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121. 发明公开

KR1020130086078A 제조 시스템 有权
标题翻译：制造系统
公开(公告)号：KR1020130086078A
公开(公告)日：2013-07-30
申请号：KR1020137016708
申请日：2003-08-29
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이 , 무라카미마사카즈 , 쿠와바라히데아키
IPC分类号： H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H05B33/14 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/542 , C23C14/564 , C23C14/568 , H01L27/3211 , H01L27/3246 , H01L51/001 , H01L51/5008 , H01L51/5012 , H01L51/5048 , H01L51/5256 , H01L51/5259 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要： 본 발명은 EL 재료의 이용 효율을 높이고, 또한 EL 층의 균일성이나 작업 처리량이 우수한 성막 시스템의 하나인 증착 시스템 및 증착 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 증착실 내에서 증착 재료가 봉입된 용기(911)를 6개 설치한 증착원 홀더(903)가 기판에 대하여 어떤 피치로 이동하면서 증착을 행한다. 또한, 증착원 홀더(903)는 반송 기구(902b)에 의해 설치실(905)로부터 반송된다. 회전대(907)는 히터를 내장하고 있고, 증착원 홀더(903)에 용기를 반송하기 전에 증착원 홀더(903)를 가열하여 둠으로써 작업 처리량을 향상시킬 수 있다.

122. 发明公开

KR1020130065332A 증착 장치 및 이를 이용한 기판 처리 방법 无效
标题翻译：沉积装置及使用其的基板的加工方法
公开(公告)号：KR1020130065332A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：KR1020110132148
申请日：2011-12-09
申请人： 주식회사 원익아이피에스
发明人： 조생현 , 한재병 , 박병우 , 김건
IPC分类号： H01L51/56 , H01L51/00 , C23C14/56 , C23C14/04 , C23C14/12 , C23C16/54
CPC分类号： H01L51/56 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/568 , C23C16/54 , H01L51/001 , H01L51/0011
摘要： PURPOSE: A deposition device and a substrate processing device using the same are provided to reduce tact time by overlapping time required to load, unload, and arrange a substrate on deposition time. CONSTITUTION: A substrate support part(1120) faces first and second process areas to support a substrate. A first transfer unit(1130) is respectively installed in the first and second process areas to transfer the substrate. A deposition source sprays deposition materials to the substrate placed on the first and second process areas and moves to the substrate support unit. A flip unit(1210) erects the substrate of a horizontal state and lays the substrate down into the horizontal state. A second transfer unit(1120) transfers the erected substrate between the flip unit and the first and second process areas.
摘要翻译：目的：提供一种沉积装置和使用其的基板处理装置，以通过在沉积时间上重叠加载，卸载和布置基板所需的时间来减少制作时间。构成：衬底支撑部分（1120）面向第一和第二处理区域以支撑衬底。第一传送单元（1130）分别安装在第一和第二处理区域中以转移基板。沉积源将沉积材料喷射到放置在第一和第二处理区域上的衬底上并移动到衬底支撑单元。翻转单元（1210）将水平状态的基板竖立并将基板向下放置成水平状态。第二传送单元（1120）将翻转单元与第一和第二处理区域之间的竖立基板传送。

123. 发明公开

KR1020130045431A 증착 효율이 개선된 박막 증착 장치 审中-实审
标题翻译：具有改善沉积速率的薄膜沉积装置
公开(公告)号：KR1020130045431A
公开(公告)日：2013-05-06
申请号：KR1020110109617
申请日：2011-10-26
申请人： 주식회사 탑 엔지니어링
发明人： 마호열 , 이재욱
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/541 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/568
摘要： PURPOSE: A thin film deposition apparatus with improved deposition efficiency is provided to vapor deposit a deposition material intensively on a substrate which maintains at an optimal temperature. CONSTITUTION: A thin film deposition apparatus with improved deposit efficiency comprises a deposition source(23), a temperature control unit(37), and a chamber(30). The deposition source stores a deposition source material(31) and discharges the deposition material on a substrate(21). The temperature control unit is installed in the periphery of the substrate. The chamber accommodates the disposition source and the temperature control unit.
摘要翻译：目的：提供一种具有改善的沉积效率的薄膜沉积装置，以将沉积材料气相沉积在保持在最佳温度的基底上。构成：具有提高沉积效率的薄膜沉积装置包括沉积源（23），温度控制单元（37）和室（30）。沉积源存储沉积源材料（31）并将沉积材料排放在基底（21）上。温度控制单元安装在基板的周边。该室容纳设置源和温度控制单元。

124. 发明授权

KR101224975B1 원자층 퇴적 장치 및 박막 형성 방법 有权
标题翻译：原子层沉积装置和薄膜形成方法
公开(公告)号：KR101224975B1
公开(公告)日：2013-01-22
申请号：KR1020117023449
申请日：2010-03-03
申请人： 미쯔이 죠센 가부시키가이샤
发明人： 무라타카즈토시 , 모리야스나리
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/44 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/45544 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/568 , C23C16/4401 , C23C16/4409 , C23C16/45525 , C23C16/45553 , C23C16/46 , C23C16/50 , C23C16/54 , H01J37/32752
摘要： 기판 상에 박막을 형성하는 원자층 퇴적 장치이고, 제1 내부 공간을 형성하는 용기이며, 기판을 반입 또는 반출하기 위한 기판 반입출구와, 기판 상에 박막을 형성하는 가스를 내부로 도입하기 위한 가스 도입구를 다른 위치에 구비하는 제1 용기와, 제1 용기의 내부에 설치되어, 제1 내부 공간과 격리되는 제2 내부 공간을 형성하여, 제1 개구(開口)를 구비하는 제2 용기와, 제2 용기를 소정의 방향으로 이동하는 제1 이동 기구와, 기판을 반입 또는 반출하는 경우, 기판 반입출구와 제1 개구가 대향하는 제1 위치로 제2 용기를 이동하고, 기판 상에 박막을 형성하는 경우, 가스 도입구와 제1 개구가 대향하는 제2 위치로 제2 용기를 이동하도록, 제1 이동 기구를 제어하는 제어부를 가진다.

125. 发明公开

KR1020120131547A 유기층 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 디스플레이 장치의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：用于有机层沉积的装置及使用其的有机发光显示装置的制造方法
公开(公告)号：KR1020120131547A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：KR1020110049794
申请日：2011-05-25
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 최명환 , 김무현 , 이성봉 , 이명기
IPC分类号： H01L51/56 , C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/50 , C23C14/568
摘要： PURPOSE: An organic layer depositing apparatus and a method for manufacturing an organic light emitting display using the same are provided to reduce the size of a shadow formed on a substrate by forming a blocking member between a blocking plate assembly and a pattering slit sheet to secure linearity for deposition materials. CONSTITUTION: A deposition source(110) emits deposition materials. A deposition source nozzle unit(120) is located on one side of the deposition source. A pattering slit sheet(150) faces the deposition source nozzle unit. A blocking plate assembly(130) is located on one side of the deposition source nozzle unit. The blocking plate assembly includes a plurality of blocking plates(131) and a blocking plate frame(132). A blocking member(160) is located between the blocking plate assembly and the patterning slit sheet.
摘要翻译：目的：提供有机层沉积装置和使用其的有机发光显示器的制造方法，以通过在阻挡板组件和图案狭缝片之间形成阻挡构件来减小形成在基底上的阴影的尺寸，以确保沉积材料的线性度。构成：沉积源（110）发射沉积材料。沉积源喷嘴单元（120）位于沉积源的一侧。图案狭缝片（150）面向沉积源喷嘴单元。阻挡板组件（130）位于沉积源喷嘴单元的一侧上。阻挡板组件包括多个阻挡板（131）和阻挡板框架（132）。阻挡构件（160）位于阻挡板组件和图案化缝隙片之间。

126. 发明公开

KR1020120104368A 임의 사이즈 바닥판과 디스플레이패널의 기상침적 섀도우 마스크 시스템 및 그 방법 无效
标题翻译：用于背板的蒸发沉积阴影掩模系统和具有任何尺寸的显示屏幕及其方法
公开(公告)号：KR1020120104368A
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：KR1020127018503
申请日：2011-01-19
申请人： 판, 총광
发明人： 판,총광
IPC分类号： C23C16/00 , H01L21/00
CPC分类号： C23C16/042 , C23C14/042 , C23C14/562 , C23C14/568 , C23C16/00 , H01L21/00
摘要： 본 발명은 임의 사이즈 바닥판과 디스플레이패널의 기상침적 섀도우마스크 시스템에 관한 것으로서, 더욱 자세하게는 상기 시스템은 최소한 하나의 진공실, 기판, 전동장치를 포함하고, 그 중 상기 각 진공실 내에는 모두 M세트 섀도우마스크와 침적원이 설치되며, 상기 기판은 M개의 기본유닛을 포함하며, 각 기본유닛은 일정하게 N개의 구역으로 분할되며, 상기 전동장치는 상기 기판 혹은 섀도우마스크가 진공실을 따라 평행으로 이동하게 하여 서로 다른 시간 내에 N개의 구역 내로 들어가게 하며 상기 M세트 섀도우마스크는 각각 상기 M개 기판유닉 중의 서로 다른 구역과 서로 대응되며 이 때 M은 1 자연수와 동일하거나 크고, N은 2 자연수와 동일하거나 큰 것을 특징으로 하는 시스템을 말하며, 기존의 침적 시스템, 이동횟수를 간단하게 해주고 침적� �료의 효과를 통제할 수 있는 효과를 얻을 수 있다.

127. 发明公开

KR1020120081932A 성막 장치 및 제조 장치 审中-实审
标题翻译：电影制作装置和制造设备
公开(公告)号：KR1020120081932A
公开(公告)日：2012-07-20
申请号：KR1020110143424
申请日：2011-12-27
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이
IPC分类号： H01L21/203 , H01L21/20
CPC分类号： C23C14/568 , H01L51/0053 , H01L51/0078 , H01L51/56
摘要： PURPOSE: A film forming device and a manufacturing device are provided to shorten processing time per one substrate by forming a second electrode layer of an electro luminescence element and a protective layer in a lump. CONSTITUTION: A chamber is connected with a deposition chamber. A sputter chamber is connected with the chamber. The sputter chamber comprises a pair of targets and a substrate holder(15). The substrate holder purchases a plurality of substrates(13) between the pair of targets. The sputter chamber, the chamber, and the deposition chamber respectively have an exhaust unit. The chamber is connected with a mask stock room in which a mask is accepted. A protective layer is formed on the plurality of substrates.
摘要翻译：目的：提供一种成膜装置和制造装置，通过形成一个电致发光元件的第二电极层和一个保护层来缩短每个基板的处理时间。构成：室与沉积室连接。溅射室与腔室连接。溅射室包括一对靶和衬底保持器（15）。衬底保持器在一对靶之间购买多个衬底（13）。溅射室，室和沉积室分别具有排气单元。腔室与面罩存储室连接，其中接受面罩。在多个基板上形成保护层。

128. 发明公开

KR1020120080654A 유기 화합물 함유층 형성 방법 有权
标题翻译：含有机化合物层的制备方法
公开(公告)号：KR1020120080654A
公开(公告)日：2012-07-17
申请号：KR1020127014638
申请日：2003-08-29
申请人： 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼
发明人： 야마자키순페이 , 무라카미마사카즈 , 쿠와바라히데아키
IPC分类号： H01L51/56
CPC分类号： H05B33/14 , C23C14/12 , C23C14/225 , C23C14/24 , C23C14/246 , C23C14/542 , C23C14/564 , C23C14/568 , H01L27/3211 , H01L27/3246 , H01L51/001 , H01L51/5008 , H01L51/5012 , H01L51/5048 , H01L51/5256 , H01L51/5259 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要： 본 발명은 EL 재료의 이용 효율을 높이고, 또한 EL 층의 균일성이나 작업 처리량이 우수한 성막 시스템의 하나인 증착 시스템 및 증착 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 증착실 내에서 증착 재료가 봉입된 용기(911)를 6개 설치한 증착원 홀더(903)가 기판에 대하여 어떤 피치로 이동하면서 증착을 행한다. 또한, 증착원 홀더(903)는 반송 기구(902b)에 의해 설치실(905)로부터 반송된다. 회전대(907)는 히터를 내장하고 있고, 증착원 홀더(903)에 용기를 반송하기 전에 증착원 홀더(903)를 가열하여 둠으로써 작업 처리량을 향상시킬 수 있다.

129. 发明公开

KR1020120057290A 박막 증착 장치 审中-实审
标题翻译：薄层沉积设备
公开(公告)号：KR1020120057290A
公开(公告)日：2012-06-05
申请号：KR1020100118961
申请日：2010-11-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 오언석 , 최용중 , 이명기
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/56 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L51/56 , C23C14/12
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/6776 , H01L51/56 , C23C14/12
摘要： PURPOSE: A thin film deposition apparatus is provided to prevent a failure due to contact between a substrate and a pattering slit sheet. CONSTITUTION: A thin film deposition apparatus(100) comprises an evaporation source(110), an evaporation source nozzle unit(120), and a patterning slit sheet(150). The evaporation source emits a deposition material. The evaporation source nozzle unit is arranged on one side of the evaporation source and has a plurality of evaporation source nozzles(121) formed in a first direction. The patterning slit sheet is arranged opposite to the evaporation source nozzle unit and has a plurality of sub patterning slits(152b) formed in a second direction perpendicular to the first direction. The patterning slit sheet comprises a base sheet and patterning bars(153a) which are arranged between the sub patterning slits to form a pattering slits.
摘要翻译：目的：提供一种薄膜沉积装置，以防止由于基板和图案狭缝片之间的接触而导致的故障。构成：薄膜沉积装置（100）包括蒸发源（110），蒸发源喷嘴单元（120）和图案化缝隙片（150）。蒸发源发出沉积材料。蒸发源喷嘴单元布置在蒸发源的一侧，并且具有沿第一方向形成的多个蒸发源喷嘴（121）。图案化缝隙片与蒸发源喷嘴单元相对地布置，并且具有沿垂直于第一方向的第二方向形成的多个副图案化缝隙（152b）。图形化缝隙片包括基片和布置在子图形缝隙之间的图案形成条（153a），以形成图案狭缝。

130. 发明授权

KR101147484B1 스퍼터링 방법 및 스퍼터링 장치 有权
标题翻译：飞溅方法和喷射器装置
公开(公告)号：KR101147484B1
公开(公告)日：2012-05-22
申请号：KR1020097017633
申请日：2008-01-25
申请人： 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 가부시끼가이샤 오오사까 신꾸우기끼 세이사꾸쇼
发明人： 우에다요시히코 , 모야마카즈키 , 후쿠모리코지
IPC分类号： C23C14/34
CPC分类号： C23C14/352 , C23C14/568 , H01J37/3405 , H01J37/3414 , H01J37/3426 , H01J37/3452 , H01J37/3455 , H01L51/0008
摘要： 간단한 구성이면서 저온·저데미지 성막이 가능하며, 또한 생산성이 높은 스퍼터링 방법 및 스퍼터링 장치를 제공하는 것을 과제로 한다. 진공 용기 내에서, 피성막 대상물에 초기층을 성막한 후 제 2 층을 초기층 상에 더 성막하는 스퍼터링 방법으로서, 상기 진공 용기 내에서, 한쌍의 타겟을 그 표면들이 간격을 두고 서로 대향하고 또한 이 표면이 타겟 간의 측방에 배치되는 피성막 대상물을 향해 경사지도록 배치하고, 상기 한쌍의 타겟의 대향면측에 자기장 공간을 발생시켜서 스퍼터링하고, 이 스퍼터링된 스퍼터링 입자로 피성막 대상물에 초기층을 성막하고, 초기층의 성막 속도보다 빠른 성막 속도로 피성막 대상물을 제 2 층을 더 성막하는 것을 특징으로 한다.

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