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11. 发明公开

KR1020160143564A 마이크로구조 진단용 샘플을 제조하기 위한 방법, 및 마이크로구조 진단용 샘플 审中-实审
标题翻译：微结构诊断样本制备方法及微结构诊断样本
公开(公告)号：KR1020160143564A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：KR1020160069488
申请日：2016-06-03
申请人： 프라운호퍼-게젤샤프트 추르 푀르데룽 데어 안제반텐 포르슝 에 파우
发明人： 크라우제미하엘 , 슈써게오르크 , 회헤토마스
IPC分类号： G01N1/32 , G01N1/04
CPC分类号： G01N1/44 , G01N1/286 , G01N1/32 , G01N2001/2886 , H01J37/20 , H01J37/31 , H01J2237/204 , H01J2237/2602 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749 , G01N1/04 , G01N2001/045
摘要： 마이크로구조진단용샘플 (P) 을제조하기위한방법에서, 미리정할수 있는형태를갖는샘플보디 (PK) 는재료-삭마레이저빔 프로세싱을통하여기판으로부터제조된다. 추후에, 마이크로구조검사에적합한타겟체적 (ZV) 을노출시키도록레이저빔 프로세싱및/또는이온빔 프로세싱을통하여샘플보디의타겟부분 (ZA) 이추가로프로세싱된다. 상기방법은다음단계들: (a) 샘플보디가발생하도록기판표면에수직으로그리고/또는비스듬히적어도하나의레이저빔을방사함으로써적어도하나의레이저프로세싱작동에의해상기기판으로부터상기샘플보디 (PK) 를릴리스하는단계로서, 상기샘플보디는샘플보디상단측 (PO) 에서상기기판표면의영역에의해, 그리고, 측방향으로, 상기기판표면에대해비스듬히또는수직으로배향되는측면들에의해구획되고, 상기샘플보디의형태가생성되고, 상기형태는적어도하나의단단한핸들링부분 (HA1, HA2), 및상기핸들링부분에인접한, 상기핸들링부분에비해더 얇은타겟부분 (ZA) 을가지고, 상기타겟부분은협측에서상기샘플보디상단측 (PO) 에의해, 그리고, 측방향으로, 상기샘플보디상단측에대해수직으로또는비스듬히연장되는측면들에의해구획되는, 상기기판으로부터상기샘플보디 (PK) 를릴리스하는단계; (b) 상기샘플보디와분리되어있고규정된수용위치에서상기샘플보디를수용하기위해상기샘플보디의형태에적합화된수용구조들 (AST) 을가지는샘플보디홀더 (PH) 를제조하는단계; (c) 상기기판으로부터릴리스된상기샘플보디를제거하는단계; (d) 상기기판으로부터제거된상기샘플보디 (PK) 를, 상기샘플보디홀더의상기수용구조들에부착하여서, 상기샘플보디가상기수용위치에있는단계; (e) 상기타겟체적을노출하기위해레이저빔 프로세싱및/또는이온빔 프로세싱에의해상기타겟부분의영역에서상기샘플보디의적어도하나의측면의적어도하나의추가재료-삭마프로세싱단계를수행하는단계를포함한다.
摘要翻译：用于微结构诊断的样品包括具有容纳结构的样品体保持器，以将样品主体容纳在限定的容纳位置; 以及至少一个样本体，其与样本体保持器分离地产生，所述样本体具有至少一个固体处理部分，并且邻近所述处理部分相对于所述处理部分更薄的目标部分，所述目标部分在狭窄侧限定通过样本体顶侧，并且横向地，以相对于样本体顶侧垂直或倾斜的方式延伸的侧面，样本体被固定到住宿位置中的住宿结构。

12. 发明公开

KR1020160055076A 자동화된 TEM 샘플 준비 审中-实审
标题翻译：自动TEM样品制备
公开(公告)号：KR1020160055076A
公开(公告)日：2016-05-17
申请号：KR1020150155516
申请日：2015-11-06
申请人： 에프이아이 컴파니
发明人： 브로그덴발레리 , 블랙우드제프리 , 슈미트마이클 , 트리베디드루티 , 영리차드제이. , 밀러토마스쥐. , 루스브라이언로버츠주니어 , 스톤스테이시 , 템플턴토드
IPC分类号： G01N1/28 , G01N23/225 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/3023 , G01N1/286 , G01N2001/2873 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J37/3045 , H01J37/31 , H01J2237/208 , H01J2237/31745
摘要： 박편의자동화된추출들용이하게하는기술들이설명되며, 투과전자현미경들상의관측을위해박편이샘플그리드에부착된다. 본발명의일부실시예들은기계적시각화를사용하여박편, 프로브, 및/또는 TEM 그리드의위치들을결정하여프로브의박편으로의부착및 박편의 TEM 그리드로의부착을안내하는것과관련된다. 기계적시각화의사용을용이하게하는기술들은프로브팁을성형하는것을포함하고, 그에따라그것의위치가이미지인식소프트웨어에의해용이하게인식될수 있다. 이미지감산기술들이부착을위해 TEM 그리드로박편을이동하도록프로브에부착된박편의위치를결정하는데사용될수 있다. 일부실시예들에서, 참조구조물들이이미지인식을용이하게하기위해프로브상에서또는박편상에서밀링된다.
摘要翻译：描述了促进薄片自动提取的技术，并且薄片连接到样品网格上以在透射电子显微镜上观察。根据本发明的一些实施例，涉及的是机器视觉用于确定薄片，探针和/或TEM网格的位置，以将探针附着到薄片上，并且附接薄片到TEM网格。促进机器视觉使用的技术包括成形探针尖端，使得其位置能够容易地被图像识别软件识别。图像减法技术能够用于确定附着于探针的薄片的位置，以将薄片移动到TEM网格以进行附着。在一些实施例中，参考结构在探针上或薄片上研磨以便图像识别。

13. 发明授权

KR101521767B1 전자 비임 및 비임 스캐닝 속도의 범위를 이용한 초-경질 재료를 절삭하는 방법 有权
标题翻译：使用电子束切割超级材料的方法和光束扫描速度范围
公开(公告)号：KR101521767B1
公开(公告)日：2015-05-19
申请号：KR1020157007288
申请日：2013-08-14
申请人： 엘리먼트 씩스 테크놀로지스 리미티드
发明人： 워트크리스토퍼존하워드
IPC分类号： B23K15/08 , B23K15/10 , B28D5/00
CPC分类号： B23K15/08 , B23K15/00 , B23K15/0006 , B23K15/10 , B23K2203/08 , B23K2203/50 , B23K2203/52 , B26D5/00 , B28D5/00 , C30B33/08 , H01J37/31
摘要： 전자비임(6)을이용하여초-경질재료(8)를절삭하는방법으로서, 전자비임(6)은초-경질재료(8)의표면상으로지향되고, 전자비임(6)이 100 내지 5000 mms범위의전자비임스캐닝속도로초-경질재료(8)의표면에걸쳐서이동하여초-경질재료(8)를절삭하도록, 초-경질재료(8)의표면에걸쳐서이동된다.
摘要翻译：一种使用电子束（6）切割超硬材料（8）的方法，其中电子束（6）被引导到超硬材料（8）的表面上并相对于表面移动，使得电子束（6）以100-5000mms-1的电子束扫描速度跨过超硬材料（8）的表面移动，以切割超硬材料（8）。

14. 发明公开

KR1020150024336A 액적의 절삭 방법 및 액적 단면의 분석 방법 审中-实审
标题翻译： DROPLET切割方法和DROPLET交叉分段分析方法
公开(公告)号：KR1020150024336A
公开(公告)日：2015-03-06
申请号：KR1020147035425
申请日：2013-06-12
申请人： 닛토덴코 가부시키가이샤
发明人： 마에노요헤이 , 가토미츠로 , 하라구치미카
IPC分类号： G01N1/06 , G01N1/28 , H01J37/31
CPC分类号： G01N1/286 , B26D7/08 , G01N1/04 , G01N1/42 , G01N2001/2873 , H01J37/32321 , H01J2237/31749 , Y10T83/041 , G01N1/06 , G01N1/28 , H01J37/31
摘要： 액적을 용이하게 절삭해서 단면을 노출시킬 수 있는 액적의 절삭 방법을 제공한다. 또한, 그러한 절삭 방법에 의해 절삭되어 노출된 단면을 분석하는 액적 단면의 분석 방법을 제공한다. 본 발명의 액적의 절삭 방법은, 액적을 절삭해서 단면을 노출시키는 방법이며, 복수의 카본 나노 튜브를 구비하는 카본 나노 튜브 집합체의 표면에 액적을 적재하고, 그 액적이 고화되는 온도 이하의 냉각 온도로 냉각하고, 그 액적을 절삭한다. 본 발명의 액적 단면의 분석 방법은, 본 발명의 액적의 절삭 방법에 의해 절삭되어 노출된 단면을 분석한다.

15. 发明公开

KR1020130073882A 모서리 라운딩부를 교정하는 전자빔 리소그래피 방법 审中-实审
标题翻译：电子光栅的方法与角膜矫正的比较
公开(公告)号：KR1020130073882A
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：KR1020127028137
申请日：2011-04-13
申请人： 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈
发明人： 마나클리,세다르
IPC分类号： H01J37/317 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/31 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/78 , G03F7/2061 , G03F7/2063 , H01J37/3174
摘要： 본 발명은 전자빔 리소그래피 방법에 관한 것이며, 특히, 35㎚의 임계 선폭을 갖는 식각될 패턴의 경우, 특히, 인접한 패턴들의 모서리 라운딩의 효과를 갖고 식각되는 구성요소의 디자인의 신뢰도 문제를 해결하는 직접-쓰기 전자빔 리소그래피 방법에 관한 것이다. 본 발명은 임계 패턴을 결정하는 단계와, 외부 또는 내부 모서리 라운딩 효과에 따라 선택되는 치수와 사이트를 갖는 교정 패턴의 제거에 의해 교정 패턴을 결정하는 단계와, 교정된 디자인을 식각하는 단계를 포함한다. 바람직하게는, 임계 패턴의 파라미터를 고려하여 교정 모델을 계산함으로써 교정이 이뤄질 수 있다. 바람직하게는, 식각될 블록의 변부를 리사이징하고, 이와 함께, 에너지 래티튜드에 의한 복사 선량의 변조의 최적화에 의해, 상기 방법의 근접 효과의 교정이 수행된다. 바람직하게는, 리스케일링 및 부정 함수와 eRIF 함수가 파라미터를 최적화하고 압출을 구현하도록 사용될 수 있다.
摘要翻译：通过直接写入的电子束光刻的方法通过对连续图案的角进行四舍五入来解决蚀刻部件的设计的可靠性，特别是在要蚀刻的关键尺寸为35nm的图案中。该方法通过减去尺寸校正和位置校正的方式来确定关键模式和校正模式，作为要校正的外部或内部角落的舍入以及校正设计的蚀刻的函数。可以通过考虑关键模式的参数的校正模型来进行校正。还通过调整辐射剂量的调节来调整由能量纬度优化的待蚀刻块的边缘的大小来进行这些方法特有的邻近效应的校正。可以使用重新缩放和否定函数和eRIF函数来优化参数和实现挤出。

16. 发明授权

KR100819953B1 투과 전자 현미경 표본 홀더를 준비하기 위한 쿠폰 및 표본준비 방법 失效
标题翻译：聚焦离子束显微镜中快速样品制备的方法与装置
公开(公告)号：KR100819953B1
公开(公告)日：2008-04-08
申请号：KR1020067009108
申请日：2004-11-03
申请人： 옴니프로브 인코포레이티드
发明人： 무어토마스
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/20 , G01N1/286 , H01J37/26 , H01J37/3056 , H01J37/31 , H01J2237/31745 , H01J2237/31749
摘要： TEM 홀더(170)를 준비하기 위한 쿠폰(100)은, TEM 표본 홀더 형(170)을 구비하는 재료(120)의 시트를 포함한다. TEM 표본 홀더 형(170)을 시트(120)의 다른 부분에 연결하는 시트(102)의 적어도 일부분이 존재한다. TEM 표본 홀더(170)는, 프레스에서 쿠폰으로부터 TEM 표본 홀더 형(170)을 절단하는 것에 의해서 형성된다. 절단에 의해 미세 조작기 프로브 팁(10)의 팁 포인트(160)가 형성된 TEM 표본 홀더(170)와 접합된다. 팁 포인트(160)는 TEM에서 검사를 위해 부착된 표본(140)을 갖는다.

17. 发明公开

KR1020160142820A 브로드 이온 필드를 사용한 2차원 물질 천공 审中-实审
标题翻译： 2使用广泛的离子场来执行二维材料
公开(公告)号：KR1020160142820A
公开(公告)日：2016-12-13
申请号：KR1020167023723
申请日：2015-01-30
申请人： 록히드 마틴 코포레이션
发明人： 베드워쓰,피터브이.
IPC分类号： H01J37/31 , H05H3/02
CPC分类号： H01J37/31 , B01D69/02 , B01D69/12 , B01D71/021 , B01D2325/04 , H05H3/02
摘要： 요망되는크기범위, 협크기분포, 및고 홀밀도를포괄적으로갖는홀들을갖게그래핀및 이외다른 2차원물질을천공하는것은달성하기가어려울수 있다. 그래핀, 그래핀-기반의물질및 이외다른 2차원물질에연속하여접촉하는층은홀 형성을촉진하는데도움을줄 수있다. 2차원물질을천공하기위한프로세스는적어도한 층에연속하여접촉하는 2차원물질을이온소스에노출하고, 이온소스로부터복수의이온을 2차원물질과그리고적어도한 층과상호작용하는것을포함할수 있다. 이온소스는브로드이온빔일수 있다.
摘要翻译：具有包含所需尺寸范围，窄尺寸分布和高空穴密度的孔的穿孔石墨烯和其它二维材料可能难以实现。与石墨烯，石墨烯材料和其他二维材料连续接触的层可以帮助促进孔的形成。用于穿孔二维材料的方法可以包括将离子源暴露于与至少一层连续接触的二维材料，以及使来自离子源的多个离子与二维材料相互作用并且至少与一层离子源可以是宽离子束。

18. 发明公开

KR1020150015437A 전하 캐리어 빔의 빔 매개변수 측정 방법, 측정 장치 및 전하 캐리어 빔 장치 审中-实审
标题翻译：用于确定充电载波波束，测量装置和充电载波波束装置的波束参数的方法
公开(公告)号：KR1020150015437A
公开(公告)日：2015-02-10
申请号：KR1020147028508
申请日：2013-03-11
申请人： 알더블유티에이치 아헨 , 엑삭트 시스템스 게엠베하
发明人： 라이스겐,우베 , 드브리스,옌스 , 박하우스,알렉산더 , 바우어,한스-페터 , 우퍼,세바스티안 , 라이헨베륵,베른트 , 슈미츠-켐펜,토어스텐
IPC分类号： B23K15/00 , G01T1/29 , H01J37/244 , H01J37/31
CPC分类号： G01R19/0061 , B23K15/0013 , B23K15/0026 , G21K1/04 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3053 , H01J37/31 , H01J37/315 , H01J2237/24514 , H01J2237/24542 , H01J2237/303
摘要： 본 발명은 전하 캐리어 빔의 빔 매개변수 측정 방법, 측정 장치 및 전하 캐리어 빔 장치에 관한 것이다. 전하 캐리어 빔 장치(1)의 전하 캐리어 빔(4)은, 다이어프램 장치(7)에 제공되어 있으며 하나 이상의 슬릿 다이어프램(8)을 갖는 슬릿 다이어프램 시스템에서, 빔 편향 유닛(3)에 의해 가이드된다. 슬릿 다이어프램 시스템을 통과하는 빔 성분의 측정 면-좌표를 측정한다. 측정 면-좌표에 기초하여, 다이어프램 장치에 배열된 측정 다이어프램(9)이 미리 정해진 측정 기준점으로 이동되도록, 다이어프램 장치는 자동으로 이동된다. 빔 매개변수는 측정 다이어프램을 통해 측정된다. 상술한 방법을 실시하는 측정 장치(5)에서, 슬릿 다이어프램 시스템은 서로 평행하지 않는 적어도 두 개의 슬릿 다이어프램 섹션(12, 13, 15, 16)을 구비하며, 이 섹션은 하나의 연속하는 슬릿 다이어프램에 해당 될 수 있다.

19. 发明公开

KR1020140108662A 표면-아래 결함 검토를 위한 샘플들의 준비를 위한 시스템들 및 방법들 审中-实审
标题翻译：用于准备表面缺陷评估样本的系统和方法
公开(公告)号：KR1020140108662A
公开(公告)日：2014-09-12
申请号：KR1020147017909
申请日：2012-11-28
申请人： 케이엘에이-텐코 코포레이션
发明人： 캄포치아로세실리아 , 시아오홍 , 반리에트마이클 , 클라크벤자민 , 신하하쉬
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01L22/20 , H01J37/28 , H01J37/31 , H01J2237/2817 , H01L22/12
摘要： 일 실시예는 주사 전자 현미경 장치를 사용하는 표면 아래 검토를 위한 기판의 샘플의 준비 방법에 관련된다. 제1 결과 파일에 표시된 위치에 있는 결함이 재검출되고, 결함의 위치는 결함의 위치에 관하여 미리 결정된 포지셔닝을 갖는 적어도 하나의 이산 마킹 포인트로 마킹된다. 결함의 위치는 디바이스에 대한 설계에 관하여 결정될 수 있으며, 컷 위치 및 컷 각도는 그 정보를 사용하여 적어도 부분 자동화된 방식으로 결정될 수 있다. 다른 실시예는 표면 아래 검토를 위해 샘플을 준비하기 위한 시스템과 관련된다. 다른 실시예는 타겟 기판 상의 검토를 위해 결함을 마킹하기 위한 방법에 관련된다. 다른 실시예들, 양상들 및 피쳐가 또한 개시된다.

20. 发明授权

KR101392521B1 이온 밀링 장치 有权
标题翻译：离子切割装置
公开(公告)号：KR101392521B1
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：KR1020127002273
申请日：2010-07-14
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 가네꼬,아사꼬 , 무또,히로부미 , 가미노,아쯔시
IPC分类号： H01J37/09 , G01N1/28 , G01N1/32 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/09 , G01N1/286 , H01J37/20 , H01J37/305 , H01J37/31
摘要： 본발명은, 이온밀링장치의이온원(1)과시료(7)의사이에서시료에접촉하는위치에배치되는차폐판(8, 10)으로서, 상기차폐판은, 중심에개구를갖는원형이고, 상기개구를통과하는축(11)에대해회전할수 있는것을특징으로한다. 그리고상기차폐판의단부의상기이온원측의면에는홈을형성하고, 또한, 상기차폐판의단부에는경사면을설치하였다. 이에의해, 가공가능횟수를늘리고, 차폐판위치조정을정밀도높게행할수 있는차폐판을갖는이온밀링장치를제공하는것이가능하게되었다.

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