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11. 发明授权

KR100156422B1 반도체장치 제조용 레티클 失效
标题翻译：用于半导体器件制造的光罩
公开(公告)号：KR100156422B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950034169
申请日：1995-10-05
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정성길 , 송문국 , 김정렬 , 김정희
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/84 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70633 , G03F1/44
摘要： 반도체장치의 제조를 위한 노광공정시 제1스텝용으로 사용하는 레티클이 개시되어 있다.
본 발명의 반도체장치 제조용 레티클은, 얼라인 마크가 상호 인접하여 쌍을 이루며 형성되어 있는 주척 패턴과 부척 패턴으로 이루어지며, 상기 주척 패턴은 사각판상의 사각판 패턴과 상기 사각판 패턴의 각 변을 따라 분리 형성된 막대형 패턴으로 구성되어 있으며, 상기 부척 패턴은 상기 주척 패턴과 오버랩될 경우 상기 주척 패턴의 상기 사각판 패턴내에 포함되어져 상기 주척 패턴과의 상대적 위치관계가 검사될 수 있도록 구성되어 있다.
따라서, 본 발명에 의하면 패턴 미스를 정확히 검사할 수 있기 때문에 제품의 품질 및 수율이 매우 향상되는 효과가 있다.

12. 发明授权

KR100161594B1 사진공정용 레티클 失效
标题翻译：照相处理标线
公开(公告)号：KR100161594B1
公开(公告)日：1999-01-15
申请号：KR1019950043921
申请日：1995-11-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김정렬 , 장동희 , 정성길 , 길성진
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/38
摘要： 본 발명은 반도체소자 제조공정중에서 사진공정시 웨이퍼에 패턴을 형성하는데 사용하는 레티클에 관한 것으로, 특히 정렬정도를 향상시켜 수 있는 사진공정용 레티클과 이 레티클의 정렬방법에 대한 것이다. 종래의 레티클은 스크리브 라인내 양 에지에 형성된 키만으로 각 스텝별로 서로 정렬하게되어 장시간 사용하게되면 렌즈 왜곡이 서로 달라서 패턴 미스의 채크시 데이터 오류의 발생을 방지할 수 없게되는 문제점이 있었다. 본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 레티클의 중심부위와 스크리브 라인내 상하부에 각각 소정크기의 키를 형성하고, 스크리브라인이 없는 가상 스크리브 라인에 상기 키와 대칭되게 키를 형성하여, 단계별 1 피치의 이동시 상기 레티클에 의한 노광부위를 다음 스텝에서 일부 중복시켜 레티클을 정렬하므로서 렌즈의 왜곡현상을 적절히 조정하여 정렬하므로서 패턴을 형성하도록 하였다.

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