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101. 发明公开

KR1020140007827A 레지스트 패턴 형성 방법 및 감방사선성 수지 조성물 审中-实审
标题翻译：形成耐力图案的方法和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020140007827A
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：KR1020137019877
申请日：2011-12-21
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 사카키바라,히로카즈 , 후루카와,다이치 , 호리,마사후미 , 이토,고지 , 미야타,히로무
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325 , G03F7/38 , G03F7/0047 , G03F7/0382
摘要： 본 발명은 (1) 감방사선성 수지 조성물을 이용하는 레지스트 피막 형성 공정, (2) 노광 공정, 및 (3) 유기 용매가 80질량％ 이상인 현상액을 이용하는 현상 공정을 갖는 레지스트 패턴 형성 방법으로서, 상기 감방사선성 수지 조성물이 [A] 산해리성기를 갖는 중합체를 포함하는 중합체 성분, 및 [B] 감방사선성 산발생체를 함유하고, [A] 중합체 성분이, 동일하거나 또는 상이한 중합체 중에, 탄화수소기 (a1)을 갖는 구조 단위 (I) 및 탄화수소기 (a2)를 갖는 구조 단위 (II)를 포함하고, 탄화수소기 (a1)이 치환되어 있을 수도 있는 탄소수 8 이하의 분지쇄상기 또는 치환되어 있을 수도 있는 환탄소수 3 내지 8의 단환의 지방족 환식기이고, 탄화수소기 (a2)가 아다만탄 골격을 갖고, 탄화수소기 (a1)에 대한 탄화수소기 (a2)의 몰비가 1 미만이며, [A] 중합체 성분에 있어서� �� 수산기를 갖는 구조 단위의 함유 비율이 5몰％ 미만인 것을 특징으로 한다.

102. 发明公开

KR1020140003591A 에칭액 및 그것을 이용한 에칭 방법 无效
标题翻译：蚀刻解决方案和使用它的蚀刻过程
公开(公告)号：KR1020140003591A
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：KR1020137026857
申请日：2012-06-27
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 나카타다쿠토 , 나카가와노리키요
IPC分类号： C09K13/06 , G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： C23F1/16 , C09K13/00 , C09K13/06 , C23F1/18 , G03F7/0043 , G03F7/32 , H01L21/0337 , H01L21/32134 , G03F7/004 , G03F7/0041
摘要： 열반응형 레지스트 재료로서 구리의 산화물을 이용하여 레이저광으로 노광한 경우에, 노광·미노광부를 선택적으로 에칭할 수 있는 산화구리용의 에칭액 및 에칭 속도의 제어 및 그것을 이용한 에칭 방법을 제공하는 것.
본 발명의 에칭액은, 가수가 다른 산화구리를 함유하는 산화구리 함유층으로부터 특정 가수의 산화구리를 선택적으로 제거하기 위한 산화구리의 에칭액으로서, 적어도 아미노산과 킬레이트제와 물을 포함하고, 아미노산의 중량 비율이 킬레이트제보다 많으며, 또한 그 pH가 3.5 이상인 것을 특징으로 한다.

103. 发明公开

KR1020130135119A 포토레지스트 조성물 审中-实审
标题翻译：光电组合物
公开(公告)号：KR1020130135119A
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR1020130061133
申请日：2013-05-29
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 스기하라마사코 , 가와무라마키
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/028 , H01L21/027 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0041 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/38 , G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/26 , H01L21/027
摘要： The present invention relates to a photoresist composition comprising: a resin in which solubility in an alkaline solution increases by the action of acids; an acid generator; a compound represented by chemical formula I; and a solvent wherein an amount of the solvent is 40-75 wt% of the photoresist composition. In the chemical formula I, W1 is a nitrogen-containing heterocyclic ring or a benzene ring having a substituted or non-substituted amino group. A1 is a phenyl group or a naphthyl group. And n is an integer of 2 or 3.
摘要翻译：本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，其包含：其中通过酸的作用使碱溶液的溶解度增加的树脂; 酸发生器; 由化学式I表示的化合物; 和其中溶剂的量为光致抗蚀剂组合物的40-75重量％的溶剂。在化学式I中，W1是含氮杂环或具有取代或未取代的氨基的苯环。 A1是苯基或萘基。 n为2或3的整数。

104. 发明公开

KR1020130107448A 금속 인쇄회로기판의 제조방법 및 그의 구조 有权
标题翻译：金属印刷电路板的制作方法及其结构
公开(公告)号：KR1020130107448A
公开(公告)日：2013-10-02
申请号：KR1020120029225
申请日：2012-03-22
申请人： 엘지디스플레이 주식회사
发明人： 강귀원
IPC分类号： H05K3/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2014 , G03F1/48 , G03F1/80 , G03F7/0041 , G03F7/2004 , G03F7/26 , G03F7/7045 , H05K3/06 , H05K3/44
摘要： PURPOSE: A manufacturing method of a metal printed circuit board and a structure thereof are provide to prevent a cutting plane from being etched by coating an etching resist on the cutting plane of a base metal. CONSTITUTION: An etching resist (200) is coated on the cutting plane of a base substrate (101). A base metal, an insulating layer, and a copper layer are successively put on the base substrate. A photosensitive material layer is laminated on the base substrate. UV rays are irradiated on the photosensitive material layer. The photosensitive material layer faces the part in which a circuit pattern (150) is to be formed.
摘要翻译：目的：提供金属印刷电路板的制造方法及其结构，以防止在贱金属的切割平面上涂覆抗蚀剂来蚀刻切割平面。构成：将抗蚀剂（200）涂覆在基底（101）的切割平面上。将基底金属，绝缘层和铜层依次放置在基底基板上。感光材料层层叠在基底基板上。紫外线照射在感光材料层上。感光材料层面对要形成电路图案（150）的部分。

105. 发明公开

KR1020130099218A 광 경화성 수지 조성물 无效
标题翻译：光固化树脂组合物
公开(公告)号：KR1020130099218A
公开(公告)日：2013-09-05
申请号：KR1020137019864
申请日：2011-12-19
申请人： 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤
发明人： 아끼야마,마나부 , 미네기시,쇼지 , 아리마,마사오
IPC分类号： G03F7/004 , H05K3/28 , C08L101/08 , C08F2/38
CPC分类号： G03F7/0382 , C08L101/08 , G03F7/0041 , G03F7/0046 , G03F7/0047 , G03F7/028 , G03F7/038 , H05K3/28
摘要： Provided is a photocurable resin composition which contains a carboxyl group-containing resin, a photopolymerization initiator, a naphthalene derivative and/or naphthoquinone, and a derivative thereof, so as to prevent halation and undercutting, obtain stable high resolution, and inhibit the generation of cracks in thermal cycles. Preferably, the naphthalene derivative and/or the naphthoquinone and the derivative thereof are compounds having a hydroxyl group. The photocurable resin composition or a dry film thereof can be suitably used for forming a cured film such as a solder resist which is excellent in terms of various properties such as TCT resistance and PCT resistance for a printed wiring board and a flexible printed wiring board.

106. 发明公开

KR1020130088166A 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법 无效
公开(公告)号：KR1020130088166A
公开(公告)日：2013-08-07
申请号：KR1020137015084
申请日：2011-11-15
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 미야사카마사히로 , 엔도우마사키 , 구시다마사타카 , 무라마츠유키코 , 가지마코토
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/027 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/38 , H05K3/10 , Y10T29/49155 , G03F7/0041 , G03F7/0047 , G03F7/26
摘要： The invention relates to a photosensitive resin composition comprising a binder polymer having a (meth)acrylic acid-based structural unit, with a dispersity (weight-average molecular weight/number-average molecular weight) of no greater than 1.6, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator and a sensitizing dye.

107. 发明公开

KR1020130055682A 컬러 필터용 착색 조성물, 이것을 사용한 컬러 필터, 및 액정 표시 장치 有权
标题翻译：彩色滤色片的彩色组合物，使用其的彩色滤光片和液晶显示装置
公开(公告)号：KR1020130055682A
公开(公告)日：2013-05-28
申请号：KR1020137009394
申请日：2010-06-24
申请人： 토요잉크SC홀딩스주식회사 , 도판 인사츠 가부시키가이샤 , 도요컬러주식회사
发明人： 야마모토유이치 , 야마다유키 , 이와사키마리 , 요시다카요 , 카마다아츠코 , 무네우치켄지 , 하기와라히데사토 , 코바야시유카 , 이시마루요시코
IPC分类号： G02B5/20 , C09B47/04 , G03F7/004 , C09B67/20
CPC分类号： G03F7/0007 , C09B47/04 , C09B67/0064 , G02B5/223 , G02F1/133516 , G03F7/027 , G02B5/20 , G03F7/0041 , G03F7/031 , G03F7/033 , G03F7/0381
摘要： 적어도 할로겐화아연프탈로시아닌 안료를 포함하는 녹색 착색제와, 광중합성 모노머와, 수지와, 광중합 개시제와, 용제를 함유하여 이루어지는 감광성 착색 조성물. 이 광중합성 모노머는, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트에 다작용 이소시아네이트를 반응시켜 얻어지는 (메타)아크릴로일기를 갖는 우레탄기 수가 0.7×10
-3 mol/g 이상, 이중결합기 수가 4.5×10
-3 mol/g 이상의 다작용 우레탄 아크릴레이트를, 이 감광성 착색 조성물의 고형분을 기준으로 하여 15중량% 이상 45중량% 이하의 범위에서 함유하거나, 또는, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트를, 이 감광성 착색 조성물의 고형분을 기준으로 하여 10중량% 이상 25중량% 이하의 범위에서 함유한다. 또한, 이 감광성 착색 조성물은 이 감광성 착색 조성물을 사용하여 얻은 컬러 필터를 구비하는 액정 표시 소자의 전압유지율이 90% 이상이다.

108. 发明公开

KR1020130049836A 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성방법 및 프린트 배선판의 제조방법 无效
标题翻译：感光性树脂组合物，感光元件，电阻形成方法和制造印刷线路板的方法
公开(公告)号：KR1020130049836A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020137010400
申请日：2007-11-22
申请人： 히타치가세이가부시끼가이샤
发明人： 무라마츠유키코 , 미야사카마사히로 , 난카와하나코
IPC分类号： G03F7/031 , G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/031 , G03F7/004 , G03F7/0041 , G03F7/0047
摘要： 본 발명의 감광성 수지 조성물은, (A) 하기 일반식(I)로 표시되는 2가의 기와, 하기 일반식(II)로 표시되는 2가의 기와, 하기 일반식(III)으로 표시되는 2가의 기를 가지는 바인더 폴리머, (B) 광중합성 화합물, 및 (C) 탄소수가 1~5인 알콕시기를 적어도 1개 이상 가지는 헥사아릴비이미다졸 화합물을 포함하는 광중합개시제를 함유한다.
[화1]

[화2]

[화3]

[식(I), 식(II), 및 식(III) 중, R
1 , R
3 , 및 R
5 는 각각 독립하여 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R
2 및 R
4 는 각각 독립하여 탄소수 1~3의 알킬기, 알콕시기, OH기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m 또는 n은 각각 독립하여 0~5의 정수를 나타낸다.

109. 发明公开

KR1020130028006A 함불소 술폰산염 수지, 레지스트 조성물, 패턴 형성 방법, 중합성 함불소 술폰산염, 중합성 함불소 술폰산 및 중합성 함불소 술폰산오늄염의 제조 방법 有权
标题翻译：含氟磺酸盐，含氟磺酸盐树脂，耐酸性组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：KR1020130028006A
公开(公告)日：2013-03-18
申请号：KR1020120098241
申请日：2012-09-05
申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드
发明人： 모리가즈노리 , 나리즈카사토루 , 아메미야후미히로 , 후지와라마사키
IPC分类号： C08G75/24 , C08L81/08 , G03F7/004 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C309/10 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2601/18 , C07C2603/74 , C08F28/04 , C08F220/24 , C08F220/28 , C08F220/38 , C08F222/14 , C08F222/18 , C08F228/04 , C08F2220/382 , G03F7/004 , G03F7/0041 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2039 , G03F7/2041 , G03F7/30 , C07C303/22 , C08G75/24 , C08L81/08 , G03F7/202 , G03F7/26
摘要： PURPOSE: A perfluorinated sulfonic salt resin is able to express the high degree of sensitivity, the high resolution, the high reproducibility of mask pattern and the low line edge roughness by regularly including the region that has a mine file generation function and the region in which the solubility to the developing solution is changed by the reaction of acid. CONSTITUTION: A perflorinated sulfonic salt resin has the repetitive unit of following chemical formula 3. In the chemical formula 3, A is hydrogen, fluoride, or trifluoromethyl group, n is integer ranged from 1 to 10, W is a linker with two functional group, R^1 is acid labile group, M^+ is a cation with one functional group. The resist composition includes the perfluorinated sulfonate salt resin and a solvent. A pattern producing method comprises a process that spreads the resist composition on a circuit board; a process that exposes the resist composition in the light after heating treatment; and a process that developes the heated material after treating the light exposed material with heat when it is needed.
摘要翻译：目的：全氟化磺酸盐树脂通过定期地包括具有矿山文件生成功能的区域，能够表现出高度的灵敏度，高分辨率，掩模图案的高再现性和低的线边缘粗糙度，其中通过酸的反应来改变对显影液的溶解度。构成：一种经过磺化的磺酸盐树脂具有以下化学式3的重复单元。在化学式3中，A为氢，氟，或三氟甲基，n为1至10的整数，W为具有两个官能团 R ^ 1是酸不稳定基团，M ^ +是具有一个官能团的阳离子。抗蚀剂组合物包括全氟化磺酸盐树脂和溶剂。图案制造方法包括将抗蚀剂组合物铺展在电路板上的工艺; 在加热处理后使光刻胶组合物曝光的工序; 以及在需要时用热处理曝光材料后，开发加热材料的工艺。

110. 发明授权

KR101220865B1 통기성이 향상된 포장재의 제조방법 및 그 제조방법에 사용되는 전사 몰드의 제조방법 失效
标题翻译：生产具有增强膨胀性的包装材料的方法和以其方法生产转移模具的方法
公开(公告)号：KR101220865B1
公开(公告)日：2013-01-10
申请号：KR1020110093222
申请日：2011-09-16
申请人： 한국과학기술원
发明人： 이상은 , 이강원 , 김진하 , 임헌광 , 이승섭
IPC分类号： B29C59/02 , B29C33/38 , G03F7/00
CPC分类号： B29C33/38 , B29K2995/0065 , B29L2031/712 , C25D1/10 , C25D3/12 , G03F7/0041 , G03F7/70691
摘要： PURPOSE: A method for manufacturing a packing material with improved air permeability and a method for manufacturing a transfer mold used for the same are provided to easily form a fine structure with a needle shape for the transfer mold by wet etching for which the anisotropy of etching speed of water is used according to a crystallization direction. CONSTITUTION: A method for manufacturing a packing material with improved air permeability is as follows. A silicon wafer is prepared. An oxide film is formed on a surface of the silicon wafer. The oxide film is patterned by a photolithography process. The silicon wafer is wet-etched anisotropically by using different etching speeds according to a crystallization direction. The oxide film is removed. A metal layer grows on the surface of the silicon wafer. The metal layer is separated from the surface of the silicon wafer so that a transfer mold(6) is obtained. Patterns of the transfer mold are transferred on the packing material so that the air permeability of the packing material is improved.
摘要翻译：目的：制造具有改善的透气性的包装材料的制造方法和用于制造其的转移模具的制造方法，以通过湿式蚀刻容易地形成用于转印模具的针形的精细结构，其中蚀刻各向异性根据结晶方向使用水的速度。构成：具有改善的透气性的包装材料的制造方法如下。制备硅晶片。在硅晶片的表面上形成氧化膜。通过光刻工艺对氧化膜进行图案化。根据结晶方向，通过使用不同的蚀刻速度，各向异性地对硅晶片进行湿式蚀刻。去除氧化膜。金属层在硅晶片的表面上生长。金属层与硅晶片的表面分离，从而获得转印模具（6）。转印模具的图案转印在包装材料上，从而提高包装材料的透气性。

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