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121. 发明公开

KR1020160077394A 도장장치 有权
标题翻译：电镀设备
公开(公告)号：KR1020160077394A
公开(公告)日：2016-07-04
申请号：KR1020140186570
申请日：2014-12-22
申请人： 주식회사 포스코
发明人： 이경
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/10
CPC分类号： C25D17/00 , C25D17/001 , C25D17/10 , C25D17/22 , C25D21/02 , C25D21/10
摘要： 본발명의일 실시예는소재에형성되는도장층의품질인증실험이나평가를위해소재를도장하는데반복적인사용이가능하며, 동일한도장조건을재현할수 있도록한 도장장치를제공하는것으로, 본발명의일 측면에따른도장장치는상부가개방되며내부에도장용액이저장되는제1용기; 상기제1용기가수용되며상기제1용기의외곽부사이에유체가충진되는공간이형성되는제2용기; 상기제2용기가수용되며상기유체의가열을위해하부에상기제2용기를가열하기위한가열부가제공되는제3용기; 상기제3용기의일측에제공되어상기제1용기의도장용액에침지되며도금될소재를지지하며음극으로인가되는케소드지지부; 및상기제3용기의일측에결합되어일단이상기제1용기의도장용액에침지되며양극으로인가되는아노드전극부;를포함한다.
摘要翻译：本发明的一个实施方案提供了一种涂覆装置，其可以重复地用于涂覆材料以进行质量认证实验或评估形成在该材料上的涂层，并且可以再现相同的涂覆条件。根据本发明的一个方面，涂覆装置包括：第一容器，其具有打开的上部，在其中存储涂布溶液; 容纳所述第一容器的第二容器，在所述第二容器和所述第一容器之间具有填充有流体的空间; 容纳第二容器的第三容器，具有设置在下部以加热第二容器以加热流体的加热部; 以及阴极支撑部，其设置在所述第三容器的一侧，支撑要浸入所述第一容器的涂布溶液中并被涂覆的材料，并施加到阴极; 以及与第三容器的一侧结合的阳极电极部分，其一端浸入第一容器的涂布溶液中，并施加到阳极。

122. 发明授权

KR101616332B1 도금용 캐소드 지지 모듈 및 이를 포함하는 도금 장치 有权
标题翻译：使用相同的镀层和镀层设备的CATHOD支持模块
公开(公告)号：KR101616332B1
公开(公告)日：2016-05-13
申请号：KR1020150011298
申请日：2015-01-23
申请人： (주)디엠텍코리아
发明人： 김동민
IPC分类号： C25D17/10 , C25D17/08 , C25D7/06
CPC分类号： C25D17/10 , C25D7/06 , C25D17/08
摘要： 본발명의일 측면에따른피도금체도금용캐소드지지모듈은띠 형상의피도금체를도금하는장치에사용되는피도금체도금용캐소드지지모듈에있어서, 단자를갖는슬립링과상기슬립링에전기적으로연결되며회전가능하도록설치된전극롤러를갖는캐소드부재, 및상기전극롤러와외주면이서로마주하며회전가능하도록설치된지지롤러와상기지지롤러를상기전극롤러에가압하는가압부를포함하는가압부재를포함한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供能够减少电镀缺陷的电镀设备。本发明的另一个目的是提供一种阴极支撑模块，其中被镀物体和阴极电极能够稳定地接触。根据本发明的一个实施例，在用于电镀带状物体的设备中使用的用于电镀物体的阴极支撑模块包括：阴极构件，包括具有端子的滑环和电连接到所述端子的电极辊滑环，并安装旋转; 安装旋转的支撑辊，其中所述电极辊和周向表面在相对侧上; 以及加压构件，用于将支撑辊加压到电极辊。

123. 发明授权

KR101608422B1 도금 전처리 장치 有权
标题翻译：预处理设备
公开(公告)号：KR101608422B1
公开(公告)日：2016-04-04
申请号：KR1020090082642
申请日：2009-09-02
申请人： 주식회사 케이엠더블유
发明人： 김윤용 , 최철환
IPC分类号： C25D19/00 , C25D17/00 , C25D17/10
摘要： 본발명에따른도금전처리장치는도금전처리작업에사용되는다수의처리액을각각수용하고있는다수의처리액용기들을가진처리액수용부와, 다수의펌프를구비하여처리액수용부에서다수의처리액용기에서공급되는각 처리액을펌핑하여적절한압력으로공급되도록하는공급펌핑부와, 피도금체를수용하며, 공급펌핑부를통해공급되는각 처리액을제공받아이를피도금체에분사하여피도금체에전처리작업을수행하는처리조(treatment bath)를구비한다.

124. 发明公开

KR1020160009684A 전해 처리 방법 및 전해 처리 장치 审中-实审
标题翻译：电解处理方法和电解处理装置
公开(公告)号：KR1020160009684A
公开(公告)日：2016-01-26
申请号：KR1020157035794
申请日：2014-05-12
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 고꾸리쯔다이가꾸호오진 구마모또 다이가꾸
发明人： 이와츠하루오 , 아키야마히데노리
IPC分类号： C25D21/00 , C25D21/22 , C25D17/10 , C25D21/12 , C02F1/467
CPC分类号： C25B7/00 , C02F1/467 , C25B9/12 , C25B11/00 , C25D17/10
摘要： 처리액에포함되는피처리이온을이용하여정해진처리를행하는전해처리방법은, 상기처리액을사이에두도록직접전극과대향전극을각각배치하고, 상기처리액에전계를형성하는간접전극을배치하는전극배치공정과, 상기간접전극에전압을인가함으로써, 상기처리액내의피처리이온을상기대향전극측으로이동시키는피처리이온이동공정과, 상기직접전극과상기대향전극사이에전압을인가함으로써, 상기대향전극측으로이동한상기피처리이온을산화또는환원하는피처리이온산화환원공정을갖는다.

125. 发明公开

KR1020150136107A Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법 有权
标题翻译：镀镍钢板，以及生产镀镍钢板的方法
公开(公告)号：KR1020150136107A
公开(公告)日：2015-12-04
申请号：KR1020157030721
申请日：2014-04-30
申请人： 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤
发明人： 다니요시아키 , 히라노시게루 , 다치키아키라 , 야나기하라모리오 , 가와바타마코토 , 요코야히로카즈
IPC分类号： C25D5/14 , C25D5/48 , C25D3/12 , C23C28/02 , C25D17/10 , C25D7/06
CPC分类号： C25D5/14 , B32B15/015 , C23C28/021 , C25D3/12 , C25D5/36 , C25D5/48 , C25D7/00 , C25D7/0614 , C25D17/10
摘要： 본발명에따른 Ni 도금강판은, 강판과, 상기강판의적어도편면에형성되어있고, Ni를함유하는제1 Ni 도금층과, 상기제1 Ni 도금층위에형성되어있고, Ni를함유하는제2 Ni 도금층을구비하고, 상기제1 Ni 도금층과상기제2 Ni 도금층의계면에서의평균중심선조도 Ra는, 0.1㎛미만이고, 상기제2 Ni 도금층표면의평균중심선조도 Ra는, 0.1㎛내지 100㎛이고, 상기제1 Ni 도금층및 상기제2 Ni 도금층전체의 Ni 부착량은, 금속 Ni 환산으로편면당 20㎎/㎡내지 2500㎎/㎡이다.
摘要翻译：根据本发明的镀覆钢板包括钢板，至少形成在钢板的单面表面上并且包含Ni的第一Ni镀层和形成的第二镀Ni层在第一个Ni镀层上并含有Ni。第一镀Ni层与第二Ni镀层之间的界面处的平均中心线粗糙度Ra小于0.1μm，第二镀Ni层的表面的平均中心线粗糙度Ra为0.1μm 以Ni为单位，以单面为单位的Ni镀层和第二Ni镀层的Ni的涂布量为20mg / m 2〜2500mg / m 2。

126. 发明公开

KR1020150132574A 가공물에 금속층을 전해 전착하기 위한 장치와 방법 审中-实审
标题翻译：金属层在工件上电沉积的装置和方法
公开(公告)号：KR1020150132574A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：KR1020157030282
申请日：2014-03-20
申请人： 아토테크더치랜드게엠베하
发明人： 딩베르트비외른 , 바움게르텔페터
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D21/12 , C25D3/22 , C25D3/56
CPC分类号： C25D17/10 , C25D3/22 , C25D3/565 , C25D17/002 , C25D21/12
摘要： 본발명은, 가공물에아연또는아연합금층을전해전착하기위한장치와방법에관한것으로서, 상기장치는, 전극조립체와함께적어도 2 개의격실들로분리된금속도금욕을컨테이너에유지하기위한컨테이너를포함하고, 이조립체는제 1 격실에서전착될적어도하나의금속의이온들을제공하기위한가용성애노드와, 금속도금될가공물에대응하는캐소드를포함하고, 이온교환멤브레인에의해제 1 격실로부터분리된애노드액격실에서불용성애노드를포함하고, 상기전극조립체는격실들에서조절가능한전력공급원에의해연결된다.

127. 发明公开

KR1020150120865A 결정립 미세화제 방출 디바이스를 갖는 니켈 전기도금 시스템들 审中-实审
标题翻译：具有谷物改性剂释放装置的镍电镀系统
公开(公告)号：KR1020150120865A
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：KR1020150052201
申请日：2015-04-14
申请人： 램 리써치 코포레이션
发明人： 부캘루브라이언엘. , 폰누스와미토마스아난드
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/06 , C25D17/10 , C25D7/12
CPC分类号： C25D3/12 , C25D7/12 , C25D17/001 , C25D17/002 , C25D21/04 , C25D21/06 , C25D21/14 , H01L21/6723 , H01L24/02 , H01L24/03 , H01L24/05 , H01L24/11 , H01L24/13 , H01L24/741 , H01L24/94 , H01L2224/0239 , H01L2224/03462 , H01L2224/0401 , H01L2224/05147 , H01L2224/05569 , H01L2224/05655 , H01L2224/11462 , H01L2224/13083 , H01L2224/131 , H01L2224/13111 , H01L2224/13147 , H01L2224/741 , H01L2224/742 , H01L2224/94 , H01L2924/3656 , H01L2924/00014 , H01L2924/014 , H01L2924/01047 , H01L2924/01082 , H01L2224/03 , H01L2924/01029 , H01L2224/11
摘要： 전기도금동작동안에전해질용액이캐소드챔버로유동하는때에전해질용액내로결정립미세화제화합물을방출하기위한결정립미세화제방출디바이스가본 명세서에서개시된다. 일부실시예들에서, 이디바이스들은전해질용액을유동시키기위한하우징으로서, 유체유입구및 유체유출구를갖는, 하우징; 하우징내에위치하는입자필터로서, 전해질용액이하우징내에서유체유입구로부터유체유출구로유동하는때에전해질용액으로부터입자들을제거하도록구성된, 입자필터; 및하우징내에위치하는결정립미세화제홀더 (grain refiner holder) 로서, 결정립미세화제화합물을홀딩하고, 전해질용액이하우징내에서유체유입구로부터유체유출구로유동하는때에결정립미세화제화합물을전해질용액과접촉시키기위한, 결정립미세화제홀더를포함한다. 또한, 이러한결정립미세화제방출디바이스를포함하는니켈전기도금시스템들및 결정립미세화제화합물을채용한니켈전기도금방법들이본 명세서에서개시된다.
摘要翻译：本文公开了晶粒细化剂释放装置，以在电镀操作期间将晶粒细化剂化合物释放到电解质溶液中，因为其流向阴极室。在一些实施例中，装置可以包括：用于流动具有流体入口和流体出口的电解质溶液的壳体; 位于所述壳体内的颗粒过滤器，其构造成当从所述流体入口到所述流体出口在所述壳体内流动时从所述电解质溶液中除去颗粒; 以及晶粒细化剂保持器，其位于壳体内以保持晶粒细化剂化合物，并且随着电解质溶液在壳体内从流体入口流到流体出口，使晶粒细化剂与电解质溶液接触。本文还公开了包括这种晶粒细化剂释放装置和采用晶粒细化剂化合物的镍电镀方法的镍电镀系统。

128. 发明公开

KR1020150114531A 기판들을 금속화하기 위한 디바이스 审中-实审
标题翻译：用于金属化基底的装置
公开(公告)号：KR1020150114531A
公开(公告)日：2015-10-12
申请号：KR1020157023499
申请日：2014-01-27
申请人： 호흐슐레 오펜부르크
发明人： 크레이,다니엘
IPC分类号： C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/06 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D7/12 , C25D5/04
CPC分类号： C25D7/0621 , C25D7/12 , C25D7/126 , C25D17/005 , C25D17/10 , C25D21/00
摘要： 본발명은기판들을금속화하기위한디바이스에관한것이다. 특별히, 본발명은습식-화학물질연속 (인-라인) 처리시스템환경에서솔라셀들을전기도금하기위해사용되는컨택엘리먼트(contact element)들의분야에관한것이다. 코팅재료로평평한기판들(1)들을전기화학적으로코팅하기위한본 발명에따른습식-화학물질처리시스템은전해질용액, 이송수단들 - 이송수단들을이용하여평평한기판(1)이전해질용액을통과하여수평으로이송될수 있는 - 을수용하는용기(basin), 및회전축(5)을갖는샤프트(4) 및기판(1) 위에서구르기에적합한원통형의원주표면을포함하는적어도하나의컨택엘리먼트(2)를가지며, 원주표면은극성이역전될수 있는방식으로전류소스 (6)에연결될수 있는적어도하나의전기적으로전도성인세그먼트 (3A) 및적어도하나의전기적으로절연된세그먼트 (3B)를포함하고, 컨택엘리먼트 (2)의회전축 (5)은전해질용액의표면위에위치되고, 컨택엘리먼트 (2)는소모전극(consumable electrode)으로디자인된다.

129. 发明公开

KR1020150110728A 황산 구리 용액의 역류를 이용하여 전해 동박을 생산하는 방법 및 시스템 无效
标题翻译：通过使用硫酸盐溶液的反向流动生产电解铜箔的方法和系统
公开(公告)号：KR1020150110728A
公开(公告)日：2015-10-02
申请号：KR1020157022856
申请日：2013-12-19
申请人： 푸젠 클리어 뷰 카퍼 호일 컴퍼니 리미티드
发明人： 청,친차이 , 양,초관
IPC分类号： C25D1/04 , C25D3/38 , C25D5/08 , C25D7/06 , C25D17/00 , C25D17/02 , C25D17/10 , C25D17/12 , C25D21/12
CPC分类号： C25D1/04 , C25D3/38 , C25D21/10 , C25D21/18
摘要： 본발명은황산구리용액의역류를이용하여전해동박을생산하는방법과시스템에관한것이다. 이시스템은음극롤러와양극조를포함하는데, 양극조의양측의상부포트는음극롤러의양측에위치하고, 양극조에는흐르는황산구리용액이있고, 음극롤러의일부분의외표면이황산구리용액에담기며, 음극롤러의회전에따라음극롤러에전기도금된동박은연속으로벗겨져서롤업된다. 상기방법은상기황산구리용액을적어도음극롤러의한 측면의양극조의상부포트에서부터양극조로흘러들게한다는것이다. 본발명은전통의동박생산시스템구조보다간단하고첨가제만을통해동박표면의질을조절하는역사를철저히전복시켰으며, 황산구리용액이음극롤러표면에서흐르는유속을조절함으로써동박표면의조도와동박구리이온의전기도금되는밀도를조절한다. 본발명은생산공정을간소화했으므로조절과정을더 쉽게간편하게하고, 생산원가를낮추며, 배출되는오염물을줄여환경에이롭다.
摘要翻译：在本发明中公开了通过硫酸铜溶液的逆流来制造电解铜箔的方法和系统。该系统包括阴极鼓和阳极电池。阳极单元两侧的上端口位于阴极筒的两侧。流过的硫酸铜溶液在阳极池中流动。将阴极筒的外表面部分地浸渍在硫酸铜溶液中。电镀在阴极鼓上的铜箔在阴极鼓旋转时连续地剥离并卷起。该方法如下：硫酸铜溶液至少从阴极鼓的一个侧表面上的阳极单元的上端口流入阳极单元。本发明的结构比传统的原纸系统简单，并且完全改变了铜箔质量只能由添加剂控制的历史。通过控制阴极鼓表面上的硫酸铜溶液的流量来控制铜箔表面的粗糙度和电沉积铜箔的电流密度。本发明简化了生产，使控制过程简单易行，降低生产成本，减少污染物排放，有助于环境保护，具有重要的经济社会效益。

130. 发明公开

KR1020150030028A 도금용 전극 접점 장치 有权
标题翻译：电极接触装置
公开(公告)号：KR1020150030028A
公开(公告)日：2015-03-19
申请号：KR1020130109206
申请日：2013-09-11
申请人： (주)제이엔이
发明人： 김성곤
IPC分类号： C25D17/10 , C25D17/08 , C25D17/20
CPC分类号： C25D17/10 , C25D17/00
摘要： 본 발명은, 피도금물의 연속 도금 장치에 전원을 인가하는 전극 접점 장치에 있어서, 상기 도금 장치의 전방 또는 후방에 설치되는 베이스플레이트; 상기 피도금물 진행방향 일측의 상기 베이스플레이트 상에 설치되어 상기 피도금물과 접촉하여 회전하면서 전원이 인가되도록 하는 제1회전부재; 및 상기 피도금물 진행방향 타측의 상기 베이스플레이트 상에 설치되어 상기 피도금물이 상기 제1회전부재에 밀착되도록 회전 가압하는 제2회전부재;를 포함하고, 상기 제1회전부재는, 상기 베이스 플레이트에서 수직으로 돌출된 원기둥 형상의 샤프트;와 상기 샤프트의 둘레에 배치되어 회전하는 베어링;과 상기 베어링을 덮는 도전성 캡부재;를 포함하며, 상기 도전성 캡부재는, 상면이 막힌 원통형의 캡으로 형성되되, 상면에 형성된 연결부를 통해 전원과 연결되고, 하부 원주 부분은 수평으로 지지턱을 형성하여, 상기 지지턱 상면과 상기 피도금물의 하면이 접촉되도록 함으로써 전기가 통전되도록 하는 것을 특징으로 하는 도금용 전극 접점 장치에 관한것으로서, 본 발명에 의해 안정적으로 전원을 공급하여 도금 작업을 진행할 수 있게 되므로 도금 불량률이 현저히 감소되는 효과가 있다.
摘要翻译：本发明涉及能够对电镀材料的连续电镀装置施加电力的电极接触装置，包括：安装在电镀装置的前面或后面的基板; 第一旋转构件，其安装在电镀材料行进方向的一侧的基板上，同时与电镀材料接触地旋转并施加电力; 以及第二旋转构件，其安装在电镀材料行进方向上的另一侧的基板中，并且旋转压制以允许电镀材料附接到第一旋转构件。第一旋转构件包括：从底板垂直突出的气缸形式的轴; 围绕轴旋转的轴承; 以及覆盖轴承的导电盖构件。导电盖构件的特征在于，当导电帽构件形成为气缸形式的帽时，支撑突起的上侧与电镀材料的下侧接触，施加电流，其上侧为在通过形成在上侧的连接部连接电力的同时被阻挡，并且下周向部分水平地形成支撑突起。本发明通过稳定地供电来进行电镀工作，具有显着降低电镀缺陷率的效果。

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