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11. 发明公开

KR20210003744A 수성 조성물 및 이것을 이용한 세정방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20210003744A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：KR20207029827
申请日：2019-04-25
IPC分类号： C11D7/36 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/14 , C11D11/00 , C23G1/02
摘要： 본발명에따르면, (A)테트라플루오로붕산, 헥사플루오로규산, 헥사플루오로알루민산, 헥사플루오로티탄산및 그들의염으로부터선택되는 1종이상의불소함유화합물을, 조성물전량기준으로 0.001~20질량%; 및 (B)C4-13알킬포스폰산, C4-13알킬포스폰산에스테르, C4-13알킬인산, 및그들의염으로부터선택되는 1종이상의화합물을, 조성물전량기준으로 0.0001~10질량% 포함하는, 수성조성물을제공할수 있다.

12. 发明公开

KR20210003730A 수성 조성물 및 이것을 이용한 세정방법 审中-公开
公开(公告)号：KR20210003730A
公开(公告)日：2021-01-12
申请号：KR20207026302
申请日：2019-04-25
IPC分类号： C11D7/36 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/26 , C11D11/00 , C23F1/16 , C23G1/02 , H01L21/02 , H01L21/311 , H01L21/768
摘要： 본발명에따르면, (A)C4-13알킬포스폰산, C4-13알킬포스폰산에스테르, C4-13알킬인산, 및그들의염으로부터선택되는 1종이상의화합물을, 조성물전량기준으로 0.0001~10질량%, 및 (B)C4-13알킬포스폰산과 C4-13알킬포스폰산에스테르와 C4-13알킬인산이외의산 또는그의염을, 조성물전량기준으로 0.0001~50질량% 포함하는, 수성조성물을제공할수 있다.

13. 发明授权

KR102152911B1 기판 세정 조성물, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 有权
公开(公告)号：KR102152911B1
公开(公告)日：2020-09-08
申请号：KR1020180106336
申请日：2018-09-06
申请人： 세메스 주식회사 , 부경대학교 산학협력단
发明人： 최해원 , 강기문 , 최기훈 , 커랴킨 , 허찬영 , 이재성 , 임권택 , 김용훈 , 이상호
IPC分类号： C11D11/00 , C11D7/28 , C11D7/36 , C11D7/50 , H01L21/02 , H01L21/67

14. 发明公开

KR1020150144780A 세정액 조성물 审中-实审
标题翻译：清洁液体组合物
公开(公告)号：KR1020150144780A
公开(公告)日：2015-12-28
申请号：KR1020157032827
申请日：2014-04-07
申请人： 간또 가가꾸 가부시끼가이샤
发明人： 모리타키쿠에 , 호리케치요코 , 후카야케이스케 , 오와다타쿠오
IPC分类号： C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/32 , C11D7/36 , C11D11/00 , C11D17/08 , H01L21/02
CPC分类号： C11D7/3281 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D7/36 , C11D11/0047 , C11D17/08 , H01L21/02074
摘要： 본발명의목적은, 반도체원자등의전자디바이스의제조공정에있어서, 화학적기계연마(CMP) 처리등이수행된기판등의세정에있어서, 유용한세정액조성물을제공하는것이다. 본발명은 Cu 배선을가진기판을세정하기위한세정액조성물에있어서, 염기성화합물 1종또는 2종이상과, 질소원자를포함한헤테로단일고리방향족화합물 1종또는 2종이상을포함하며, 수소이온농도(pH)가 8~11인상기세정액조성물에관한것이다.

15. 发明授权

KR101264436B1 전자 재료용 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정 방법 有权
标题翻译：用于电子材料的清洁溶液组合物和使用其的清洗方法
公开(公告)号：KR101264436B1
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020060113717
申请日：2006-11-17
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 김병묵 , 홍헌표 , 정진우
IPC分类号： C11D11/00 , C11D7/08 , C11D7/36 , C11D7/32 , C11D3/39
摘要： 반도체디바이스또는평판디스플레이(FPD) 기판과같은전자재료의제조시 금속패턴형성후, 기판표면세정에상기세정제조성물을사용하면, 실리콘및 실리콘이외의금속의부식을억제하고, 기판상에부착된미세한오염입자, 변질또는경화된포토레지스트및 폴리머잔류물등을용이하게제거할수 있다.

16. 发明公开

KR1020130020854A 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법 无效
标题翻译：用于平板显示装置的清洁溶液组合物和平板显示器的清洁方法
公开(公告)号：KR1020130020854A
公开(公告)日：2013-03-04
申请号：KR1020110081866
申请日：2011-08-17
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 방순홍 , 윤효중 , 김용일
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/36
摘要： PURPOSE: A cleaning composition for an environmentally friendly flat display device is provided to have an excellent removal force of organic and inorganic contaminants and particles deposited on the surface of glass or a metal film. CONSTITUTION: A cleaning composition for an environmentally friendly flat display device comprises 0.01-10 weight% of an isophthalic acid compound indicated in chemical formula 1, 0.05-20 weight% of a basic compound, 0.1-40 weight% of a polar organic solvent, and residual water based on the total weight of the composition. In chemical formula 1, R1 is a C1-6 alkyl group, C1-6 alkoxy group, amino group, nitro group, hydroxyl group or a salt thereof, or sulfone group or a thereof. The cleaning composition additionally comprises an organic phosphate or a salt compound thereof.
摘要翻译：目的：提供一种用于环保平板显示装置的清洁组合物，其具有优良的去除有机和无机污染物以及沉积在玻璃表面或金属膜上的颗粒的去除力。构成：用于环境友好的平板显示装置的清洁组合物包括0.01-10重量％的化学式1所示的间苯二甲酸化合物，0.05-20重量％的碱性化合物，0.1-40重量％的极性有机溶剂，和基于组合物总重量的残留水。在化学式1中，R 1为C 1-6烷基，C 1-6烷氧基，氨基，硝基，羟基或其盐，或砜基等。清洁组合物另外包含有机磷酸盐或其盐化合物。

17. 发明公开

KR1020130019729A 평판표시장치용 세정액 조성물 및 평판표시장치의 세정 방법 无效
标题翻译：用于平板显示装置的清洁溶液组合物和平板显示器的清洁方法
公开(公告)号：KR1020130019729A
公开(公告)日：2013-02-27
申请号：KR1020110081864
申请日：2011-08-17
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 방순홍 , 윤효중 , 신혜라
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/36 , C11D7/34 , C11D7/50
CPC分类号： C11D7/32 , C11D7/00 , C11D7/267 , C11D7/34 , C11D7/36 , C11D7/50 , C11D7/5004 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D7/5086 , C11D7/5095
摘要： PURPOSE: A cleaning liquid composition for manufacturing a flat panel display is provided to have excellent particle removing force and to have excellent anti-corrosion effect for aluminum or aluminum alloy which is formed on a substrate. CONSTITUTION: A cleaning composition for a flat panel display comprises an oxyalkylamine compound indicated in chemical formula 1, an organophosphorus compound or a salt thereof, a sulfur-containing compound, a water-soluble polar solvent, and water. In chemical formula 1, n is an integer from 1-5; R1 is an alkyl, acryl, hydroxyalkyl, aryl, alkoxyalkyl, thiol-containing alkyl, or ether-containing substituent; each of R2 and R3 is an alkyl, acryl, hydroxyalkyl, aryl, aminoalkyl, alkoxy alkyl, hydroxyl, or amino group. When each of R2 and R3 has a C1-8, R2 and R3 can form a cyclic structure together with nitrogen which is bonded with R2 and R3.
摘要翻译：目的：提供一种用于制造平板显示器的清洁液组合物，其具有优异的除尘力，并且对形成在基板上的铝或铝合金具有优异的防腐蚀效果。构成：用于平板显示器的清洁组合物包括化学式1所示的氧烷基胺化合物，有机磷化合物或其盐，含硫化合物，水溶性极性溶剂和水。在化学式1中，n为1-5的整数; R1是烷基，丙烯基，羟基烷基，芳基，烷氧基烷基，含硫醇的烷基或含醚取代基; R2和R3各自为烷基，丙烯基，羟基烷基，芳基，氨基烷基，烷氧基烷基，羟基或氨基。当R 2和R 3各自具有C 1-8时，R 2和R 3可与与R 2和R 3键合的氮一起形成环状结构。

18. 发明公开

KR1020120133077A 평판표시장치용 세정제 조성물 审中-实审
标题翻译：平板显示装置的洗涤组合物
公开(公告)号：KR1020120133077A
公开(公告)日：2012-12-10
申请号：KR1020110051575
申请日：2011-05-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 홍헌표 , 윤효중 , 방순홍 , 김병묵
IPC分类号： C11D7/36 , C11D7/26 , C11D1/62 , C11D11/00
CPC分类号： C11D7/36 , C11D1/62 , C11D7/26 , C11D7/261 , C11D7/266 , C11D11/0047
摘要： PURPOSE: A cleansing composition is provided to remove organic and inorganic pollutants or particles on a glass substrate, electrode, or wire, and to have excellent cleansing effect without corrosion of an electrode or wire. CONSTITUTION: A cleansing composition for a flat display device comprises 0.01-10 weight% of a quaternary ammonium salt, 0.01-10 weight% of a glycolether compound, 0.01-10 weight% of a phosphate compound, 0.01-5 weight% of a glycerin compound, 0.01-1 weight% of a contact angle reducer, and residual water. The quaternary ammonium salt is one or more kinds selected from tetramethylammmonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabuthylamonium hydroxide.
摘要翻译：目的：提供清洁组合物以去除玻璃基底，电极或线上的有机和无机污染物或颗粒，并且具有优异的清洁效果而不会腐蚀电极或电线。构成：用于平板显示装置的清洁组合物包含0.01-10重量％的季铵盐，0.01-10重量％的乙二醇醚化合物，0.01-10重量％的磷酸盐化合物，0.01-5重量％的甘油化合物，0.01-1重量％的接触角减少剂和残余水。季铵盐是选自四甲基铵氢氧化铵，四甲基氢氧化铵，四丙基氢氧化铵和四丁基氢氧化铵中的一种或多种。

19. 发明授权

KR101047974B1 기판용 세정제 및 세정 방법 有权
标题翻译：基材清洁和清洁方法
公开(公告)号：KR101047974B1
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：KR1020067009379
申请日：2004-10-13
申请人： 와코 쥰야꾸 고교 가부시키가이샤
发明人： 미즈타히로노리 , 가키자와마사히코 , 하야시다이치로
IPC分类号： C11D7/32 , C11D7/36 , C11D11/00
CPC分类号： H01L21/02052 , C11D7/261 , C11D7/262 , C11D7/263 , C11D7/264 , C11D7/3245 , C11D7/36 , C11D11/0047 , C23G5/02 , C23G5/032
摘要： 기판, 특히 반도체 기판의 표면 거칠음을 일으키지 않고, 또한 기판 표면에 실시된 금속 배선, 특히 구리 배선의 부식이나 산화를 일으키지 않으며, 기판 표면에 존재하는 미세 입자(파티클)나 각종 금속 유래의 불순물(금속 불순물)을 유효하게 제거할 수 있고, 더 나아가서는 금속 부식 방지제-Cu 피막, 특히 Cu-BTA 피막을 제거하지 않고, 기판 표면에 존재하는 카본 디펙트도 동시에 제거할 수 있는 기판용 세정제 및 세정 방법의 제공한다.
본 발명은, [I] 카르복시기를 1개 이상 갖는 유기산 또는/및 [II] 착화제와, [III] (1) 1가 알콜류, (2) 알콕시알콜류, (3) 글리콜류, (4) 글리콜에테르류, (5) 케톤류 및(6) 니트릴류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 유기 용매를 포함하여 이루어지는 기판용 세정제, 및 이 세정제로 기판 표면을 처리하는 것을 특징으로 하는 기판 표면의 세정 방법을 제공한다.
摘要翻译：基板，特别是，而不会导致所述半导体衬底的表面粗糙度和金属布线，特别是不会引起腐蚀或铜布线的氧化，微粒（颗粒）和各种来自存在在基板表面上所保持的基板的表面上得到的金属中的杂质（金属本发明提供一种基材用清洗剂和清洗方法，其能够在不除去金属防锈剂Cu涂层，特别是Cu-BTA涂层的情况下同时去除存在于基材表面上的碳缺陷，的报价。

20. 发明公开

KR1020100138800A 태양전지용 세정액 조성물 无效
标题翻译：用于太阳能电池的洗涤剂组合物
公开(公告)号：KR1020100138800A
公开(公告)日：2010-12-31
申请号：KR1020100059132
申请日：2010-06-22
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 윤효중 , 방순홍 , 김상태 , 이승용
IPC分类号： C11D7/38 , C11D7/36 , C11D7/26
CPC分类号： C11D7/06 , C11D3/3947 , C11D3/3956 , C11D7/263 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/36 , C11D7/5022 , C11D11/0035 , C11D11/0041
摘要： PURPOSE: A cleansing solution composition is provided to ensure excellent penetration effect and to cleanly remove contaminant on the substrate of the solar cell. CONSTITUTION: A cleaning solution composition contains 0.1-15 weight% of organic alkali compound, 0.1-40 weight% of water-soluble glycol ether, 0.1-20 weight% of percarbonate, 0.01-10 weight% of organic phosphoric acid or salt thereof. The water-soluble glycol ether is water-soluble glycol ether of C1-C10.
摘要翻译：目的：提供清洁溶液组合物以确保优异的渗透效果并清洁地去除太阳能电池基板上的污染物。构成：清洁溶液组合物含有0.1-15重量％的有机碱化合物，0.1-40重量％的水溶性二醇醚，0.1-20重量％的过碳酸盐，0.01-10重量％的有机磷酸或其盐。水溶性二醇醚是C1-C10的水溶性二醇醚。

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