专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

101. 发明授权

KR100757341B1 실록산 화합물, 이를 포함하는 분자 포토레지스트 조성물및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：硅氧烷化合物，包括分子化合物的分子光电子组合物和形成图案的方法
公开(公告)号：KR100757341B1
公开(公告)日：2007-09-11
申请号：KR1020060109227
申请日：2006-11-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 윤효진 , 김재호 , 김영호 , 김부득 , 김도영
IPC分类号： C08G77/04 , C08G77/00 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0757 , C07F7/21 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/0755 , Y10S430/115 , Y10S430/122 , Y10S430/126 , Y10S430/146 , Y10S430/167
摘要： 실록산 화합물, 이를 포함하는 분자 포토레지스트 조성물 및 패턴 형성 방법에서, 상기 조성물은 실리콘 원자를 포함하는 실록산 화합물 8 내지 14 중량%와, 광산 발생제 0.1 내지 0.5 중량%와 여분의 유기 용매를 포함한다. 상기 분자 포토레지스트 조성물로 형성된 포토레지스트 패턴은 산소 플라즈마를 이용하여 마스크막을 식각할 경우 내식성이 우수하여 마스크 패턴이 형성되기 전에 손실되는 문제점이 발생하지 않는다.

102. 发明公开

KR1020070068825A 멀티 홉 릴레이 방식을 사용하는 통신 시스템에서 중계국선택 방법 및 시스템 有权
标题翻译：使用多路继电器方案选择通信中继站的方法和系统
公开(公告)号：KR1020070068825A
公开(公告)日：2007-07-02
申请号：KR1020050130853
申请日：2005-12-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강현정 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 임형규 , 손영문 , 홍송남 , 이성진 , 이미현 , 김영호
IPC分类号： H04B7/26 , H04B7/14
CPC分类号： H04W16/26 , H04B7/2606 , H04W40/12 , H04W40/22 , H04W48/16
摘要： A relay station selection method in a communication system using a multi-hop relay scheme and a system therefor are provided to enable a base station to transmit relay station information to a mobile station, so that the mobile station performs multi-hop relay communication with the base station through a relay station having a good channel state. A mobile station(350) receives relay station information capable of increasing system capacity from a serving base station(300)(302-306). The mobile station(350) measures reference signal strength of a relay station clearly stated in the relay station information(308). The mobile station(350) determines a relay station whose measured reference signal strength satisfies a preset condition as a relay station for relaying a signal(310).
摘要翻译：提供了使用多跳中继方案的通信系统中的中继站选择方法及其系统，以使得基站能够向移动台发送中继站信息，使得移动台与多跳中继方式进行多跳中继通信基站通过具有良好信道状态的中继站。移动站（350）从服务基站（300）接收能够增加系统容量的中继站信息（302-306）。移动站（350）测量在中继站信息（308）中清楚地表示的中继站的参考信号强度。移动站（350）确定其测量的参考信号强度满足预设条件的中继站作为用于中继信号的中继站（310）。

103. 发明公开

KR1020070064243A 포토레지스트 형성용 화합물, 이를 포함하는 저분자포토레지스트 조성물 및 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：形成光电元件的化合物，包括该化合物的光电组合物和形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020070064243A
公开(公告)日：2007-06-20
申请号：KR1020060105989
申请日：2006-10-31
申请人： 삼성전자주식회사 , 한국과학기술원
发明人： 김경미 , 김영호 , 김진백 , 오태환
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0045 , Y10S430/114 , Y10S430/128 , Y10S430/146
摘要： Provided are a compound for forming a photoresist, a low molecular photoresist composition comprising the same, which has higher etching resistance while maintaining advantages of conventional low molecular photoresist composition, and a method of forming a pattern by using the composition. The compound for forming a photoresist comprises one residue selected from the group consisting of cyclic residues represented by the formula(1), the formula(2), the formula(3) and the formula(4), and a residue represented by the formula(9), wherein the R is a tertiary butyl group or 1-tertiary butoxy ethyl group. The low molecular photoresist composition comprises 7-14 wt% of the above compound, 0.1-0.5 wt% of a photoacid generator and the balance of an organic solvent. In the composition, the photoacid generator is preferably at least one selected from the group consisting of triarylsulfonium salt, diaryliodonium salt, sulfonate and N-hydroxysuccinimide triflate.
摘要翻译：提供了一种用于形成光致抗蚀剂的化合物，包含该化合物的低分子光刻胶组合物，其具有较高的抗蚀刻性，同时保持了常规低分子光刻胶组合物的优点，以及通过使用该组合物形成图案的方法。用于形成光致抗蚀剂的化合物包括选自由式（1），式（2），式（3）和式（4）表示的环状残基的一个残基，以及由式（9），其中R是叔丁基或1-叔丁氧基乙基。低分子光刻胶组合物包含7-14重量％的上述化合物，0.1-0.5重量％的光酸产生剂和余量的有机溶剂。在组合物中，光酸产生剂优选为选自三芳基锍盐，二芳基碘鎓盐，磺酸盐和N-羟基琥珀酰亚胺三氟甲磺酸盐中的至少一种。

104. 发明公开

KR1020070049072A 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신시스템에서 이동 중계국의 핸드오버를 처리하기 위한 장치및 방법 有权
标题翻译：多路继电器宽带无线接入通信系统中移动移动台的切换装置及方法
公开(公告)号：KR1020070049072A
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：KR1020060108733
申请日：2006-11-06
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강현정 , 임형규 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 손영문 , 이성진 , 이미현 , 홍송남 , 김영호
IPC分类号： H04B7/26 , H04B7/14
CPC分类号： H04W4/08 , H04W36/04 , H04W88/04 , H04B7/14
摘要： 본 발명은 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 셀룰라 통신시스템에서 이동성을 갖는 중계국의 핸드오버를 처리하기 위한 장치 및 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 핸드오버 처리 방법은, 핸드오버가 필요한 경우, 상기 이동 중계국이, 하위 노드 정보를 포함하는 핸드오버 요청 메시지를 서빙 기지국으로 전송하는 과정과, 상기 핸드오버 요청 메시지 수신시, 상기 서빙 기지국이, 상기 이동 중계국이 핸드오버할수 있는 인접 노드들로부터 핸드오버 관련 정보를 수집하여 인접 노드 리스트를 구성하는 과정과, 상기 서빙 기지국이, 상기 인접 노드 리스트를 포함하는 핸드오버 응답 메시지를 상기 이동 중계국으로 전송하는 과정과, 상기 이동 중계국이, 상기 핸드오버 응답 메시지에 포함된 정보에 근거해서 핸드오버 타겟 노드를 결정하고, 상기 타겟 노드를 포함하는 핸드오버 지시 메시지를 상기 서빙 기지국으로 전송하는 과정을 포함한다. 이와 같은 본 발명은 상기 다중 홉 릴레이 시스템에서 이동성을 갖는 중계국의 핸드오버 방안을 제안함으로써, 상기 이동 중계국과 상기 이동 중계국의 서비스 영역에 포함되어 있는 하위 노드에게 통신 지속성을 보장할 수 있는 이점이 있다
릴레이 통신 시스템, 핸드오버, 이동 중계국

105. 发明公开

KR1020070042103A 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신시스템에서 단말의 요청에 의한 단말 핸드오버 지원 장치및 방법 失效
标题翻译：移动台支持移动台切换操作的装置和方法多移动终端宽带无线访问通信系统
公开(公告)号：KR1020070042103A
公开(公告)日：2007-04-20
申请号：KR1020060100730
申请日：2006-10-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강현정 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 임형규 , 손영문 , 이성진 , 이미현 , 김영호 , 홍송남
IPC分类号： H04B7/26 , H04L12/28
CPC分类号： H04W36/30 , H04W36/38 , H04W84/18
摘要： 본 발명은 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신 시스템에서 단말의 요청에 의한 단말 핸드오버 지원 장치 및 방법에 관한 것으로서, 인접 기지국들 및 인접 중계국들에 대한 신호 세기를 측정하여 핸드오버가 요구되는지 여부를 판단하는 과정과, 상기 핸드오버가 요구될 시, 서빙국으로 상기 단말이 추천하는 타겟 인접 노드 리스트 정보를 포함하는 핸드오버 요청 메시지를 전송하는 과정과, 상기 서빙국으로부터 상기 서빙국이 추천하는 타겟 인접 노드 리스트 정보를 포함하는 핸드오버 응답 메시지를 수신하는 과정을 포함하여, 상기 단말이 핸드오버할 타겟 노드를 선택하고 상기 타겟 노드를 통한 상기 단말의 데이터 송/수신을 지속적으로 수행할 수 있고, 타겟 노드가 될 수 있는 인접 노드에 대한 처리를 중계국에서 담당하는 방안을 제안함으로써 핸드오버 제어 메시지 송/수신에서 발생할 수 있는 지연을 줄일 수 있는 이점이 있다.
릴레이 통신 시스템, 핸드오버, 단말 요청

106. 发明授权

KR100698249B1 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신시스템에서 주변 기지국 정보 중계 장치 및 방법 有权
标题翻译：在使用多跳中继方案的宽带无线接入通信系统中的外围基站信息中继装置和方法
公开(公告)号：KR100698249B1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：KR1020050085447
申请日：2005-09-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이성진 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 임형규 , 강현정 , 홍송남 , 이미현 , 손영문 , 김영호
IPC分类号： H04B7/14
CPC分类号： H04W48/08 , H04B7/2606 , H04L27/2601 , H04W4/06 , H04W16/26 , H04W74/00 , H04W88/08
摘要： 본 발명은 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신 시스템에서 주변 기지국 정보 중계 장치 및 방법에 관한 것으로, 기지국 주변기지국 광고메시지를 셀 영역에 포함한 중계국으로 송신하는 기지국 및, 상기 기지국으로부터 수신한 상기 기지국 주변기지국 광고메시지에서 유효하지 않은 주변기지국 정보를 삭제하여 중계국 주변기지국 광고메시지로 재구성하여 상기 중계국의 셀 영역으로 방송하는 상기 중계국을 포함하는 다중 홉 릴레이 방식을 사용하는 광대역 무선 접속 통신 시스템에서 주변 기지국 정보 중계 장치 및 방법에 관한 것이다.
릴레이 통신 시스템, 중계국, 주변기지국 광고메시지, 서빙 기지국, 다중 홉 릴레이
摘要翻译：本发明涉及一种邻近基站信息使用多跳中继方案，从基站和用于发送基站邻近BS广告消息发送到中继站，包括小区区域的基站接收到的在宽带无线接入通信系统中的中继装置和方法通过删除不处于所述中继站接近使用多跳中继方案的基站通告消息，包括所述中继站广播到RS的小区区域重建的广告消息中可用的外围基站信息周围基站的宽带无线接入通信系统中的周围基站基站信息中继装置和方法。

107. 发明公开

KR1020070031173A 다중홉 릴레이 셀룰러 네트워크에서 다중 링크를 지원하기위한 장치 및 방법 无效
标题翻译：用于支持多路中继网络中的多链路的装置和方法
公开(公告)号：KR1020070031173A
公开(公告)日：2007-03-19
申请号：KR1020050085916
申请日：2005-09-14
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이미현 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 임형규 , 강현정 , 홍송남 , 손영문 , 이성진 , 김영호
IPC分类号： H04L12/28 , H04B7/26
CPC分类号： H04L27/2605 , H04B7/15542 , H04L5/0007 , H04L5/0032 , H04L5/0048 , H04W84/047 , H04B7/155
摘要： 다중 홉 릴레이 셀룰러 네트워크에서 직접 링크와 다중 홉 릴레이 링크를 하나의 프레임 내에서 전송하기 위한 프레임 구성 방법 및 장치에 관한 것으로서, 직접링크와 중계링크를 TDM 형태로 다중화하여 종래 하향 부프레임 내에 기지국 하향 부프레임과 중계기 상향 부프레임을 위치시킴으로써, 상기 하향 부프레임 내에서 중계기의 송수신을 위한 전송 갭(RS RTG)에 대한 오버헤드와 종래 상향 부프레임 내에서 중계기 하향링크 부프레임과 기지국 상향 링크 부프레임을 위치시킴으로써, 중계기의 송수신을 위한 전송 갭(RS TTG)에 대한 오버헤드를 없앨 수 있고, 각 링크의 부하량에 따라 부프레임 길이를 적응적으로 조절하면서도 기지국 하향 부프레임과 중계기 하향 부프레임의 시작을 프리앰블로 고정시킴으로써 MS의 초기동기, 핸드오프와 cell(RS) 검색 의 어려움을 동시에 해결할 수 있다. 또한 프레임 구조뿐만 아니라, 프레임구조를 부프레임으로 세분화한 후, 부프레임 내에서 다수 송신단을 위한 버스트를 할당할 수 있는 이점이 있다.
중계기, 다중 홉, 프레임 구조, 시간 가드 영역, 셀룰러 네트워크

108. 发明公开

KR1020070005420A 이동 통신 시스템에서 기지국과 이동국간의 상태 동기화를 위한 시스템 및 방법 有权
标题翻译：宽带无线接入通信系统中基站与移动站之间状态同步的系统与方法
公开(公告)号：KR1020070005420A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：KR1020050060945
申请日：2005-07-06
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 손영문 , 장홍성 , 주판유 , 손중제 , 조재원 , 이미현 , 강현정 , 홍송남 , 이성진 , 임형규 , 김영호
IPC分类号： H04W56/00
CPC分类号： H04W76/028 , H04L1/0028 , H04L5/0053 , H04L5/0094 , H04W76/19
摘要： A system and method for the state synchronization between a base station and a mobile station in a BWA(Broadband Wireless Access) communication system are provided to enable an MS(Mobile Station) to match state synchronization with a BS(Base Station) as the BS, in case that the CPU is reset, sends a changed reset count value to the MS and the MS executes network re-entry procedures after comparing the present reset count value with the previous reset count value. A base station periodically transmits a downlink frame containing DLFP(Downlink Frame Prefix) information to an MS(702,704). Whenever DLFP information is received, the MS extracts a reset count value and compares the extracted present reset value with a previously stored old reset count value(706). If a CPU of the BS is reset(708), the BS increases the reset count value by 1(710). Then, the BS transmits DLFP information containing the increased reset count value to the MS(712). At this time, the MS compares the present reset count value contained in the received DLFP information with a previously stored old reset count value(714). If it is judged that the two values are different, the MS, recognizing that the CPU of the BS has been reset, executes network re-entry procedures for state synchronization with the BS(716).
摘要翻译：提供了一种用于在BWA（宽带无线接入）通信系统中的基站与移动台之间的状态同步的系统和方法，以使得MS（移动站）能够将与BS（基站）的状态同步作为BS 在CPU复位的情况下，向MS发送改变的复位计数值，并且在将当前复位计数值与先前复位计数值进行比较之后MS执行网络重入程序。基站周期性地将包含DLFP（下行链路帧前缀）信息的下行链路帧发送到MS（702,704）。每当接收到DLFP信息时，MS提取复位计数值，并将提取的当前复位值与先前存储的旧复位计数值进行比较（706）。如果BS的CPU被重置（708），则BS将复位计数值增加1（710）。然后，BS向MS发送包含增加的复位计数值的DLFP信息（712）。此时，MS将接收的DLFP信息中包含的当前复位计数值与先前存储的旧复位计数值进行比较（714）。如果判断出两个值不同，则认识到BS的CPU已被复位的MS执行用于与BS进行状态同步的网络重入程序（716）。

109. 发明公开

KR1020070000064A 에이알에프 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 플로우용에이알에프 포토레지스트 콘택홀 패턴 형성 방법 无效
标题翻译： ARF光电组合物和使用ARF光电组合物形成ARF光电接触孔图案的方法
公开(公告)号：KR1020070000064A
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：KR1020050055504
申请日：2005-06-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 한석 , 윤상웅 , 김영호 , 윤은영
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/00
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045
摘要： ArF photoresist composition for patterning ArF photoresist contact hole is provided to control flowing amount of the photoresist during the flowing process, and give ArF photoresist contact hole pattern with microfine width by comprising photosensitive resin containing blocking groups for inducing hydrogen bonds. The composition includes: 10 to 15wt.% of photosensitive resin containing first and second blocking groups to induce hydrogen bonds; 1 to 1.5wt.% of photoacid generator that reacts with light and produces acid; and 83.5 to 89wt.% of organic solvent. The first blocking group includes acetal group and tertiary alcoxy carbonyl group. The second blocking group includes adamantyl group, lacton group and hydroxyl group. Amounts of the first blocking group range from 1 to 2wt.% relative to total weight of the blocking groups.
摘要翻译：提供用于图案化ArF光致抗蚀剂接触孔的ArF光致抗蚀剂组合物以控制流动过程中光致抗蚀剂的流动量，并通过包含含有用于诱导氢键的封闭基团的感光树脂，给出具有超细宽度的ArF光刻胶接触孔图案。该组合物包括：10至15重量％的含有第一和第二封闭基团以感应氢键的光敏树脂; 1至1.5重量％的光反应产生剂与光反应并产生酸; 和83.5〜89重量％的有机溶剂。第一个封闭基团包括缩醛基和叔烷氧基羰基。第二个封闭基团包括金刚烷基，内酯基和羟基。第一封闭基团的量相对于封闭基团的总重量为1至2重量％。

110. 发明授权

KR100660160B1 터널링 절연층 상에 형성된 고분자 박막 내의 나노결정체를이용한 플로팅 게이트를 포함하는 플래쉬 기억소자 有权
标题翻译：闪存器件包括使用嵌入在隧道绝缘层上形成的聚合物中的纳米晶体的浮动栅
公开(公告)号：KR100660160B1
公开(公告)日：2006-12-21
申请号：KR1020050030219
申请日：2005-04-12
申请人： 한양대학교 산학협력단 , 삼성전자주식회사
发明人： 김태환 , 김영호 , 김재호 , 정재훈
IPC分类号： H01L27/115 , B82Y10/00
摘要： 터널링 절연층 위에 고분자 박막 내에 자발형성된 Ni
1-x Fe
x (0 1-x Fe
x 를 스퍼터링하는 단계, 상기 스퍼터링된 Ni
1-x Fe
x 층 상에 절연체 고분자 단량체를 포함하는 산성 전구체를 용매에 녹여 스핀 코팅하고 잔여 용매를 제거하는 단계 및 상기 코팅된 고분자 물질 내부에서 Ni
1-x Fe
x 나노결정체가 형성되도록 상기 고분자 물질에 열을 가하는 단계를 포함하는 플래쉬 메모리 소자의 제조방법에 따르면 Ni
1-x Fe
x 나노결정체의 크기와 밀도의 조절이 용이하며 이를 통하여 나노 플로팅 게이트의 성능을 향상시킬 수 있다.
플래시 메모리, 나노결정체, 플로팅 게이트, 고분자 박막, 터널링 절연층

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式