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11. 发明授权

KR101440449B1 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체 有权
公开(公告)号：KR101440449B1
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：KR1020140017634
申请日：2014-02-17
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 시마모토사토시 , 오리하시유고 , 하시모토요시토모 , 히로세요시로
IPC分类号： H01L21/318
CPC分类号： H01L21/0228 , B08B7/00 , H01L21/02126 , H01L21/02211 , H01L21/02263
摘要： 본 발명은 저온 영역에서 이물의 발생을 억제하면서 양질의 박막을 형성한다.
처리 용기 내의 기판에 대하여 소정 원소와 할로겐 원소를 포함하는 원료 가스를 공급하는 공정과, 상기 처리 용기 내의 상기 기판에 대하여 탄소, 질소 및 수소의 3원소로 구성되는 가스를 공급하는 공정을 포함하는 사이클을 소정 횟수 수행하는 것에 의해, 상기 기판 상에 적어도 상기 소정 원소 및 탄소를 포함하는 박막을 형성하는 공정; 및 상기 박막 형성 후의 상기 처리 용기 내에 질화 가스를 공급하는 것에 의해 상기 처리 용기 내에 부착된 부생성물을 개질하는 공정;을 포함한다.

12. 发明授权

KR101433959B1 초음파 교반 및 인가된 전계를 이용한 정전척의 세정 有权
标题翻译：使用超声波激发和应用电场清洁静电切片
公开(公告)号：KR101433959B1
公开(公告)日：2014-08-25
申请号：KR1020087018189
申请日：2006-12-11
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 스테거로버트제이
IPC分类号： B08B3/12 , B08B3/00
CPC分类号： B08B3/12 , B08B7/00
摘要： ESC의 세정 방법은 ESC의 세라믹 표면을 유전성 유체에 침지시키는 단계; 유전성 유체가 ESC의 세라믹 표면과 도전성 표면 사이의 간격을 충전하도록 ESC의 세라믹 표면을 도전성 표면으로부터 이격시키는 단계; 및 유전성 유체를 초음파 교반 처리하면서, 동시에 ESC에 전압을 인가하는 단계를 포함한다.
정전척, 세정, 유전성 유체

13. 发明授权

KR101414429B1 기판을 세정하는 방법 및 물질 有权
标题翻译：清洗基材的方法和材料
公开(公告)号：KR101414429B1
公开(公告)日：2014-07-01
申请号：KR1020060138261
申请日：2006-12-29
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 프리어에릭엠 , 드라리오스존엠 , 미카리켄코카트리나 , 래브킨마이클 , 코로리크미하일 , 리데커프레드씨
IPC分类号： H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B3/04 , B08B7/00 , C11D11/0047 , C11D17/0013 , C11D17/0017 , G03F1/82 , H01L21/02057 , H01L21/02096 , H01L21/67051
摘要： 삼상체 (tri-state body) 를 사용하여 세정하는 방법들이 개시된다. 파티클이 위에 퇴적된 기판이 제공된다. 고체부, 액체부 및 기체부를 갖는 삼상체가 생성된다. 힘이 삼상체에 가해져서 고체부와 파티클 사이의 상호작용을 발생시킨다. 삼상체는 기판의 표면으로부터 파티클과 함께 제거된다. 고체부와 파티클 사이의 상호작용으로 인하여 파티클이 삼상체와 함께 제거된다.
삼상체, 세정, 파티클

14. 发明公开

KR1020140069023A 질화물 반도체 제조 장치용 부재의 세정 방법, 및 질화물 반도체 제조 장치용 부재의 세정 장치 审中-实审
标题翻译：氮化物半导体制造装置材料洗涤方法和氮化物半导体制造装置材料洗涤装置
公开(公告)号：KR1020140069023A
公开(公告)日：2014-06-09
申请号：KR1020147007783
申请日：2012-09-25
申请人： 다이요 닛산 가부시키가이샤
发明人： 아리무라다다노부 , 다부치도시야
IPC分类号： H01L21/304 , B08B7/00 , C23C16/44 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC分类号： B08B7/0021 , B08B7/00 , C23C16/4401 , C23C16/4405
摘要： 질화물 반도체 제조 장치를 구성하는 부재 중, 질화물 반도체를 포함하는 퇴적물이 부착된 질화물 반도체 제조 장치용 부재(13)의 세정 방법으로서, 염소계 가스를 포함하는 세정 가스에 의해, 질화물 반도체 제조 장치용 부재를 화학 처리하는 공정과, 승화성을 갖는 고체상 물질을 분사하여, 질화물 반도체 제조 장치용 부재(13)로부터 퇴적물을 제거하는 공정을 포함한다.

15. 发明公开

KR1020140068070A 점 용접 전극들의 용접 영역을 밀링하는 장치 有权
标题翻译：点火焊接电极焊接区域的装置
公开(公告)号：KR1020140068070A
公开(公告)日：2014-06-05
申请号：KR1020147007095
申请日：2012-09-13
申请人： 루츠 프레시젼, 케이. 에스.
发明人： 파흐넨스티히,스테판
IPC分类号： B23C3/12 , B08B1/04 , B23Q11/00 , B23B5/16
CPC分类号： B23K11/3063 , B08B1/00 , B08B1/002 , B08B1/005 , B08B1/008 , B08B1/04 , B08B7/00 , B23B5/166 , B23C3/00 , B23Q11/02 , Y10T409/304088 , Y10T409/304256 , B23C3/12 , B23B5/16 , B23Q11/00
摘要： 본 발명은, 점 용접 전극들의 용접 영역을 밀링하는 장치에 관한 것으로서, 이 장치는 세척 유닛(24)과 함께 밀링 도구(21)를 포함하고, 세척 유닛은, 밀링 도구를 세척하도록 구성되고 브러시(26) 등의 적어도 하나의 이동가능한 기계 세척 요소를 구비한다.

16. 发明公开

KR1020140060425A 우렁쉥이용 양식섶 청소기 无效
标题翻译： ASCIDIAN文化清洁剂
公开(公告)号：KR1020140060425A
公开(公告)日：2014-05-20
申请号：KR1020120126861
申请日：2012-11-09
申请人： 신재완
发明人： 신재완
IPC分类号： A01K61/00 , A01K80/00 , B08B7/00
CPC分类号： Y02A40/81 , A01K63/10 , B08B7/00
摘要： The purpose of the present invention is to provide a cleaner for an ascidian culturing bed comprising a conveyor having frames provided at both sides and a pressing roller positioned above a driving roller of the conveyor, further comprising: arc-shaped supports each having one end combined with a shaft of the pressing roller and the other end shaft-combined with a middle portion of each of the frames; and a hydraulic cylinder consisting of a cylinder case having one end shaft-combined with the frame at the driving roller, and a cylinder rod stretchable from the cylinder case and having an end shaft-combined with a middle portion of the support. According to the present invention, the pressing roller is moved above and below by the hydraulic cylinder, and thus subsidiary materials such as a rope for ascidian and the like can be freely moved without disassembling and assembling the pressing roller, thereby simultaneously performing the cleaning of the ascidian culturing bed and the movement of the subsidiary materials and thus improving working efficiency.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种用于腹部培养床的清洁器，其包括具有设置在两侧的框架的输送机和位于输送机的驱动辊上方的加压辊，还包括：各自具有一端的弧形支撑其中加压辊的轴和另一端轴与每个框架的中间部分组合; 以及液压缸，其由具有在驱动辊上的框架结合的一个端轴的气缸壳体和从所述气缸壳体伸缩并具有与所述支撑件的中间部分组合的端轴的气缸杆组成。根据本发明，通过液压缸使加压辊上下移动，因此可以在不拆卸和组装加压辊的情况下自由地移动诸如用于腹部的绳索等辅助材料，从而同时进行清洗腹水培养床和辅助材料的运动，从而提高工作效率。

17. 发明授权

KR101384191B1 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기록 매체 有权
标题翻译：制造半导体器件的方法，处理衬底的方法，衬底处理装置和非电子计算机可读记录介质
公开(公告)号：KR101384191B1
公开(公告)日：2014-04-10
申请号：KR1020130027720
申请日：2013-03-15
申请人： 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키
发明人： 시마모토사토시 , 오리하시유고 , 하시모토요시토모 , 히로세요시로
IPC分类号： H01L21/318 , H01L21/205
CPC分类号： H01L21/0228 , B08B7/00 , H01L21/02126 , H01L21/02211 , H01L21/02263
摘要： 본 발명은 저온 영역에서 이물의 발생을 억제하면서 양질의 박막을 형성한다.
처리 용기 내의 기판에 대하여 소정 원소와 할로겐 원소를 포함하는 원료 가스를 공급하는 공정과, 상기 처리 용기 내의 상기 기판에 대하여 아민계 가스를 공급하는 공정과, 상기 처리 용기 내의 상기 기판에 대하여 산화 가스를 공급하는 공정을 포함하는 사이클을 소정 횟수 수행하는 것에 의해, 상기 기판 상에 상기 소정 원소, 산소, 탄소 및 질소를 포함하는 박막 또는 상기 소정 원소, 산소 및 탄소를 포함하는 박막을 형성하는 공정; 및 상기 박막 형성 후의 상기 처리 용기 내에 질화 가스를 공급하는 것에 의해 상기 처리 용기 내에 부착된 부생성물을 개질하는 공정;을 포함한다.

18. 发明授权

KR101343250B1 가스 공급 장치, 가스 공급 방법, 박막 형성 장치의 세정 방법, 박막 형성 방법, 박막 형성 장치, 및 기억 매체 有权
标题翻译：气体供给装置，气体供给方法，清洗薄膜成形装置的方法，薄膜成形方法，薄膜成型装置和储存介质
公开(公告)号：KR101343250B1
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：KR1020070102328
申请日：2007-10-11
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
发明人： 나까오겐 , 가또오히또시 , 오까베쯔네유끼 , 오까다미쯔히로 , 혼마마나부 , 하네이시도모끼
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： C23C16/4405 , B08B7/00 , B08B9/00 , B08B9/027 , C23C16/455
摘要： 박막형성장치(1)는, 반응실(2)과, 반응실(2)에연결된배기관(5)을갖고, 반응실(2) 또는배기관(5)에불소와수소를포함하는클리닝가스를공급하기위해, 불소도입관(17c)과수소도입관(17d)이반응실(2)에연결되어있다. 이중 수소도입관(17d)은, 내부유로(174)와, 내부유로(174)를덮도록형성된외부유로(175)를갖고있다. 내부유로(174)로부터수소가공급되고, 외부유로(175)로부터질소가공급된다. 이로인해, 내부유로(174)로부터공급된수소는, 그주위가질소로덮인상태에서수소도입관(17d)으로부터공급된다.

19. 发明授权

KR101282453B1 세정 장치 및 세정 방법 有权
标题翻译：清洁装置和清洁方法
公开(公告)号：KR101282453B1
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：KR1020107028811
申请日：2009-06-30
申请人： 가부시키가이샤 리코
发明人： 사토다츠야 , 오카모토요이치 , 후치가미아키히로 , 다네다유우스케
IPC分类号： B08B7/00 , B08B5/02
CPC分类号： B08B5/02 , B08B7/00 , B08B7/02
摘要： 본원에는 세정 대상물에 부착된 부착물을 제거하는 세정 장치가 개시되어 있다. 이 세정 장치는, 복수의 박편 형상의 세정 매체를 수용하는 공간을 형성하는 세정 챔버; 세정 챔버에서 세정 매체를 비상(飛翔)하게 하여 반복적으로 세정 대상물과 충돌하게 함으로써 세정 대상물에 부착된 부착물을 제거하기 위해, 순환 기류를 발생시키도록 구성된 순환 기류 발생 유닛; 및 세정 대상물과 충돌한 세정 매체에 부착된 부착물을 흡입 및 제거하여 세정 매체를 재생하도록 구성된 세정 매체 재생 유닛을 포함한다. 상기 세정 매체의 연필 경도는 부착물의 연필 경도보다 크다.

20. 发明授权

KR101046357B1 플라즈마처리장치의 시즈닝방법 및 시즈닝의 종료 판정방법 失效
标题翻译：调节等离子体处理设备的方法和确定调味终止的方法
公开(公告)号：KR101046357B1
公开(公告)日：2011-07-05
申请号：KR1020090007850
申请日：2009-02-02
申请人： 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈
发明人： 니시모리야스히로 , 우치다히로시게 , 사카구치마사미치 , 히로타고사
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32963 , B08B7/00 , H01J37/32192 , H01J37/32862
摘要： 본 발명은 웨트 클리닝(wet cleaning) 후의 시즈닝에 걸리는 시간을 단축하고, 또한, 재현성 좋게 최적의 시즈닝처리 종료 판정이 가능한 플라즈마처리장치의 시즈닝 종료 판정방법을 제공하는 것이다.
이를 위하여 본 발명에서는 플라즈마처리장치의 웨트 클리닝(S501) 후, 처리가스에 SF
6 을 함유하는 처리가스를 사용하고, 양산 조건의 2배의 RF 바이어스를 인가하여 시즈닝(S502)하고, SiF와 Ar 가스를 사용한 검사조건으로 플라즈마처리 중의 SiF 및 Ar 발광 데이터를 취득하고(S503), 시즈닝 중의 발광강도의 연산값이 양산 안정시의 발광강도의 연산값 이하인지의 여부를 판단하여(S504), 판단이 이하일 때에 시즈닝 처리의 종료를 판정한다.
摘要翻译：本发明是缩短湿式清洗（湿清洗）之后调料所需要的时间，并且进一步地，良好的再现性提供一种能够最佳调料处理结束判别的等离子体处理装置的调味终止确定方法。

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