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    • 11. 发明公开
    • 술폰산기를 포함하는 다면체 올리고머형 실세스퀴옥산을 포함하는 나노 복합막 및 이의 제조방법
    • 包含具有磺酸基的多元醇低聚硅氧烷的磺化纳米复合膜及其制备方法
    • KR1020160006819A
    • 2016-01-20
    • KR1020140085839
    • 2014-07-09
    • 서강대학교산학협력단
    • 이희우김상우윤태웅
    • H01B1/12H01B5/14C07F7/21
    • H01M8/1051B01J39/19C08J5/2256C08J5/2275C08J2371/10C08J2381/06H01B1/12H01M8/1025H01M8/1048H01M8/1069H01M2008/1095H01M2300/0068H01M2300/0082H01M2300/0091Y02P70/56H01M8/00C07F7/21H01B5/14
    • 본발명은우수한양성자전도성및 기계적강도를나타내는실세스퀴옥산이도입된술폰화된폴리에테르에테르케톤(sulfonated polyetheretherketone (sPEEK)), 술폰화된폴리에테르케톤(sulfonated polyetherketone (sPEK)), 술폰화된폴리에테르술폰(sulfonated polyethersulfone (sPES)) 또는술폰화된폴리아릴렌에테르술폰(sulfonated polyarylethersulfone (sPAES))를포함하는술폰화된탄화수소계나노복합막및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의나노복합막은필러로사용되는 POSS에양성자소스인다수의술폰산기가있어우수한전도성을가진다. 또한, 본발명에사용된 POSS는그 크기가매우작아고분자막내 이온채널에서양성자의이동을거의방해하지않으므로우수한양성자전도도를구현할수 있다. 또한, 본발명에의한양성자전도성나노복합막은폴리에테르에테르케톤(sulfonated polyetheretherketone (sPEEK)), sPEK, sPES 및 sPAES를포함하는탄화수소계고분자내 술폰화된 POSS를도입함으로서인장강도, 항복강도및 신율이동시에증가하고, 그값들이최대치를나타내는함량이존재한다.
    • 本发明涉及具有磺化聚醚醚酮(sPEEK),磺化聚醚酮(sPEK),磺化聚醚砜(sPES)或磺化聚芳醚砜(sPAES)的磺化烃纳米复合膜,其中引入具有改善的质子传导性和机械强度的倍半硅氧烷, 制备磺化烃纳米复合膜。 根据本发明的纳米复合膜在多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)中具有多个作为质子源的磺酸基,其用作纳米复合膜的填料,从而提高导电性。 此外,由于根据本发明的POSS太小,并且很少防止质子在聚合物膜内的离子通道中移动,因此可以改善质子传导性。 此外,由于本发明的质子传导性纳米复合膜将磺化POSS引入到包含sPEED,sPEK,sPES和sPAES的烃聚合物中,可以同时提高拉伸强度,屈服强度和延展性, 纳米复合膜中的含量比例使上述性能最大化。