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11. 发明授权

KR102458638B1 메데토미딘의 합성에서 유용한 3-아릴부탄알과 같은 화합물의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR102458638B1
公开(公告)日：2022-10-24
申请号：KR1020177023707
申请日：2016-01-29
IPC分类号： C07C45/45 , C07C45/86 , C07C47/232 , C07C45/62 , C07C47/228 , C07C309/24 , C07D233/64

12. 发明授权

KR102083087B1 술포늄염, 폴리머, 레지스트 조성물 및 패턴 형성 방법 有权
公开(公告)号：KR102083087B1
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：KR1020180088039
申请日：2018-07-27
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 오하시마사키 , 하타케야마준 , 아다치뎃페이
IPC分类号： C07C381/12 , C07C309/24 , C07D339/08 , C07D333/76 , C07D327/08 , C07D279/20 , C08F220/30 , G03F7/004 , G03F7/26

13. 发明公开

KR1020170108080A 메데토미딘의 합성에서 유용한 3-아릴부탄알과 같은 화합물의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：制备用于合成美托咪定的化合物如3-芳基丁醛的方法
公开(公告)号：KR1020170108080A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：KR1020177023707
申请日：2016-01-29
申请人： 캠브렉스 칼스코가 아베
发明人： 에클룬드라스 , 에크마르구스 , 에캄바람라메시 , 마사루앤츠
IPC分类号： C07C45/45 , C07C45/86 , C07C47/232 , C07C45/62 , C07C47/228 , C07C309/24 , C07D233/64
CPC分类号： C07C309/24 , C07C45/455 , C07C45/62 , C07C45/63 , C07C47/228 , C07C47/232 , C07C47/24 , C07C249/02 , C07D233/64 , C07F9/1403 , C07C45/86
摘要： 본명세서에서정의된바와같은화학식 (I)의화합물의제조방법이제공되되, 상기방법은본 명세서에서정의된바와같은화학식 (II)의화합물을 1종이상의적합한빌스메이어시약과반응시키는단계를포함한다.
摘要翻译：提供了制备如本文所定义的式（I）化合物的方法，其包括使本文定义的式（II）化合物与一种或多种合适的Bewmeyer试剂的。

14. 发明公开

KR1020130117316A 3-아미노-6-클로로톨루엔-4-설폰산의 제조방법 无效
标题翻译：制备3-氨基-6-氯代乙酸-4-磺酸的方法
公开(公告)号：KR1020130117316A
公开(公告)日：2013-10-25
申请号：KR1020120040573
申请日：2012-04-18
申请人： 주식회사 한남코퍼레이션
发明人： 이일동 , 남상욱 , 이종숙
IPC分类号： C07C303/42 , C07C309/24 , C07C307/02
摘要： PURPOSE: A manufacturing method of 3-amino-6-chlorotoluene-4-sulfonic acid is provided to minimize amount of effluent and waste by manufacturing 3-amino-6-chlorotoluene-4-sulfonic acid by a simple reaction process. CONSTITUTION: A manufacturing method of 3-amino-6-chlorotoluene-4-sulfonic acid comprises the following steps: manufacturing toluidine chloride intermediate by chlorinating toluidine with chlorine, a cupric compound and a hydrochloric acid aqueous solution-containing mixture; and sulfonating the intermediate manufactured in the previous step. The cupric compound of the first step is one selected from a group including CuO, Cu2O, CuSO4, Cu(CH3CO2)2, Cu(CH3CO2), CuCl, CuCl2 and CuCl2'2H2O.
摘要翻译：目的：提供3-氨基-6-氯甲苯-4-磺酸的制备方法，通过简单的反应方法制备3-氨基-6-氯甲苯-4-磺酸，使流出物和废物的量最小化。构成：3-氨基-6-氯甲苯-4-磺酸的制造方法包括以下步骤：用氯，二价铜化合物和含盐酸水溶液的混合物用甲苯胺氯化制造甲苯胺氯化物中间体; 并磺化在前一步骤中制造的中间体。第一步的铜化合物是选自CuO，Cu 2 O，CuSO 4，Cu（CH 3 CO 2）2，Cu（CH 3 CO 2），CuCl，CuCl 2和CuCl 2·2H 2 O的组中的一种。

15. 发明公开

KR1020120087151A 플루오르화된 비닐리덴 양이온성 계면활성제 无效
标题翻译：氟化乙烯基阳离子表面活性剂
公开(公告)号：KR1020120087151A
公开(公告)日：2012-08-06
申请号：KR1020127012354
申请日：2010-10-07
申请人： 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니
发明人： 펭,셩 , 야케,알리슨,매리 , 카스퍼,쉐릴,린
IPC分类号： C07D213/61 , C07C309/24
CPC分类号： C07D213/20 , C11D3/28
摘要： 수성 매질 또는 용매 매질에서 표면 장력을 낮추기 위한 그리고 발포제로서 사용하기 위한 계면활성제 특성을 갖는, 하기 화학식 I의 플루오르화된 피리디늄 양이온성 화합물이 제공된다:
[화학식 I]

[여기서,
Rf는 F(CF
2 )
6 (CH
2 CF
2 )
m (CH
2 CH
2 )
n -이고,
m 및 n은 각각 독립적으로 1 내지 3의 정수이고,
R은 H, C
1 내지 C
5 선형 또는 분지형 알킬, 또는 C
1 내지 C
5 선형 또는 분지형 알콕시임].

16. 发明公开

KR1020070018857A 아릴－ 및 헤테로아릴－알킬술포닐 할라이드의 제조 방법 无效
标题翻译：制备ARYL的方法及其制备方法
公开(公告)号：KR1020070018857A
公开(公告)日：2007-02-14
申请号：KR1020067016904
申请日：2005-02-23
申请人： 와이어쓰 엘엘씨
发明人： 미찰락로날드에스 , 고쉬무수미 , 레벤트마무트
IPC分类号： C07C303/20 , C07C309/24 , C07C309/81
摘要： 본 발명은 약제의 제조에서 중간체로서 유용한 하기 화학식의 아릴알킬술포닐 할라이드 및 헤테로아릴알킬술포닐 할라이드의 제조 방법을 제공한다:
Ar-R-SO
2 -X

17. 发明授权

KR100634215B1 일광 차단 성분으로서의 캄포르 또는 히단토인 유도체로 치환된 디페닐 화합물 有权
标题翻译：被樟脑或乙内酰脲衍生物取代的二苯基化合物作为防晒组合物
公开(公告)号：KR100634215B1
公开(公告)日：2006-10-24
申请号：KR1020017004214
申请日：1999-09-21
申请人： 시바 홀딩 인크
发明人： 칭크루돌프 , 라이네르디이터 , 루터헬무트 , 헤르족베른트
IPC分类号： C07C309/24
摘要： 본 발명은 화학식 1의 디페닐 화합물에 관한 것이다.
화학식 1

상기식에서,
R은 캄포르 또는 히단토인 유도체 그룹이고,
R
1 은 수소 또는 C
1 -C
5 알킬이다.
이들 화합물은 화장품 제형, 약제학적 제형 및 수의학적 제형에서 광 안정화제로서 적합하다.
캄포르, 히단토인, 디페닐 화합물, 광 안정화제, 화장품 제형

18. 发明公开

KR1020210022028A 요오드-함유 광산 발생제 및 이를 포함하는 조성물 审中-实审
公开(公告)号：KR1020210022028A
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：KR1020210023086
申请日：2021-02-22
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 에마드아카드 , 제임스더블유.대커레이
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , C07C309/24 , C07D333/76
摘要： 식(I)을갖는광산발생제화합물: JPEGpat00034.jpg5436 (I) 식 (I)에서, 기및 변수는명세서에서기재된것과동일하다.

19. 发明授权

KR102220781B1 요오드-함유 광산 발생제 및 이를 포함하는 조성물 有权
公开(公告)号：KR102220781B1
公开(公告)日：2021-02-25
申请号：KR1020180134117
申请日：2018-11-05
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 에마드아카드 , 제임스더블유.대커레이
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G03F7/26 , C07C309/24 , C07D333/76
摘要： 식(I)을갖는광산발생제화합물: JPEGpat00034.jpg5436 (I) 여기서, 식 (I)에서, 기및 변수는명세서에서기재된것과동일하다.

20. 发明授权

KR102214668B1 에캄슐 분말의 건조 방법 有权
公开(公告)号：KR102214668B1
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：KR1020190147728
申请日：2019-11-18
申请人： 성균관대학교산학협력단
发明人： 김재훈 , 민이이 , 하리얀토패트릭
IPC分类号： C07C303/44 , C07C309/24
摘要： 에캄슐용액으로부터에탄올을제거하는에캄슐분말의건조방법이개시된다. 에캄슐분말의건조방법은반응기에에캄슐용액을주입하고제1 온도까지승온시키는제1 단계; 상기반응기로액화된이산화탄소를제1 유량으로연속적으로공급하는제2 단계; 상기이산화탄소가초임계상태가되도록상기반응기의압력을기설정된제1 압력까지상승시킨후 제1 시간동안유지하는제3 단계; 상기반응기내부의압력을상기제1 압력으로부터이보다높은제2 압력까지상승시킨후 상기제1 압력으로하강시키는유동압력사이클을기설정된횟수만큼인가하는제4 단계; 상기반응기내부의압력을대기압으로감압시키는제5 단계를구비한다.

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