촉부분이시일상태를이룰수 있도록상기받침부측에형성되는시일부그리고, 상기챔버하우징을상기받침부측에받쳐진상태로고정할수 있도록상기작업대본체측에형성되는고정구를구비한고정부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种用于清洁的工作台，包括：工作台体，其中放置有腔室壳体，其内部被穿透的腔室壳体; 支撑单元，形成在所述工作台主体上，以支撑所述腔室壳体，以允许所述腔室的腔室容纳清洁液体; 密封单元，其形成在所述支撑单元上以密封所述支撑单元和所述室壳体之间的接触区域; 以及固定单元，其形成在所述工作台主体上，以固定所述室室以保持由所述支撑单元支撑的所述室壳体。根据本发明，通过防止室壳体的外表面与清洁液接触而损坏清洁稳定性和可靠性。

27. 外观设计

KR3008014070000S 有权
公开(公告)号：KR3008014070000S
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：KR3020140048354
申请日：2014-10-07
申请人： 주식회사 싸이노스
设计人： 이명우 , 이우규

28. 发明授权

KR102237027B1 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치용 코팅방법 및 이에 의한 코팅층을 갖는 반도체 제조공정의 스퍼터링 장치 有权
公开(公告)号：KR102237027B1
公开(公告)日：2021-04-29
申请号：KR1020190088245
申请日：2019-07-22
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수 , 김희영
IPC分类号： H01L21/285 , H01L21/02 , H01L21/324 , H01L21/67 , C23C14/34
摘要： 본발명은반도체제조공정의스퍼터링장치용코팅방법및 이에의한코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치에관한것으로서, 서로다른 2종의금속와이어를사용하여스퍼터링장치용챔버의내벽쪽에금속간복합코팅에의한코팅층을형성하는반도체제조공정의스퍼터링장치용코팅방법에있어서, (A) 서로다른 2종의제1금속와이어와제2금속와이어를공급하는단계; (B) 제1금속와이어와제2금속와이어의팁 부분을상호접촉시켜아크방전을유도함에의해제1금속와이어와제2금속와이어를용융시켜합금처리하는단계; (C) 제1금속와이어와제2금속와이어를용융합금시킨상태에가스를일정압력으로공급하여챔버의내벽쪽으로스프레이분사함으로써 2종금속간복합코팅에의한합금코팅층을형성하는단계;를포함하며, 제1금속와이어는알루미늄(Al) 소재이고, 제2금속와이어는티타늄(Ti) 소재이며; 제1금속와이어와제2금속와이어는 (+)전극과 (-)전극으로사용하되상호간에역극성으로사용하는반도체제조공정의스퍼터링장치용코팅방법및 이에의해적용된코팅층을갖는반도체제조공정의스퍼터링장치를특징으로한다. 본발명에따르면, 반도체제조공정용스퍼터링장치의챔버측 내벽에스퍼터링입자들의부착율을높여쉽게박리되는것을방지및 스퍼터링효율을높일수 있도록지원하며, 종래에비해접착강도와경도및 기공율에있어보다우수한기계적특성및 물성을갖게하는등 양질의코팅층을형성할수 있으며, 스퍼터링시증착효율을향상시킬수 있는반도체제조공정의스퍼터링장치를제공할수 있다.

29. 发明公开

KR1020210011168A 반도체장비 부품용 세정장치 有权
公开(公告)号：KR1020210011168A
公开(公告)日：2021-02-01
申请号：KR1020190088247
申请日：2019-07-22
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 김형수
IPC分类号： H01L21/67 , B08B3/02
摘要： 본발명은반도체장비부품용세정은물론린스에도사용가능한세정장치에관한것으로서, 샤워헤드를비롯한반도체장비의장착부품들을피대상물로하여이들의세정또는린스에사용되며, 세정액과에어를공급하는방식을갖는반도체장비부품용세정장치에있어서, 상기피대상물의하측에배치되는하부개방형구조를갖는몸체로서, 상면중심부에세정액을상측방향으로공급하기위한세정액공급홀이형성되고상기세정액공급홀에이웃하는양측부에 2개의제1에어공급홀및 제2에어공급홀이간격형성되는파워버블생성부; 상기파워버블생성부측 세정액공급홀에연결되어세정액을공급하여주는세정액공급부; 상기파워버블생성부측 제1에어공급홀에연결되어세정용버블생성에관여하기위한에어를공급하되, 일정압력으로에어를공급하여주는제1에어공급부; 상기파워버블생성부측 제2에어공급홀에연결되어세정용버블생성에관여하기위한에어를공급하되, 파워버블의생성을유도하기위해일정주기마다변화된압력출력으로에어를공급하여주는제2에어공급부;를포함하는것을특징으로한다. 본발명에따르면, 구조개선과더불어공급하는에어에대한압력과시간을조절하여공급토록하는방식을접목함으로써세정액에대해파워버블(power bubble)의생성을유도및 발생시킬수 있고샤워헤드등 반도체장비장착부품인피대상물에더욱강한접촉및 압력을가하는작용을하므로기존에비해더욱뛰어난세정효과를발휘할수 있다.

30. 发明授权

KR101987943B1 금속부재의 클리닝 방법 有权
公开(公告)号：KR101987943B1
公开(公告)日：2019-06-12
申请号：KR1020170169579
申请日：2017-12-11
申请人： 주식회사 싸이노스
发明人： 이명우 , 이우규 , 문병오
IPC分类号： H01L21/02

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