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11. 发明公开

KR1020170080101A 은 나노와이어의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 은 나노와이어 有权
标题翻译：一种制造纳米线和银纳米线的方法
公开(公告)号：KR1020170080101A
公开(公告)日：2017-07-10
申请号：KR1020150191315
申请日：2015-12-31
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 나혜성 , 허회준 , 김상호
IPC分类号： B22F9/06 , B22F1/00
摘要： 본발명은은 나노와이어의제조방법에관한것으로서, 상세하게는 Ag 또는 Ag 합금에용융된 Na 용액을첨가함으로써, Na 용액에 Ag 또는 Ag 합금이용융된혼합물을제조하는제 1 단계; 상기혼합물을진공상태에서가열한후 냉각함으로써, 와이어형상의 Ag를포함하는 Na 응고체를제조하는제 2 단계; 및상기응고체에알코올을첨가하여반응시킴으로써응고체를액상화한다음, 정제하여 Na을제거함으로써, 은나노와이어를제조하는제 3 단계;를포함하는것을특징으로하는, 은나노와이어의제조방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种制造纳米线的方法，具体而言，制备Ag或Ag合金的混合物的第一步骤中，由添加Na的溶液的Na溶液在Ag或Ag合金熔体熔体; 第二步，在真空状态下加热混合物，然后将其冷却以产生含有丝状Ag的Na凝固固体; 涉及一种制造银线，包括的方法;以及通过添加醇与固体液化由反应固体的响应所产生的响应的第三步骤中，通过去除钠得到，银线。

12. 发明公开

KR1020130067151A 오스테나이트계 저-니켈 합금주철 有权
标题翻译：奥斯汀低镍合金铸铁
公开(公告)号：KR1020130067151A
公开(公告)日：2013-06-21
申请号：KR1020110134022
申请日：2011-12-13
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 나혜성 , 박기덕 , 허회준
IPC分类号： C22C37/08
CPC分类号： C22C37/08 , C21D2211/001 , C22C37/10 , C22C2200/02
摘要： PURPOSE: An austenite-based low nickel alloy cast iron is provided to have abrasion resistance and mechanical properties by controlling the component of alloy such as silicon, aluminum, and chrome to have non-magnetism because the intensity of magnetization and coercive force are low. CONSTITUTION: An austenite-based low nickel alloy cast iron is composed of 2.5-3.0 wt.% of carbon, 3.0-4.0 wt.% of silicon, 0.5-1.0 wt.% of chrome, 5.5-7.0 wt.% of nickel, 6.0-8.0 wt.% of manganese, and the rest of iron and inevitable impurities and is nonmagnetic. [Reference numerals] (AA) Comparative example 1; (BB) Example 1; (CC) Example 2
摘要翻译：目的：通过控制硅，铝和铬等合金的组分，由于磁化强度和矫顽力都很低，因此提供奥氏体型低镍合金铸铁具有耐磨性和机械性能。构成：奥氏体型低镍合金铸铁由2.5-3.0重量％的碳，3.0-4.0重量％的硅，0.5-1.0重量％的铬，5.5-7.0重量％的镍， 6.0-8.0重量％的锰，其余的铁和不可避免的杂质是非磁性的。（附图标记）（AA）比较例1; （BB）实施例1; （CC）实施例2

13. 发明公开

KR1020120019088A 용가재 합금 조성물 有权
标题翻译：填充金属合金组成
公开(公告)号：KR1020120019088A
公开(公告)日：2012-03-06
申请号：KR1020100082233
申请日：2010-08-25
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 김명복
IPC分类号： B23K35/28 , B23K35/24 , B23K1/00 , C22C9/04
摘要： PURPOSE: Filler-metal alloy composition is provided to reduce manufacturing costs by minimizing the content of Ag and adding a small amount of Sn and Li. CONSTITUTION: Filler-metal alloy composition comprises Ag, Cu, Zn, Sn, Li and other inevitable impurities. The composition ratio of the filler-metal alloying composition comprises Ag of 20-24 weight%, Cu of 36-45 weight%, Zn of 29-39 weight%, Sn of 1-3 weight%, Li of 0.1-1.0 weight% and other inevitable impurities. The filler-metal alloy composition is braze-welded to a connecting part between bases so that homogeneous bases or heterogeneous bases can be stably bonded.
摘要翻译：目的：提供填料 - 金属合金组合物，通过最小化Ag的含量和少量的Sn和Li来降低制造成本。构成：填料 - 金属合金组成包括Ag，Cu，Zn，Sn，Li等不可避免的杂质。填料 - 金属合金组合物的组成比包含20-24重量％的Ag，36-45重量％的Cu，29-39重量％的Zn，1-3重量％的Sn，0.1-1.0重量％的Li，和其他不可避免的杂质。将填料 - 金属合金组合物钎焊到基底之间的连接部分上，使得能够稳定地粘合均匀的基底或非均匀的基底。

14. 发明授权

KR101086149B1 저주파를 이용한 금속표면의 플라즈마 세정방법 및 그 방법에 의하여 세정된 금속 有权
标题翻译：使用低频等离子体清洗金属表面的方法和通过该方法清洗的基板
公开(公告)号：KR101086149B1
公开(公告)日：2011-11-25
申请号：KR1020090117543
申请日：2009-12-01
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 조승재 , 이아름
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/302
摘要： 본 발명은 진공가능한 처리용기 내에서 상부전극과 대향하여 배치되는 하부전극 상에 상기 피처리 금속을 위치시키고, 상기 상부전극과 상기 하부전극의 사이에 위치하는 가열 플레이트의 온도를 100 내지 250℃로 가열하고, 수소 가스를 유입하여 수소 분위기를 형성하고, 상기 하부전극에 주파수 10 KHz 내지 500 KHz의 범위 내로 설정된 저주파를 인가하여 금속 산화막을 제거하는 것을 포함하는 저주파를 이용한 금속표면의 플라즈마 세정방법을 개시한다. 본 발명에 따르면, 플라즈마 발전기 중 가장 가격이 저렴하고, 실 공정장치에 제작이 용이한 저주파 플라즈마를 사용하여 수소 라디칼을 발생시켜 금속을 세정하는 방법이므로, 기존 RF(Radio Frequency) 및 마이크로웨이브 등의 플라즈마 처리 공정에 비해 경제적 측면 및 효율 면에서 뛰어나며, 산화환원 반응에 기초하여 금속 산화막을 순수 금속으로 환원시킨다.
플라즈마, 세정, 저주파, 금속, 기판

15. 发明公开

KR1020140071581A 테일러 웰디드 블랭크, 그 제조방법 및 이를 이용한 핫스탬핑 부품 有权
标题翻译： TAILOR焊接BLNK和热冲压部件使用它
公开(公告)号：KR1020140071581A
公开(公告)日：2014-06-12
申请号：KR1020120139035
申请日：2012-12-03
申请人： 현대하이스코 주식회사 , 부산대학교 산학협력단
发明人： 권민석 , 김윤규 , 김영진 , 강정윤 , 공종판 , 오명환 , 신현정 , 오승택
IPC分类号： B23K26/20 , B23K26/32 , B23K35/22 , B21D22/02
CPC分类号： B32B15/01 , B23K26/211 , B23K26/24 , B23K26/32 , B23K26/322 , B23K2201/185 , B23K2201/34 , B23K2203/08 , B23K2203/50 , B32B7/04 , B32B15/011 , B32B15/013 , Y10T428/12229 , Y10T428/12396 , Y10T428/12757 , Y10T428/12799
摘要： Disclosed are a tailor welded blank manufactured by connecting different types or different thicknesses of blanks and a method for manufacturing the tailor welded blank and, more specifically, to a tailor welded blank and a method for manufacturing the tailor welded blank capable of solving a quality problem of a bonded part. In the present invention, plating steel sheet blanks with different strengths or different thicknesses are bonded by laser welding using a filler wire. The laser welding-based bonded part provides a hot stamping component manufactured by performing hot stamping on the tailor welded blank with a martensite structure.
摘要翻译：公开了通过连接不同类型或不同厚度的坯料制造的定制焊接坯件以及用于制造裁缝焊接坯料的方法，更具体地说，涉及一种定制焊接坯件和一种用于制造裁缝焊接坯料的方法，其能够解决质量问题的粘合部分。在本发明中，通过使用填充丝的激光焊接来接合具有不同强度或不同厚度的电镀钢板坯料。基于激光焊接的接合部件提供通过用马氏体结构在定制焊接的坯料上进行热冲压制造的热冲压部件。

16. 发明授权

KR101113438B1 반도체 칩의 실장 방법 失效
标题翻译：半导体芯片的安装方法
公开(公告)号：KR101113438B1
公开(公告)日：2012-02-29
申请号：KR1020100018159
申请日：2010-02-26
申请人： 삼성전기주식회사 , 부산대학교 산학협력단
发明人： 이동규 , 강정윤 , 최진원 , 문선재 , 조승재 , 이아름 , 정태준
IPC分类号： H01L21/60 , H01L23/48
CPC分类号： H01L2224/16225 , H01L2924/07811 , H01L2924/00
摘要： 본 발명은 반도체 칩의 실장 방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 반도체 칩의 실장 방법은 반도체 칩의 본딩 패드 상에 형성된 금속 범프와 인쇄회로 기판에 형성된 금속 배선 중 적어도 하나의 영역에 수소 플라즈마 처리를 수행하는 단계; 및 상기 금속 범프 및 상기 금속 배선을 접합하는 단계;를 포함한다. 본 발명에 따르면, 수소 플라즈마 처리에 의하여 금속 범프 및 금속 배선의 금속 산화막은 제거되고, 일정시간 동안 재산화가 방지된다. 이에 따라, 반도체 칩의 실장 공정은 상온 또는 상압하에서 실시될 수 있다.

17. 发明公开

KR1020110061031A 저주파를 이용한 금속표면의 플라즈마 세정방법 및 그 방법에 의하여 세정된 금속 有权
标题翻译：使用低频等离子体清洗金属表面的方法和方法清洗的基板
公开(公告)号：KR1020110061031A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020090117543
申请日：2009-12-01
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 조승재 , 이아름
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/02068
摘要： PURPOSE: A method for cleaning a metal surface with plasma using a low frequency and a manufacturing method thereof are provided to clean metal by generating hydrogen radical. CONSTITUTION: A bottom electrode(16) is prepared on the bottom of a chamber(10). A top electrode(17) is arranged on the upper side of the bottom electrode. A gas outlet(18) is formed on the top electrode to comprise a shower head. An exhaust port(31) is formed on the bottom of the chamber. A low frequency generator(15) transmits low frequency power to the chamber through the top electrode.
摘要翻译：目的：提供一种使用低频度清洗具有等离子体的金属表面的方法及其制造方法，以通过产生氢根来清洁金属。构成：在室（10）的底部准备底部电极（16）。顶部电极（17）布置在底部电极的上侧。气体出口（18）形成在顶部电极上以包括淋浴头。排气口（31）形成在室的底部。低频发生器（15）通过顶部电极向腔室传输低频功率。

18. 发明公开

KR1020180058540A 도금 보론강의 용접성 개선방법 및 이에 의해 제조되는 용접성이 개선된 도금 보론강 有权
公开(公告)号：KR1020180058540A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：KR1020160157646
申请日：2016-11-24
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 윤태진 , 박중건 , 이재형 , 곽승윤 , 이정용 , 김민정
IPC分类号： C22C38/32 , C22C21/00 , C22C38/26 , C22C38/22 , C22C38/28 , B23K26/21 , B21D22/20 , B21D37/16 , C23C2/12 , B23K101/34
CPC分类号： C22C38/32 , B21D22/20 , B21D37/16 , B23K26/21 , B23K2101/34 , C22C21/00 , C22C38/22 , C22C38/26 , C22C38/28 , C23C2/12
摘要： 본발명은도금보론강의용접성개선방법에관한것으로서, 상세하게는, 보론강재질의모재표면에, Mn 5 ~ 11중량%, Si 1 ~ 8중량%, 나머지는 Al과불가피한불순물로이루어지는 Al-Mn-Si 도금층을형성하는제 1 단계; 상기 Al-Mn-Si 도금층이형성된모재간에, 상기도금층을그대로유지한상태에서레이저용접을수행하여용융경계부및 용융부를포함한용접접합부를형성하는제 2 단계; 및상기제 2 단계완료후 핫스탬핑을수행하여, 상기용융경계부에도금층과떨어진위치에불연속적으로형성된델타페라이트상을형성하는제 3 단계;를포함하는것을특징으로하는, 도금보론강의용접성개선방법에관한것이다.

19. 发明授权

KR101780306B1 은 나노와이어의 제조방법 및 이에 의해 제조되는 은 나노와이어 有权
公开(公告)号：KR101780306B1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020150191315
申请日：2015-12-31
申请人： 부산대학교 산학협력단
发明人： 강정윤 , 나혜성 , 허회준 , 김상호
IPC分类号： B22F9/06 , B22F1/00
摘要： 본발명은은 나노와이어의제조방법에관한것으로서, 상세하게는 Ag 또는 Ag 합금에용융된 Na 용액을첨가함으로써, Na 용액에 Ag 또는 Ag 합금이용융된혼합물을제조하는제 1 단계; 상기혼합물을진공상태에서가열한후 냉각함으로써, 와이어형상의 Ag를포함하는 Na 응고체를제조하는제 2 단계; 및상기응고체에알코올을첨가하여반응시킴으로써응고체를액상화한다음, 정제하여 Na을제거함으로써, 은나노와이어를제조하는제 3 단계;를포함하는것을특징으로하는, 은나노와이어의제조방법에관한것이다.

20. 发明授权

KR101613704B1 아나타제상 이산화티탄 광촉매 코팅층의 형성방법 有权
标题翻译：制备钛酸二氧化钛涂层的方法
公开(公告)号：KR101613704B1
公开(公告)日：2016-04-29
申请号：KR1020150008151
申请日：2015-01-16
申请人： 부산대학교 산학협력단 , 재단법인 하이브리드 인터페이스기반 미래소재 연구단
发明人： 강정윤
IPC分类号： C23C24/00 , C23C24/04 , C23C24/10
CPC分类号： C23C24/04 , C23C24/106
摘要： 본발명은아나타제상이산화티탄광촉매코팅층의형성방법에관한것으로, 보다구체적으로는이산화티탄분말및 금속분말을혼합하여코팅용분말을제조하는단계; 및금속모재표면에상기코팅용분말을저온에서분사하는단계;를포함하여, 상기금속모재표면에아나타제상이산화티탄광촉매코팅층을형성하는것을특징으로하는, 아나타제상이산화티탄광촉매코팅층의형성방법에관한것이다. 본발명의방법에따라코팅층을형성할경우, 저온분사에의하여광촉매코팅층을형성함으로써상변태가발생하지않고아나타제상을유지하여광촉매효율을높일수 있고, 아나타제상의이산화티탄분말과연질의금속분말을포함하는혼합분말을이용함으로써두꺼운코팅층을형성하게되어물성이우수한코팅층을형성할수 있게되면서도, 그공정이간단하여공정비용을절감할수 있는효과가있다.
摘要翻译：本发明涉及形成锐钛型二氧化钛光催化涂层的方法。具体地说，形成锐钛矿型二氧化钛光催化剂涂层的方法包括：通过将二氧化钛粉末与金属粉末混合来制造涂料粉末的步骤; 以及在低温下将涂料粉末注入到金属基材的表面上的工序。形成锐钛型二氧化钛光催化涂层的方法允许在金属基材的表面上形成锐钛矿型二氧化钛光催化涂层。在根据本发明形成涂层的情况下，可以提高光催化效率，因为通过在低温下注入形成光催化涂层，因此不会产生相转变并且保持锐钛矿相。此外，使用包含二氧化钛粉末和软金属粉末的混合粉末，形成厚的涂层，因此涂层具有优异的材料性质。此外，其工艺简单，因此可以降低加工成本。

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